環狀烯烴系膜、光學膜、導電性膜、印刷電子用基材膜、阻隔膜、觸控面板、偏振片和顯示裝置的制造方法
【專利摘要】環狀烯烴系膜在由環狀烯烴系樹脂形成的層的至少一側表面上具有底涂層,在上述底涂層中含有2質量%~15質量%的含噁唑啉基聚合物。
【專利說明】
環狀烯烴系膜、光學膜、導電性膜、印刷電子用基材膜、阻隔 膜、觸控面板、偏振片和顯示裝置
技術領域
[0001] 本發明涉及環狀烯烴系膜、以及光學膜、導電性膜、印刷電子用基材膜、阻隔膜、觸 控面板、偏振片和顯示裝置。
【背景技術】
[0002] 近年來,液晶顯示裝置、有機電致發光顯示裝置(有機EL顯示裝置)、觸控面板等的 用途擴大。在這樣的器件中,在支持體或保護膜等中使用各種樹脂膜。其中,環狀烯烴系膜 的耐熱性高、吸水率低,因而尺寸穩定性優異,并且光彈性系數低、能夠將雙折射抑制得較 低,因而優選使用環狀烯烴系膜。
[0003] 然而,環狀烯烴系膜為沒有極性基團的膜,或者與聚酯系膜等相比,其為極性基團 極少的非極性膜,因而具有與其它部件的粘接性差的問題。
[0004] 因此,例如在專利文獻1中提出了下述方案:在環狀烯烴系膜的表面設置作為易粘 接層發揮作用的氨基甲酸酯樹脂層,隔著上述氨基甲酸酯樹脂層使環狀烯烴系膜與其它部 件粘接。
[0005] 另外,在專利文獻2中記載了一種偏振片,其為包含偏振元件、接合劑層和透明基 材膜的偏振片,其中,在接合劑層與透明基材膜之間具有使用含有噁唑啉交聯劑的預涂層 組合物形成的底涂層。但是,在專利文獻2中并未記載使用環狀烯烴系膜作為透明基材膜的 實施例,并且實施例中所使用的含有噁唑啉交聯劑的預涂層組合物中的噁唑啉交聯劑的含 量較高,為200質量%。進而,在專利文獻2中記載了,在底涂層為100nm以下時,粘接力減少。 在專利文獻3中記載了在光學補償膜上涂布易接合劑組合物、在易接合劑組合物中含有噁 唑啉交聯劑的內容。在專利文獻3的制造例16中記載了使用含有聚酯氨基甲酸酯和含噁唑 啉基聚合物的易接合劑組合物來形成易粘接層的內容,但易粘接層中的含噁唑啉基聚合物 的含量尚于15質量%。在專利文獻3中還記載了,在易粘接層的厚度為0. Ιμπι時,偏振兀件與 保護膜不易得到充分的粘接性。
[0006] 【現有技術文獻】
[0007] 【專利文獻】
[0008] 專利文獻1:日本特開2013-132871號公報 [0009] 專利文獻2:日本特表2014-500984號公報 [0010] 專利文獻3:日本特開2013-160802號公報
【發明內容】
[0011]【發明所要解決的課題】
[0012] 在專利文獻1中,具有涂布膜干燥狀態下的密合性(干燥密合性)不充分、并且加濕 狀態下的密合性(濕潤密合性)也不充分的問題。
[0013] 此外,在專利文獻2的實施例中,在丙烯酸膜的表面上涂布含有噁唑啉交聯劑的預 涂層組合物,制造具有厚度400nm的底涂層的丙烯酸膜,但對于環狀烯烴系膜與底涂層的密 合性(干燥密合性和濕潤密合性)并無任何研究。在專利文獻3中也并未對環狀烯烴系膜與 易粘接層的密合性(干燥密合性和濕潤密合性)進行研究。此外,在專利文獻3的實施例中, 在環狀烯烴系膜上涂布了含有噁唑啉交聯劑的粘接組合物,但其干燥后的厚度為0.5μπι,因 而具有容易發生涂布故障(涂布不均、膜輥的粘連、卷繞褶皺等)的問題。
[0014] 本發明是為了解決上述問題而做出的,其所要解決的課題在于提供一種干燥密合 性和濕潤密合性優異的環狀烯烴系膜。進而,本發明所要解決的課題在于提供使用了上述 環狀烯烴系膜的光學膜、導電性膜、印刷電子用基材膜、阻隔膜、觸控面板、偏振片和顯示裝 置。
[0015] 【解決課題的手段】
[0016] 本發明人為了解決上述課題進行了深入研究,結果發現,通過在由環狀烯烴系樹 脂形成的層的至少一側表面上設置含有特定量的含噁唑啉基聚合物的底涂層,能夠提供干 燥密合性和濕潤密合性優異的環狀烯烴系膜,從而完成了本發明。
