技術編號：11581118
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本申請半導體光刻技術領域，特別是涉及一種新型的UVLED曝光光源均勻性實時測試系統。背景技術曝光機是通過照明系統將掩模上的圖形轉移到掩模下方的菲林上，然后通過腐蝕或者刻蝕，將菲林上的圖形轉移到基片上，完成產品的制作。曝光面的照度均勻性是保證曝光面上曝光量一致性的一項重要指標。目前曝光面的照度均勻性采用單個探頭采集多個點的照度計算得到，需人工進行多次測量計算，測量計算過程繁瑣，測量值隨每次取點位置的變化而變化，測量值隨機誤差大，很難得到準確的曝光面均勻度。而且技術人員在儀器曝光面均勻度調試過程中，...
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