技術編號：11507200
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及一種真空鍍膜襯底底座，屬于真空鍍膜裝置技術領域。背景技術真空鍍膜裝置被廣泛應用于各種平面鍍膜領域，但是對于立體異形結構的鍍膜，往往需要復雜的襯底旋轉、翻轉等復雜機構的支持，現有的真空鍍膜襯底底座難以實現這一要求。發明內容本發明所要解決的技術問題是克服現有技術的缺陷，提供一種真空鍍膜襯底底座，可使襯底底座在加工過程中能夠旋轉、翻轉，達到改善真空鍍膜工藝對非平面結構的臺階覆蓋率，尤其是深孔鍍膜情況下的改善深孔內壁膜厚均勻性。為解決上述技術問題，本發明提供一種真空鍍膜襯底底座，包括襯底托盤、...
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