技術編號：11152930
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及基板制造領域，特別是涉及一種處理基板表面碳化光阻的方法及裝置。背景技術目前業界LTPS中存在多次離子植入，主要包含N+/P+離子植入。離子植入使得表面的光阻碳化。目前業界普遍的做法為，使用干蝕刻機臺通入O2在RF電極作用下清除表面碳化的光阻，但實際在使用過程也存在著兩點問題：1)使用干蝕刻機臺，對于LTPS的產能損失較大，且花費很高；2)使用干蝕刻機臺，若調試不佳，無法有效的清除PR表面碳化光阻。發明內容本發明主要解決的技術問題是提供一種處理基板表面碳化光阻的方法及裝置，能夠有效的清除...
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