一種輻射集中型電子掃描裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及電子加速器輻照加工設備，尤其是一種電子輻射集中的電子掃描
目.0
【背景技術】
[0002]電子加速器輻照加工是采用電離輻射對材料進行加工處理的一種工藝過程，是國家民用核工業推廣的一門新的生產工藝。其工藝過程有兩大裝備:電子加速器和束下傳輸
目.ο
[0003]目前，在電子輻照過程中，無效的電子射程過大，偏離的輻照電子會對周圍工裝或非當前被輻照物帶來非預期輻射導致工裝溫度的升高或輻照不均。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型所要解決的技術問題是針對上述現有技術提供一種電子掃描裝置，能夠將輻照過程中偏離的電子輻射遮擋掉，消除對周圍工裝或非當前被輻照物的輻照副作用。
[0005]本實用新型解決上述問題所采用的技術方案為:一種輻照集中型電子掃描裝置，包括電子掃描窗口，其特征在于:靠近所述電子掃描窗口的福射出口處設置有收集偏離電子的遮擋罩，所述遮擋罩沿電子輻射方向向外延伸，且遮擋罩的外沿超出前述輻射出口的外沿，該遮擋罩為導電型材。
[0006]優選地，所述遮擋罩為導電、導熱優良的銅型材。
[0007]優選地，所述遮擋罩的相應端成型有連接邊緣，遮擋罩通過所述連接邊緣與電子掃描窗口的外壁連接固定。
[0008]與現有技術相比，本實用新型的優點在于:為電子掃描窗口配置一遮擋罩，用于收集偏離的輻射電子，使電子輻射更加集中，消除游散電子對周邊工裝或非當前被輻照物的輻射副影響，確保電子掃描的均勻性。
【附圖說明】
[0009]圖1為本實用新型實施例中電子掃描裝置的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0010]以下結合附圖實施例對本實用新型作進一步詳細描述。
[0011 ]如圖1所示，本實施例中的輻照集中型電子掃描裝置，包括電子掃描窗口 I，靠近所述電子掃描窗口 I的輻射出口處設置有收集偏離電子的遮擋罩2，該遮擋罩2為導電、導熱優良的銅型材。遮擋罩2沿電子輻射方向向外延伸，且遮擋罩2的外沿超出前述輻射出口的外沿。
[0012]遮擋罩2的相應端成型有連接邊緣3，遮擋罩2通過連接邊緣3與電子掃描窗口 I的外壁通過緊固件4連接固定。
[0013]為電子掃描窗口配置遮擋罩，用于收集偏離的輻射電子，能夠使電子輻射束更集中，提高電子掃描的均勻性。
[0014]除上述實施例外，本實用新型還包括有其他實施方式，凡采用等同變換或者等效替換方式形成的技術方案，均應落入本實用新型權利要求的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種輻射集中型電子掃描裝置，包括電子掃描窗口，其特征在于:靠近所述電子掃描窗口的輻射出口處設置有收集偏離電子的遮擋罩，所述遮擋罩沿電子輻射方向向外延伸，且遮擋罩的外沿超出前述輻射出口的外沿，該遮擋罩為導電型材。2.根據權利要求1所述的輻射集中型電子掃描裝置，其特征在于:所述遮擋罩為銅型材。3.根據權利要求1所述的輻射集中型電子掃描裝置，其特征在于:所述遮擋罩的相應端成型有連接邊緣，遮擋罩通過所述連接邊緣與電子掃描窗口的外壁連接固定。
【專利摘要】本實用新型涉及輻射集中型電子掃描裝置，包括電子掃描窗口，其特征在于：靠近所述電子掃描窗口的輻射出口處設置有收集偏離電子的遮擋罩，所述遮擋罩沿電子輻射方向向外延伸，且遮擋罩的外沿超出前述輻射出口的外沿，該遮擋罩為導電型材。為電子掃描窗口配置一遮擋罩，用于收集偏離的輻射電子，使電子輻射更加集中，消除游散電子對周邊工裝或非當前被輻照物的輻射副影響，確保電子掃描的均勻性。
【IPC分類】G21K5/04
【公開號】CN205318858
【申請號】CN201620005329
【發明人】伍德良, 程剛
【申請人】黃石眾力輻照工程技術有限公司
【公開日】2016年6月15日
【申請日】2016年1月4日