技術編號：2741386
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及液晶顯示技術，尤其涉及一種。 背景技術薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-IXD)中光刻膠涂布是一個非常重要的工藝步驟，現 有技術中光刻膠涂布方式主要有兩種，一種是旋轉涂布(spin)方式，另一種是裂縫涂布 (slit)方式。旋轉涂布方式的過程為首先在基板上涂布厚度大于目標厚度的光刻膠，然后高 速旋轉基板，使得基板之上的光刻膠分布均勻，并且使得光刻膠的厚度減小到目標厚度。這 種涂布方式存在的問題在于由于預先涂布的光刻膠的厚度大于目標厚度，所以會造成光 ...
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