技術(shù)編號(hào)：2710570
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種基于多次迭代刻蝕技術(shù)的透射型光學(xué)元件損傷閾值提升方法，該方法包括以下步驟采用高濃度氫氟酸溶液對(duì)光學(xué)元件進(jìn)行快速刻蝕，刻蝕深度為d1；利用環(huán)形拋光機(jī)對(duì)光學(xué)元件進(jìn)行快速拋光，拋光去除深度為d2；光學(xué)元件在300度高溫下烘烤，然后利用離子源對(duì)光學(xué)元件表面進(jìn)行轟擊刻蝕，刻蝕深度為d3；再次低速拋光處理，拋光去除深度為d4；再次利用離子源對(duì)光學(xué)元件表面進(jìn)行轟擊刻蝕，刻蝕深度為d5。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有針對(duì)性強(qiáng)、重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)，通過多次迭代刻蝕，特...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。