用于曝光機的雙玻璃曬架的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及曝光機設備領域，具體涉及用于曝光機的雙玻璃曬架。
【背景技術】
[0002]曝光是印制電路板制作工藝流程的一個重要部分。曝光過程是先把底片對位，貼在經過壓附后的鍍銅版上面，再放入曝光機的曬架中抽真空，使底片和鍍銅板上的膜面緊密地貼合在一起，然后使曬架進入曝光室，用紫外線對底片進行曝光。把底片的圖形轉移到鍍銅板上。印制板的質量、精度等問題都取決于曝光的好壞。
[0003]傳統曝光機的玻璃一邁拉曬架在生產過程中需要人工趕氣，邁拉膜需要經常更換，生產成本高、效率低，已不能滿足高效率、高質量生產的需要。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型的目的是解決以上缺陷，提供用于曝光機的雙玻璃曬架，其能能提高工作效率，降低成本。
[0005]本實用新型的目的是通過以下方式實現的:
[0006]用于曝光機的雙玻璃曬架，包括上層曬架和下層曬架，上層曬架與下層曬架的一端通過鉸鏈進行連接，上層曬架與下層曬架的兩側設有兩個用于撐開上層曬架的支氣撐，使上層曬架與下層曬架之間能夠進行活動打開與閉合，上層曬架由上框架和安裝在上框架中端的上玻璃構成，上玻璃的兩端通過可活動的夾具進行固定，夾具連接有微調軸承，微調軸承上安裝有用于檢測精度的位移傳感器，上玻璃的底面邊緣設有上層膨脹密封圈，下層曬架由下框架和安裝在下框架中端的下玻璃構成，下框架的邊緣設有用于安裝下玻璃的圓形凹槽，在該圓形凹槽內設有橡膠密封圈，下玻璃固定壓在橡膠密封圈上，使下玻璃與橡膠密封圈緊密貼合，下玻璃的頂面邊緣設有與上層膨脹密封圈配對貼合的下層膨脹密封圈，上層膨脹密封圈與下層膨脹密封圈均連接有用于調節氣壓的真空連接口，該真空連接口上設置有氣壓感應器，上玻璃與下玻璃均為浮法玻璃，上玻璃與下玻璃密封貼合后形成一個密封腔體，該密封腔體內還設置有真空系統，該真空系統包括腔體真空系統和底片吸附系統。
[0007]上述說明中，作為優選的方案，所述底片吸附系統包括真空吸附槽、導氣管、吸附泵和電磁閥，真空吸附槽分別設置于上玻璃的底面與下玻璃頂面，真空吸附槽連接至導氣管上，導氣管與吸附泵和電磁閥相接，并通過PLC進行控制。
[0008]上述說明中，作為優選的方案，所述腔體真空系統設置于下框架的底部，由真空泵、腔體管路和腔體導通口構成，腔體管路分別與真空泵和腔體導通口密封連接，腔體導通口從下層膨脹密封圈穿入。
[0009]上述說明中，作為優選的方案，所述下框架的前端表面和左端表面分別設有定位銷，上框架的前端底面和左端底面分別設有與定位銷位置配對安裝的定位孔，定位銷為圓錐形結構，并在定位銷的底面設有起緩沖作用的彈簧。
[0010]上述說明中，作為優選的方案，所述下玻璃的邊沿設有向下傾斜的斜面，在斜面上方設有用于壓緊下玻璃的卡條，卡條的底面設有緊貼斜面的安裝面，并通過螺釘將卡條固定在下框架上。
[0011]上述說明中，作為優選的方案，所述夾具的一端夾緊上玻璃，夾具的另一端安裝在上框架的內側面上，并在夾具與上框架之間設有翻轉軸，該翻轉軸上套裝有復位扭簧，翻轉軸的翻轉角度為正負5度。
[0012]上述說明中，作為優選的方案，所述上框架與下框架均由鋁合金材料構成。
