技術編號：2729320
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及高分辨微細圖形的投影光刻系統，特別涉及一種全息消像差方法及其投 影光刻系統。背景技術投影光刻成像技術是利用包含掩模版調制信息的一束光經投影物鏡倍縮后，在涂有 抗蝕劑的基片表面產生特定的強度分布，對抗蝕劑曝光產生與掩模圖形形狀相同、尺寸 縮小的圖形。實現圖形的高保真度對投影物鏡乃至整體曝光系統都提出了極高的要求。 減小投影物鏡的像差是提高保真度的最直接的手段。現有對投影物鏡像差的控制策略有 兩種， 一是在設計制作和裝配過程中盡量減少像差，這對設計和...
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