技術編號：11581105
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及一種對光掩模相關基板進行清洗處理的基板清洗裝置以及基板清洗方法。背景技術以往，作為對光掩模相關基板進行清洗的裝置，已知有回旋方式的基板清洗裝置。這種基板清洗裝置可以通過保持構件將基板設置在保持臺上，并且使保持的基板旋轉，并向其旋轉中心供給所需要的液體，來對基板進行清洗。對基板進行清洗后，利用使保持臺以高速旋轉而產生的離心力對基板進行回旋干燥。回旋干燥后，使保持臺的旋轉停止，從保持臺搬出基板。一般來說，使基板旋轉以獲得離心力時，圓形基板穩定，但半導體基板、液晶顯示面板用玻璃基板、半導體制...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發人員的辛勤研發付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業用途。
該專利適合技術人員進行技術研發參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。