技術編號：10612099
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。大面積高精度的納米壓印模版的制作費用昂貴，如何降低模版制作成本一直是人們研究的問題，為此，1999年，Willson等開發了步進-閃光紫外壓印技術。通常納米壓印只能復制與模版區域大小一致的結構，步進-閃光紫外壓印用一個很小面積的納米壓印模版，通過多次壓印，移動對準拼接，實現大面積納米結構的復制。步進-閃光紫外壓印存在拼接精度不足的問題，這是由于壓印過程中會排擠出多余的光刻膠，在壓印圖形區域外會有無效區域，在下一次壓印時，就會造成較大的拼接縫，這是通過提高對...
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