技術編號：10499528
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。近年來，以ArF準分子激光和200nm以下波長自由電子激光為代表的深紫外光學應用得到了日益的重視，并獲得了長足的發展。尤其是ArF準分子193nm激光，其在包括材料精細微加工、深紫外光刻、材料處理、激光打標等在內的激光工業應用，準分子激光醫療，以及科學研究等諸多領域都獲得了十分廣泛重要的應用，深紫外光學相關技術的研究具有重大社會和經濟價值。深紫外激光光學系統與應用的不斷發展對深紫外光學薄膜元件性能及長期穩定性要求都提出了新的挑戰。深紫外光學薄膜研究面臨的根...
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