一種專用超輕光學離型膜結構的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供了一種專用超輕光學離型膜結構，屬于離型膜技術領域，包括基材層和離型劑層，還包括防靜電層、底涂層和硅油層，所述的防靜電層、基材層、離型劑層、底涂層和硅油層自上而下依次貼合，所述的離型劑層的上表面設有若干個凸臺狀凹凸結構。本實用新型的有益效果為：結構簡單，具有低霧度和高透光率、表面光潔度高、厚度公差小等出色的光學性能，剝離力為且離型力穩定、離型平整。
【專利說明】
一種專用超輕光學離型膜結構
技術領域
[0001]本實用新型涉及離型膜技術領域，尤其涉及一種專用超輕光學離型膜結構。
【背景技術】
[0002]光學級產品所用的高端離型膜需要在千級或萬級無塵車間生產，對涂布設備要求精確度高，對環保認證嚴格，進入門檻較高。應用于屏內的OCA光學膠對離型膜的要求比傳統離型膜更為苛刻，它不僅需要其表面平整度高，而且要保證其初始離型力與老化離型力差別不大、膜面公差小、殘余接著力大等諸多要求。
[0003]中國公開專利，公開號:CN205219956 U，曾公開了一種OCA光學離型膜，其特征在于，在基材層的一側涂覆防靜電層，底涂層涂覆在基材層的另一側，所述底涂層的另一側涂覆有硅油層。該離型膜離型力穩定，且離型非常平整，但是，這種離型膜厚度大，剝離力高且透光率不佳。
【發明內容】
[0004]本實用新型提供了一種專用超輕光學離型膜結構，結構簡單，具有低霧度和高透光率、表面光潔度高、厚度公差小等出色的光學性能，剝離力為且離型力穩定、離型平整。
[0005]為解決上述技術問題，本實用新型提供了一種專用超輕光學離型膜結構，包括基材層和離型劑層，其特征在于，還包括防靜電層、底涂層和硅油層，所述的防靜電層、基材層、離型劑層、底涂層和硅油層自上而下依次貼合，所述的離型劑層的上表面均勻設有凹凸結構;所述的防靜電層由聚苯撐乙烯、粘合劑樹脂和防粘連劑組成，其通過在線涂布方式與基材層的上表面復合，涂布液的稀釋劑選擇去離子水。
[0006]作為本實用新型的一個優選的技術方案，所述的基材層為PET光學級聚酯薄膜，其厚度為10_15μπι。
[0007]作為本實用新型的一個優選的技術方案，所述的離型劑層為聚硅氧烷、甲基甲氧基硅氧烷、第二類過渡金屬和甲苯做成的離型劑層，其剝離力在l_5g。
[0008]作為本實用新型的一個優選的技術方案，所述的離型劑層、底涂層和硅油層的涂布方式為凹輥涂布，固化方式為熱固化、光固化或光熱混合固化。
[0009]本申請實施例中提供的一個或多個技術方案，至少具有如下技術效果或優點:
[0010]結構簡單，具有低霧度和高透光率、表面光潔度高、厚度公差小等出色的光學性能，剝離力為且離型力穩定、離型平整。
【附圖說明】
[0011]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0012]圖1是本申請實施例的結構示意圖。
[0013]圖1中，1、防靜電層，2、基材層，3、離型劑層，4、底涂層，5、硅油層。
【具體實施方式】
[0014]本實用新型提供了一種專用超輕光學離型膜結構，結構簡單，具有低霧度和高透光率、表面光潔度高、厚度公差小等出色的光學性能，剝離力為且離型力穩定、離型平整。
[0015]為了更好的理解上述技術方案，下面將結合說明書附圖以及具體的實施方式對上述技術方案進行詳細的說明。
[0016]如圖1所示，本實施例所述的一種專用超輕光學離型膜結構，包括基材層2和離型劑層3，其特征在于，還包括防靜電層1、底涂層4和硅油層5，所述的防靜電層1、基材層2、離型劑層3、底涂層4和硅油層5自上而下依次貼合。
[0017]其中，在實際應用中，所述的防靜電層I為聚苯撐乙烯、粘合劑樹脂和防粘連劑組成，其通過在線涂布方式與基材層2的上表面復合，涂布液的稀釋劑選擇去離子水，該防靜電層I加工工藝穩定，具有優異的透明性和良好的附著性，表面電阻小于108Ω cm。
[0018]其中，在實際應用中，所述的基材層2為PET光學級聚酯薄膜，其厚度為10_15μπι，透光率高且厚度小。
[0019]其中，在實際應用中，所述的離型劑層3為聚硅氧烷、甲基甲氧基硅氧烷、第二類過渡金屬和甲苯做成的離型劑層，其剝離力在l_5g，形成的離型層殘余接著力高，初始離型力平穩且膜面公差范圍小。
[0020]其中，在實際應用中，所述的離型劑層3的上表面均勻設有凹凸結構，可提高與基材層2的附著力，該結構可以是波峰狀結構或凸點狀結構或其他凹凸結構。
[0021]其中，在實際應用中，所述的離型劑層3、底涂層4和硅油層5的涂布方式為凹輥涂布，固化方式為熱固化、光固化或光熱混合固化，采用該種方式操作控制方便，且涂布固化效果好，各個涂層表面平整度高。
[0022]以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，并非對本實用新型作任何形式上的限制，雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本實用新型，任何熟悉本專業的技術人員，在不脫離本實用新型技術方案范圍內，當可利用上述揭示的技術內容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本實用新型技術方案的內容，依據本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實用新型技術方案的范圍內。
【主權項】
1.一種專用超輕光學離型膜結構，包括基材層(2)和離型劑層(3)，其特征在于，還包括防靜電層(I)、底涂層(4)和硅油層(5)，所述的防靜電層(I)、基材層(2)、離型劑層(3)、底涂層(4)和硅油層(5)自上而下依次貼合，所述的離型劑層(3)的上表面均勻設有凹凸結構;所述防靜電層(I)由聚苯撐乙烯、粘合劑樹脂和防粘連劑組成，其通過在線涂布方式與基材層(2)的上表面復合，涂布液的稀釋劑為去離子水。2.根據權利要求1所述的一種專用超輕光學離型膜結構，其特征在于，所述的基材層(2)為PET光學級聚酯薄膜，其厚度為10-15μπι。3.根據權利要求1所述的一種專用超輕光學離型膜結構，其特征在于，所述的離型劑層(3)為聚硅氧烷、甲基甲氧基硅氧烷、第二類過渡金屬和甲苯做成的離型劑層，其剝離力在l-5g04.根據權利要求1所述的一種專用超輕光學離型膜結構，其特征在于，所述的離型劑層(3)、底涂層(4)和硅油層(5)的涂布方式為凹輥涂布，固化方式為熱固化、光固化或光熱混合固化。
【文檔編號】B32B27/30GK205685902SQ201620530141
【公開日】2016年11月16日
【申請日】2016年6月3日 公開號201620530141.9, CN 201620530141, CN 205685902 U, CN 205685902U, CN-U-205685902, CN201620530141, CN201620530141.9, CN205685902 U, CN205685902U
【發明人】白有洵
【申請人】深圳泰得思科技有限公司