技術編號：10804928
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。離子束薄膜沉積和離子束材料改性技術是材料科學的一個重要分支，離子束技術的研究和推廣取得了巨大的成就。目前，離子源的種類很多，Kaufman(考夫曼)離子源是使用較為廣泛的對薄膜進行離子束轟擊的裝置，該裝置的基本工作原理為首先由陰極在離子源內腔產生等離子體，然后由兩層或三層陽極柵格將離子從等離子腔體中抽取出來，這種離子源產生的離子方向性強，離子能量帶寬集中，可廣泛應用于真空鍍膜中。原有考夫曼電源的缺點在于鎢絲陰極易熔斷，陰極電流波動大，不易控制。發明內容為解...
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