技術編號：10548849
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。濺射設備是設計用于在平板建筑玻璃上鍍制低輻射膜、低輻射太陽膜以及陽光控制膜，玻璃板由水平輸送系統傳送至鍍膜室進行處理，鍍膜室頂端設置有靶材機構，傳統的鍍膜是利用靶材機構直接將靶材粒子濺射至玻璃板上，由于靶材機構的濺射范圍較大，如果不能控制靶材機構的濺射范圍，會導致處于濺射范圍邊緣的粒子也沉積在玻璃板上，導致玻璃板上的鍍膜效果下降。發明內容本發明的目的是提供一種濺射鍍膜機構，解決了傳統的濺射鍍膜機構不能控制其靶材的濺射范圍，使得濺射不集中，影響玻璃板鍍膜質量...
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