技術編號：2791990
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明屬于光學檢測，具體涉及一種。背景技術隨著光刻分辨力的提高，要求光刻機投影物鏡的殘留波像差也越來越小。ASML、 Canon及Mkon三大公司在加工、集成光刻機投影物鏡時，直接利用高精度位相測量干涉儀 (Phase Measurement hterferometer，簡稱PMI)，如泰曼-格林干涉儀、菲索干涉儀對光刻機投影物鏡的殘留波像差進行檢測。但是，實際中由于運輸、裝配等因素的影響，光刻機投影物鏡波像差將發生改變而超出殘留波像差值，此時光刻機投影物...
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