技術編號：2698266
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。提供一種掩模以及包括該掩模的濾光器制造設備。一種用于在基膜中形成圖案的卷對卷工藝的掩模，所述基膜被配置成沿彎曲表面移動，所述掩模包括掩模體，所述掩模體具有被設置成與所述基膜所纏繞的輥相對的彎曲表面以及與所述彎曲表面的相反側(cè)相對應的平表面。所述掩模體的所述彎曲表面被設置成與所述輥的彎曲表面相距預定距離。所述掩模和濾光器制造設備能夠?qū)崿F(xiàn)在所述基膜上形成均勻圖案，以提高產(chǎn)品的質(zhì)量，并精確地獲得所述基膜的性質(zhì)。專利說明掩模和包括該掩模的濾光器制造設備[0001]本...
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