一種新型共模抑制濾波器的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及微電子技術領域，具體說是一種新型共模抑制濾波器。
【背景技術】
[0002]隨著電子技術的發展，一些不必要的電磁輻射以及寄生效應，與數據傳輸率及工作頻率同步增長。電纜和數據設備接口所引入的放射噪聲甚至會影響到整個系統的性能。因此，EMC器件的作用越發顯得重要。
[0003]常規意義上的濾波器主要是選頻器件，EMC共模濾波器主要作用則是濾除噪聲；用在傳統的家電，通信及便攜電子產品，市場規模數以億計。
[0004]現有的共模抑制濾波器存在著結構設計不合理，濾波器過濾效果差的問題。【實用新型內容】
[0005]針對現有的問題，本實用新型設計了一種新型共模抑制濾波器，以解決現有濾波器結構設計不合理，濾波效果差的問題。
[0006]本實用新型的技術方案是:該濾波器為三層夾心結構，三層夾心結構中間層為陶瓷層，陶瓷層的上下兩層為鐵氧體層，陶瓷層內設有耦合線組，耦合線組包括層疊放置的上耦合線和下耦合線，上耦合線和下耦合線為螺旋排布結構，耦合線組上層和下層設有引出端，上耦合線和下耦合線的線徑大小為30μπι-50μπι，上耦合線和下耦合線的螺旋線線距大小為2 0μηι-40μηι，上親合線和下親合線之間的層距大小為15μηι-5 Ομπι。
[0007]本實用新型的有益效果是:本實用新型的新型共模抑制濾波器，具有結構設計合理，濾波效果好的特點。
【附圖說明】
[0008]圖1為本實用新型濾波器的外觀圖。
[0009]圖2為本實用新型濾波器的立體圖透視圖。
[0010]圖3為本實用新型濾波器的剖視圖。
[0011]圖4為本實用新型濾波器另一方向的剖視圖。
【具體實施方式】
[0012]下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步說明。
[0013]如圖1-4所示:本實用新型的該濾波器為三層夾心結構，三層夾心結構中間層為陶瓷層2，陶瓷層2的上下兩層為鐵氧體層1、鐵氧體層3，陶瓷層2內設有耦合線組，耦合線組包括層疊放置的上耦合線4和下耦合線5，上耦合線4和下耦合線5為螺旋排布結構，耦合線組上層和下層設有引出端7和引出端6。
[0014]上耦合線4和下耦合線5的線徑大小為30μπι-50μπι，上耦合線4和下耦合線5的螺旋線線距大小為20μηι-40μηι，上親合線4和下親合線5之間的層距大小為15μηι-50μηι。
[0015]厚度上，目前流延線距小大為最小為40μπι，而本實用新型的濾波器線距小大可達到最小20μηι。
[0016]結構上本實用新型采用新型的共模抑制濾波器結構，從而具有相當大的電感量，對共模電流起到抑制作用。
[0017]以上僅是本實用新型的優選實施方式，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本本實用新型原理的前提下，還可以做出若干改進，這些改進也應視為本本實用新型的保護范圍。
【主權項】
1.一種新型共模抑制濾波器，其特征在于所述濾波器為三層夾心結構，三層夾心結構中間層為陶瓷層，陶瓷層的上下兩層為鐵氧體層，所述陶瓷層內設有耦合線組，所述耦合線組包括層疊放置的上耦合線和下耦合線，所述上耦合線和下耦合線為螺旋排布結構，所述耦合線組上層和下層設有引出端，所述上耦合線和下耦合線的線徑大小為30μπι-50μπι，上耦合線和下耦合線的螺旋線線距大小為20μπι-40μπι，上耦合線和下耦合線之間的層距大小為15um-50umo
【專利摘要】本實用新型涉及一種新型共模抑制濾波器，該濾波器為三層夾心結構，三層夾心結構中間層為陶瓷層，陶瓷層的上下兩層為鐵氧體層，陶瓷層內設有耦合線組，耦合線組包括層疊放置的上耦合線和下耦合線，上耦合線和下耦合線為螺旋排布結構，耦合線組上層和下層設有引出端，上耦合線和下耦合線的線徑大小為30μm-50μm，上耦合線和下耦合線的螺旋線線距大小為20μm-40μm，上耦合線和下耦合線之間的層距大小為15μm-50μ。本實用新型的新型共模抑制濾波器，具有結構設計合理，濾波效果好的特點。
【IPC分類】H01P1/203
【公開號】CN205303632
【申請號】
【發明人】金姣, 唐雄心
【申請人】嘉興職業技術學院
【公開日】2016年6月8日
【申請日】2016年1月18日