技術編號：10529220
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。鉬的高熔點、高電導率、較低的比阻抗、較好的耐腐蝕性以及良好的環保性能，因此，鉬濺射靶材是一種具有高附加值的特征電子材料，在電子行業中鉬濺射靶材主要用于平面顯示器、薄膜太陽能電池的電極和配線材料以及半導體的阻擋層材料。隨著電子行業綜合性能和使用環境要求的提高，未來對于電子行業用濺射靶材的要求也會越來越高。目前，Fro用主導靶材還是高純鉬靶，與純鉬靶材相比，在鉬中添加一定比例的Nb、Na等兀素可使液晶顯不的像素有所提尚，使顯屏尚清晰度、尚?目息容量、尚分辨能力...
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