技術編號：10747276
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。離子注入技術是近30年來在國際上蓬勃發展和廣泛應用的一種材料表面改性高新技術，已經在半導體材料摻雜，金屬、陶瓷、高分子聚合物等的表面改性上獲得了極為廣泛的應用，取得了巨大的經濟效益和社會效益。在電子工業中，離子注入成為了微電子工藝中的一種重要的摻雜技術，在當代制造大規模集成電路中，可以說是一種必不可少的手段。離子注入目前都采用二維掃描控制裝置控制掃描輸出，掃描方式有電掃描晶片固定，水平與垂直方向都采用電子束掃描;機械掃描束流固定，晶片運動;混合掃描水平方向...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發人員的辛勤研發付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業用途。
該專利適合技術人員進行技術研發參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。