技術編號：11100437
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發明涉及ICP裝置技術領域，具體涉及一種半導體加工設備。背景技術在感應耦合等離子體刻蝕過程中，法拉第屏蔽裝置被用于提高射頻耦合的均一性。現有技術中，法拉第屏蔽裝置的樣式多種多樣，在設計法拉第屏蔽裝置的樣式時主要考慮以下三點：（1）、屏蔽率容易調整，這樣有助于尋找最適宜的參數；（2）、法拉第屏蔽裝置作為圓柱形陶瓷窗的主要支撐部件及真空密封組件，但是由于陶瓷材料的易脆性，因此，如何有效結合這兩項功能顯得尤為重要；（3）、法拉第屏蔽裝置設置在圓柱形陶瓷窗和線圈組件之間，線圈組件需要經常改變和替換，因...
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