技術編號：2725690
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及光刻，尤其涉及一種采用自由曲面透鏡實現離軸照明的光刻 曝光裝置。背景技術光刻是推動半導體工業迅速發展的一項關鍵技術，它通過曝光裝置和光刻投影物 鏡將掩膜上的集成電路的結構圖形復制到涂有光刻膠的硅片上。在光刻曝光裝置中，可通 過采用分辨率增強技術(如離軸照明)來提高光刻分辨率和改善焦深，因此光刻曝光裝置 的性能決定著投影光刻系統的性能。光刻曝光裝置一般包括光束擴束器、光束整形器、變焦光學系統、光學積分器和 中繼光學系統幾個主要部分，其中光束整形器用...
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