技術編號：11230728
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明的實施例涉及半導體領域，更具體地涉及用于多重圖案化技術的設計規則檢查的方法和系統。背景技術為了使用滿足更大的技術節點的制造設備，已經開發了多重曝光或多重圖案化技術(MPT)。MPT涉及通過順序使用多個不同的掩模來形成圖案。MPT類似于對于圖形理論中的布局劃分的著色問題的布局劃分方法。發明內容本發明的實施例提供了一種用于多重圖案化技術的設計規則檢查的方法，包括：確定是否存在表示集成電路(IC)的布局的多重圖案化的圖案的至少五個鄰近的圖案中的任意兩個之間的每一個間隔都小于閾值間隔的沖突圖形；以...
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