一種氧化鋁陶瓷片處理工藝的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及氧化鋁陶瓷片處理技術領域，尤其是涉及一種氧化鋁陶瓷片處理工
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【背景技術】
[0002]氧化鋁陶瓷:氧化鋁含量高，結構比較致密，具有特殊的性能，故稱為特種陶瓷。Al2O3陶瓷材料是以氧離子構成的密排六方結構，而鋁離子填充于三分之二的八面體間隙中，這是與天然剛玉相同穩定的a- Al2O3結構，因此陶瓷具有高熔點、高硬度，具有優良的耐磨性能。陶瓷貼片硬度I HRA85，僅次于金剛石的硬度，而且表面光滑摩擦系數小，耐磨性能十分理想，尤其是在高溫氧化性介質或腐蝕介質中，陶瓷貼片的材料較之其它金屬材料性能優越得多，普通的陶瓷片與橡膠無法粘結在一起，使用膠水后粘結不牢固，需要將陶瓷片處理。
【發明內容】
[0003]為克服上述技術問題，本發明采用的技術方案如下:
一種氧化鋁陶瓷片處理工藝，步驟如下:
(1)蒸餾水清洗:將陶瓷片放置在100%純水中清洗，烘干；
(2)酮洗:將清洗過的陶瓷片放置在20-30%丙酮中浸泡，烘干；
(3)堿洗:將酮洗過陶瓷片置于70-80%碳酸鈉溶液中浸泡，烘干。
[0004]所述步驟(I)中的陶瓷片完全浸沒在純水中。
[0005]所述步驟(2)中丙酮的含量為25%。
[0006]所述步驟(2)中陶瓷片在丙酮中浸泡的時間為半小時。
[0007]所述步驟(3)碳酸鈉溶液優選含量為75%碳酸鈉溶液。
[0008]所述步驟(3)浸泡時間為半小時。
[0009]本發明的有益效果是:1.硬度大，其洛氏硬度為HRA80-90，硬度僅次于金剛石，遠遠超過耐磨鋼和不銹鋼的耐磨性能；
2.耐磨性能極好，其耐磨性相當于錳鋼的266倍，高鉻鑄鐵的171.5倍。根據我們十幾年來的客戶跟蹤調查，在同等工況下，可至少延長設備使用壽命十倍以上；
3.重量輕，其密度為3.5g/cm3，僅為鋼鐵的一半，可大大減輕設備負荷；
4.表面吸附力強，是未經處理的陶瓷片的表面吸附力的10-20，通過膠水與橡膠結合后非常牢固、耐用。
【具體實施方式】
[0010]一種氧化鋁陶瓷片處理工藝，步驟如下:
(1)蒸餾水清洗:將陶瓷片完全放置在100%純水中清洗，烘干；
(2)酮洗:將清洗過的陶瓷片放置在20-30%丙酮中浸泡半小時，烘干；(3)堿洗:將酮洗過陶瓷片置于70-80%碳酸鈉溶液中浸泡半小時，烘干。
[0011]實施例1
一種氧化鋁陶瓷片處理工藝，步驟如下:
(1)蒸餾水清洗:將陶瓷片完全放置在100%純水中清洗，烘干；
(2)酮洗:將清洗過的陶瓷片放置在20%丙酮中浸泡半小時，烘干；
(3)堿洗:將酮洗過陶瓷片置于70%碳酸鈉溶液中浸泡半小時，烘干。
[0012]實施例2
一種氧化鋁陶瓷片處理工藝，步驟如下:
(1)蒸餾水清洗:將陶瓷片完全放置在100%純水中清洗，烘干；
(2)酮洗:將清洗過的陶瓷片放置在25%丙酮中浸泡半小時，烘干；
(3)堿洗:將酮洗過陶瓷片置于75%碳酸鈉溶液中浸泡半小時，烘干。
[0013]實施例3
一種氧化鋁陶瓷片處理工藝，步驟如下:
(1)蒸餾水清洗:將陶瓷片完全放置在100%純水中清洗，烘干；
(2)酮洗:將清洗過的陶瓷片放置在30%丙酮中浸泡半小時，烘干；
(3)堿洗:將酮洗過陶瓷片置于80%碳酸鈉溶液中浸泡半小時，烘干。
【主權項】
1.一種氧化鋁陶瓷片處理工藝，其特征在于步驟如下: (1)蒸餾水清洗:將陶瓷片放置在100%純水中清洗，烘干； (2)酮洗:將清洗過的陶瓷片放置在20-30%丙酮中浸泡，烘干； (3 )堿洗:將酮洗過陶瓷片置于70-80%碳酸鈉溶液中浸泡，烘干。2.根據權利要求1所述的一種氧化鋁陶瓷片處理工藝，其特征在于:所述步驟(I)中的陶瓷片完全浸沒在純水中。3.根據權利要求1所述的一種氧化鋁陶瓷片處理工藝，其特征在于:所述步驟(2)中丙酮的含量為25%。4.根據權利要求1所述的一種氧化鋁陶瓷片處理工藝，其特征在于:所述步驟(2)中陶瓷片在丙酮中浸泡的時間為半小時。5.根據權利要求1所述的一種氧化鋁陶瓷片處理工藝，其特征在于:所述步驟(3)碳酸鈉溶液優選含量為75%碳酸鈉溶液。6.根據權利要求1所述的一種氧化鋁陶瓷片處理工藝，其特征在于:所述步驟(3)浸泡時間為半小時。
【專利摘要】一種氧化鋁陶瓷片處理工藝，步驟如下：（1）蒸餾水清洗：將陶瓷片放置在100%純水中清洗，烘干；（2）酮洗：將清洗過的陶瓷片放置在20-30%丙酮中浸泡，烘干；（3）堿洗：將酮洗過陶瓷片置于70-80%碳酸鈉溶液中浸泡，烘干；本發明的有益效果是：硬度大，耐磨性能極好，重量輕，表面吸附力強，是未經處理的陶瓷片的表面吸附力的10-20，通過膠水與橡膠結合后非常牢固、耐用。
【IPC分類】B08B3/08, C04B41/80
【公開號】CN105601332
【申請號】CN201610062295
【發明人】解全義
【申請人】解全義
【公開日】2016年5月25日
【申請日】2016年1月29日