技術編號：10879140
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。在面板產業中，濕式制程的發展已經相當成熟。然而現有濕式制程機臺中，使用上具有維修困難、耗液量大、均勻性不佳、漏夜、及背面臟污等等問題，上述問題在細線寬(fine pitch)的情況下特別嚴重。上述背面臟污的問題大部分的原因是支撐一基板并移動該基板的滾輪所造成，對于超薄基板而言，常常需要用到數以千計的滾輪，使用數量龐大的滾輪除了價格高昂之外，也不利于維護保養，甚至會在基板的背面(即與滾輪接觸的一面)形成滾痕(roller mark)。再者，現有立體(3D)封...
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