技術編號：2726458
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及光刻系統，更特別是涉及用于光學浸沒光刻的該系統的結 構和處理。背景技術^半導體工業所必需的一個條件為在集成電路(IC)上印刷更小特 征的能力。但是，近來光刻術面臨幾個可阻礙半導體技術進一步t艮的挑 戰。已經對例如X-輻射光刻術和電子束光刻術的技術進行了投入，以作 為傳統光刻術的替換。但是，光學浸沒光刻得到了關注，其可能滿足印刷 更小尺寸特征的改進半導體技術的需要。由下式確定可以采用光刻系統印刷的最小特征的尺寸W公式1 W = kiA7nsina;...
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