技術(shù)編號(hào)：11955668

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本發(fā)明涉及干法刻蝕技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板溫度監(jiān)測(cè)裝置、干刻設(shè)備及基板溫度監(jiān)測(cè)方法。背景技術(shù)干法刻蝕(DryEtch)工藝是TFT-LCD(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，薄膜晶體管液晶顯示器)領(lǐng)域中不可或缺的工藝，干法刻蝕工藝的主要作用是去除基板上薄膜的一部分，以在薄膜中形成所需要的圖形。進(jìn)行干法刻蝕工藝所使用的干刻設(shè)備主要包括：刻蝕腔室，如圖1所示，刻蝕腔室的下部設(shè)置有用于放置基板2的基臺(tái)4，基臺(tái)4的上表面具有多個(gè)凸起狀的下部電極1，刻蝕腔室的...
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