技術編號:1949018
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及多孔氮化硅陶瓷的制備方法,尤其涉及一種基于滲硅氮化制 備無晶界相多孔氮化硅陶瓷的方法。背景技術多孔氮化硅具有高耐磨性、高耐應變性和耐損傷性等優異的機械性能, 可以應用于高低溫下過濾器、催化劑載體和生物反應器,以及復合材料的增 強相等各個領域中。多孔氮化硅還具有良好的熱穩定性、較低的介電常^、 低介電損耗、高耐沖蝕性能,被視為最有希望的新一代透波材料。氮化硅是 強共價鍵化合物,其自擴散系數很小,致密化所必須的體積擴散及晶界擴散 速度很小,同時它的晶...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發人員的辛勤研發付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業用途。
該專利適合技術人員進行技術研發參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。