[0013]本實用新型所產生的有益效果為:雙玻璃曬架與傳統的曬架相比，不僅不需要趕氣，還可以實現手動或自動尚精度對位，能提尚工作效率，降低成本，提尚印制板的質量和精度。
【附圖說明】
[0014]圖1為本實用新型實施例中上層曬架與下層曬架打開狀態示意圖；
[0015]圖中，I為鉸鏈，2為支氣撐，3為上框架，4為上玻璃，5為夾具，6為上層膨脹密封圈，7為真空吸附槽，8為下框架，9為下玻璃，10為下層膨脹密封圈，11為定位銷，12為定位孔。
【具體實施方式】
[0016]下面結合附圖與【具體實施方式】對本實用新型作進一步詳細描述。
[0017]本實施例，參照圖1，其具體實施的雙玻璃曬架包括上層曬架和下層曬架，上層曬架與下層曬架的一端通過鉸鏈I進行連接，上層曬架與下層曬架的兩側設有兩個用于撐開上層曬架的支氣撐2，使上層曬架與下層曬架之間能夠進行活動打開與閉合。
[0018]上層曬架由上框架3和安裝在上框架3中端的上玻璃4構成，上玻璃4的兩端通過可活動的夾具5進行固定，夾具5連接有微調軸承，微調軸承上安裝有用于檢測精度的位移傳感器，夾具5的一端夾緊上玻璃4，夾具5的另一端安裝在上框架3的內側面上，并在夾具5與上框架3之間設有翻轉軸，該翻轉軸上套裝有復位扭簧，翻轉軸的翻轉角度為正負5度。上玻璃4的底面邊緣設有上層膨脹密封圈6。
[0019]下層曬架由下框架8和安裝在下框架8中端的下玻璃9構成，下玻璃9的邊沿設有向下傾斜的斜面，在斜面上方設有用于壓緊下玻璃9的卡條，卡條的底面設有緊貼斜面的安裝面，并通過螺釘將卡條固定在下框架8上。下框架8的邊緣設有用于安裝下玻璃9的圓形凹槽，在該圓形凹槽內設有橡膠密封圈，下玻璃9固定壓在橡膠密封圈上，使下玻璃9與橡膠密封圈緊密貼合，下玻璃9的頂面邊緣設有與上層膨脹密封圈6配對貼合的下層膨脹密封圈10，上層膨脹密封圈6與下層膨脹密封圈10均連接有用于調節氣壓的真空連接口，該真空連接口上設置有氣壓感應器。
[0020]本實施例中，上框架3與下框架8均由鋁合金材料構成，鋁合金表面平整度高，另夕卜，在上框架3與下框架8的四邊各加上一條鋁合金板子來承重，解決了變形下凹的問題。上玻璃4與下玻璃9均為浮法玻璃，上玻璃4與下玻璃9密封貼合后形成一個密封腔體，該密封腔體內還設置有真空系統，該真空系統包括腔體真空系統和底片吸附系統。
[0021]本實施例中，底片吸附系統包括真空吸附槽7、導氣管、吸附泵和電磁閥，真空吸附槽I分別設置于上玻璃4的底面與下玻璃9頂面，真空吸附槽7連接至導氣管上，導氣管與吸附泵和電磁閥相接，并通過PLC進行控制。腔體真空系統設置于下框架8的底部，由真空泵、腔體管路和腔體導通口構成，腔體管路分別與真空泵和腔體導通口密封連接，腔體導通口從下層膨脹密封圈10穿入。
[0022]另外，下框架8的前端表面和左端表面分別設有定位銷11，上框架3的前端底面和左端底面分別設有與定位銷11位置配對安裝的定位孔12，定位銷11為圓錐形結構，并在定位銷11的底面設有起緩沖作用的彈簧，圓錐形結構的定位銷11磨損小、定位性好。
[0023]以上內容是結合具體的優選實施例對本實用新型所作的進一步詳細說明，不能認定本實用新型的具體實施只局限于這些說明。對于本實用新型所屬技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型構思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應視為本實用新型的保護范圍。
