技術編號：2894006
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及一種用于進行電子束光刻(electron beam lithography)的方法。本 發明還涉及一種相應的計算機程序產品。背景技術在光學光刻中，由光學方法可合理形成的最小點到達極限后，電子束光刻得到發 展。電子束光刻能夠在晶片上的能量敏感性抗蝕劑(energy sensitive resist)上記錄極 小的凹槽/槽溝(pit/groove)，以用于光學或電子的應用。US2003155532公開了一種用于電子束光刻的裝置，其中使用較小的束強度可...
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