一種區塊掩模板結構的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種區塊掩模板結構。
【背景技術】
[0002]現有全彩主動有機發光二極體顯示屏生產中，金屬掩模直接影響蒸鍍品質，而在金屬掩模板制造過程中，區塊金屬掩模板總有許多設計如半蝕刻區與緩沖區設計是為了使張力更加平均施力，但區塊金屬掩模板在制造上往往有無法區別管理的問題，故希望設計一種區塊掩模板結構，能實現張力分散與管理訊息合并的要求。
【實用新型內容】
[0003]針對上述問題，本實用新型提供一種區塊掩模板結構，以實現張力分散與識別管理的功能。
[0004]為了實現上述目的，本實用新型的技術方案如下:
[0005]區塊掩模板結構，其特征在于，包括掩模板本體，所述掩模板本體上設置有半蝕刻區與緩沖區，所述緩沖區位于半蝕刻區的外側，在所述半蝕刻區或緩沖區設置有起張力分散與識別管理作用的二維條碼。
[0006]在本實用新型的一個優選實施例中，所述二維條碼設置在所述半蝕刻區。
[0007]在本實用新型的一個優選實施例中，所述二維條碼設置在所述緩沖區。進一步，所述二維條碼的寬度與緩沖區的寬度一致。
[0008]在本實用新型的一個優選實施例中，所述二維條碼設置在緩沖區的中部位置。或者，所述二維條碼設置在緩沖區的端部位置。
[0009]本實用新型通過在所述半蝕刻區或緩沖區設置二維條碼的技術解決方案，既實現了張力均勻分散，不容易產生皺折，又通過二維條碼方便管理。
[0010]本實用新型的特點可參閱本案圖式及以下較好實施方式的詳細說明而獲得清楚地了解。
【附圖說明】
[0011]圖1為本實用新型在實施例1中的示意圖。
[0012]圖2為圖1的張力分布示意圖。
[0013]圖3為現有技術的不意圖。
[0014]圖4為圖3的張力分布示意圖。
[0015]圖5為本實用新型在實施例2中的示意圖。
[0016]圖6為本實用新型在實施例3中的示意圖。
【具體實施方式】
[0017]為了使本實用新型實現的技術手段、創作特征、達成目的與功效易于明白了解，下面結合具體實施例進一步闡述本實用新型。
[0018]實施例1
[0019]參見圖1和2，一種區塊掩模板結構，包括掩模板本體10，掩模板本體上設置有半蝕刻區11與緩沖區12，緩沖區12位于半蝕刻區11的外側，在緩沖區12的中部位置設置有起張力分散與識別管理作用的二維條碼13。優選二維條碼13的寬度與緩沖區12的寬度一致。在其它實施例中，二維條碼13的寬度也可以根據實際需要通過模擬來確定。參見圖3和圖4，與現有的區塊掩模板結構相比，現有技術中的緩沖區12的圖案有序排列，造成張力不利完全分散(參見圖4中的箭頭所示的張力分布示意圖)，容易產生皺折;而本申請中通過設置二維條碼13，使張力分散均勻(參見圖2中的箭頭所示的張力分布示意圖)，且通過二維條碼兼容管理功能。
[0020]實施例2
[0021 ]參見圖5，一種區塊掩模板結構，包括掩模板本體10，掩模板本體10上設置有半蝕刻區11與緩沖區12，緩沖區12位于半蝕刻區11的外側，在半蝕刻區11設置有起張力分散與識別管理作用的二維條碼14。
[0022]實施例3
[0023]參見圖6，一種區塊掩模板結構，包括掩模板本體10，掩模板本體上設置有半蝕刻區11與緩沖區12，緩沖區12位于半蝕刻區11的外側，在緩沖區12的端部位置設置有起張力分散與識別管理作用的二維條碼15。
[0024]以上顯示和描述了本實用新型的基本原理、主要特征和本實用新型的優點。本行業的技術人員應該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是本實用新型的原理，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型的范圍內。本實用新型要求的保護范圍由所附的權利要求書及其等同物界定。
【主權項】
1.區塊掩模板結構，其特征在于，包括掩模板本體，所述掩模板本體上設置有半蝕刻區與緩沖區，所述緩沖區位于半蝕刻區的外側，在所述半蝕刻區或緩沖區設置有起張力分散與識別管理作用的二維條碼。2.根據權利要求1所述的區塊掩模板結構，其特征在于，所述二維條碼設置在所述半蝕刻區。3.根據權利要求1所述的區塊掩模板結構，其特征在于，所述二維條碼設置在所述緩沖區。4.根據權利要求3所述的區塊掩模板結構，其特征在于，所述二維條碼的寬度與緩沖區的寬度一致。5.根據權利要求3所述的區塊掩模板結構，其特征在于，所述二維條碼設置在緩沖區的中部位置。6.根據權利要求3所述的區塊掩模板結構，其特征在于，所述二維條碼設置在緩沖區的端部位置。
【專利摘要】本實用新型公開了一種區塊掩模板結構，包括掩模板本體，所述掩模板本體上設置有半蝕刻區與緩沖區，所述緩沖區位于半蝕刻區的外側，在所述半蝕刻區或緩沖區設置有起張力分散與識別管理作用的二維條碼。本實用新型通過在半蝕刻區或緩沖區設置二維條碼的技術解決方案，既實現了張力均勻分散，不容易產生皺折，又通過二維條碼方便管理。
【IPC分類】C23C14/04
【公開號】CN205295445
【申請號】
【發明人】余國正
【申請人】上海和輝光電有限公司
【公開日】2016年6月8日
【申請日】2016年1月8日