【主權項】
1.用于曝光機的雙玻璃曬架，其特征在于:包括上層曬架和下層曬架，上層曬架與下層曬架的一端通過鉸鏈進行連接，上層曬架與下層曬架的兩側設有兩個用于撐開上層曬架的支氣撐，使上層曬架與下層曬架之間能夠進行活動打開與閉合，上層曬架由上框架和安裝在上框架中端的上玻璃構成，上玻璃的兩端通過可活動的夾具進行固定，夾具連接有微調軸承，微調軸承上安裝有用于檢測精度的位移傳感器，上玻璃的底面邊緣設有上層膨脹密封圈，下層曬架由下框架和安裝在下框架中端的下玻璃構成，下框架的邊緣設有用于安裝下玻璃的圓形凹槽，在該圓形凹槽內設有橡膠密封圈，下玻璃固定壓在橡膠密封圈上，使下玻璃與橡膠密封圈緊密貼合，下玻璃的頂面邊緣設有與上層膨脹密封圈配對貼合的下層膨脹密封圈，上層膨脹密封圈與下層膨脹密封圈均連接有用于調節氣壓的真空連接口，該真空連接口上設置有氣壓感應器，上玻璃與下玻璃均為浮法玻璃，上玻璃與下玻璃密封貼合后形成一個密封腔體，該密封腔體內還設置有真空系統，該真空系統包括腔體真空系統和底片吸附系統。
2.根據權利要求1所述用于曝光機的雙玻璃曬架，其特征在于:所述底片吸附系統包括真空吸附槽、導氣管、吸附泵和電磁閥，真空吸附槽分別設置于上玻璃的底面與下玻璃頂面，真空吸附槽連接至導氣管上，導氣管與吸附泵和電磁閥相接，并通過PLC進行控制。
3.根據權利要求1或者2所述用于曝光機的雙玻璃曬架，其特征在于:所述腔體真空系統設置于下框架的底部，由真空泵、腔體管路和腔體導通口構成，腔體管路分別與真空泵和腔體導通口密封連接，腔體導通口從下層膨脹密封圈穿入。
4.根據權利要求3所述用于曝光機的雙玻璃曬架，其特征在于:所述下框架的前端表面和左端表面分別設有定位銷，上框架的前端底面和左端底面分別設有與定位銷位置配對安裝的定位孔，定位銷為圓錐形結構，并在定位銷的底面設有起緩沖作用的彈簧。
5.根據權利要求1或者2或者4所述用于曝光機的雙玻璃曬架，其特征在于:所述下玻璃的邊沿設有向下傾斜的斜面，在斜面上方設有用于壓緊下玻璃的卡條，卡條的底面設有緊貼斜面的安裝面，并通過螺釘將卡條固定在下框架上。
6.根據權利要求1或者2或者4所述用于曝光機的雙玻璃曬架，其特征在于:所述夾具的一端夾緊上玻璃，夾具的另一端安裝在上框架的內側面上，并在夾具與上框架之間設有翻轉軸，該翻轉軸上套裝有復位扭簧，翻轉軸的翻轉角度為正負5度。
7.根據權利要求6所述用于曝光機的雙玻璃曬架，其特征在于:所述上框架與下框架均由鋁合金材料構成。
【專利摘要】本實用新型涉及曝光機設備領域的雙玻璃曬架，包括上層曬架和下層曬架,上層曬架由上框架和安裝在上框架中端的上玻璃構成，上玻璃的底面邊緣設有上層膨脹密封圈，下層曬架由下框架和安裝在下框架中端的下玻璃構成，下框架的邊緣設有用于安裝下玻璃的圓形凹槽，在該圓形凹槽內設有橡膠密封圈，下玻璃的頂面邊緣設有與上層膨脹密封圈配對貼合的下層膨脹密封圈，上層膨脹密封圈與下層膨脹密封圈均連接有用于調節氣壓的真空連接口，該真空連接口上設置有氣壓感應器，雙玻璃曬架與傳統的曬架相比，不僅不需要趕氣，還可以實現手動或自動高精度對位，能提高工作效率，降低成本，提高印制板的質量和精度。
【IPC分類】G03F7-20
【公開號】CN204347437
【申請號】CN201420807257
【發明人】袁強, 劉長征
【申請人】東莞市海圣光電科技有限公司
【公開日】2015年5月20日
【申請日】2014年12月17日