[0017] 具體地說,本發明具有以下構成。
[0018] 〈1>一種環狀烯烴系膜,其特征在于,其在由環狀烯烴系樹脂形成的層的至少一側 表面上具有底涂層,在底涂層中含有2質量%~15質量%的含噁唑啉基聚合物。
[0019] 〈2>如〈1>中所述的環狀烯烴系膜,其中,底涂層的厚度為20nm~400nm。
[0020] 〈3>如〈1>或〈2>中所述的環狀烯烴系膜,其中,含噁唑啉基聚合物為水溶性的含噁 唑啉基聚合物。
[0021] 〈4>如〈1>~〈3>中任一項所述的環狀烯烴系膜,其中,底涂層中的含噁唑啉基聚合 物的含量為3質量%~12質量%。
[0022] 〈5>如〈1>~〈4>中任一項所述的環狀烯烴系膜,其中,含噁唑啉基聚合物具有噁唑 啉基和聚氧亞烷基鏈。
[0023] 〈6>如〈1>~〈5>中任一項所述的環狀烯烴系膜,其中,含噁唑啉基聚合物為具有噁 唑啉基和聚氧亞烷基鏈的丙烯酸聚合物。
[0024] 〈7>如〈1>~〈6>中任一項所述的環狀烯烴系膜,其中,含噁唑啉基聚合物的玻璃化 轉變溫度為50°C以上。
[0025] 〈8>如〈1>~〈7>中任一項所述的環狀烯烴系膜,其中,底涂層包含選自聚烯烴樹 月旨、丙烯酸系樹脂、改性有機硅樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂和苯乙烯丁二烯橡膠樹脂中的 至少一種樹脂。
[0026] 〈9>如〈1>~〈8>中任一項所述的環狀烯烴系膜的制造方法,其包括:通過在由環狀 烯烴系樹脂形成的層的至少一側表面上涂布至少含有含噁唑啉基聚合物和樹脂的涂布液, 使其固化,由此形成底涂層。
[0027] 〈10>-種光學膜,其具有〈1>~〈8>中任一項所述的環狀烯烴系膜。
[0028] 〈11> 一種導電性膜,其具有〈1>~〈8>中任一項所述的環狀烯烴系膜和導電層。
[0029] 〈12>-種印刷電子用基材膜,其具有〈1>~〈8>中任一項所述的環狀烯烴系膜。
[0030] 〈13>-種阻隔膜,其具有〈1>~〈8>中任一項所述的環狀烯烴系膜。
[0031] 〈14> 一種觸控面板,其具有〈1>~〈8>中任一項所述的環狀烯烴系膜或〈11>中所述 的導電性膜。
[0032] 〈15>-種偏振片,其具有〈1>~〈8>中任一項所述的環狀烯烴系膜或〈10>中所述的 光學膜。
[0033] 〈16>-種顯示裝置,其具有〈1>~〈8>中任一項所述的環狀烯烴系膜、〈10>中所述 的光學膜或〈15>中所述的偏振片。
[0034]【發明的效果】
[0035] 根據本發明,可以提供干燥密合性和濕潤密合性優異的環狀烯烴系膜。進而,根據 本發明,可以提供使用了上述環狀烯烴系膜的光學膜、導電性膜、印刷電子用基材膜、阻隔 膜、觸控面板、偏振片和顯示裝置。
【具體實施方式】
[0036] 下面詳細說明本發明。以下記載的構成要件的說明是基于代表性的實施方式和具 體例而作出的,但本發明并不限定于這樣的實施方式。需要說明的是,本說明書中使用"~" 表示的數值范圍意味著包含"~"前后記載的數值作為下限值和上限值的范圍。
[0037]〈環狀烯烴系膜〉
[0038] 本發明的環狀烯烴系膜的特征在于,其在由環狀烯烴系樹脂形成的層的至少一側 表面上具有底涂層,在上述底涂層中含有2質量%~15質量%的含噁唑啉基聚合物。本發明 的環狀烯烴系膜的干燥密合性和濕潤密合性優異。
[0039] 底涂層是指用于設置上涂層的層,上涂層和底涂層通過涂布或蒸鍍等來形成,因 而不具有自身支持性。市售底涂層的厚度多為〇.5μπι以下,因而底涂層的厚度進一步大于 〇.5μπι的情況下,容易產生涂布故障(涂布不均、膜輥的粘連、卷繞褶皺等)。需要說明的是, 接合劑或粘著劑是指用于將2個具有自身支持性的物品進行粘接或粘著的材料,例如為了 將聚乙烯醇(PVA)膜與三乙酰纖維素(TAC)膜進行粘接或粘著而使用。此外,市售的接合劑 或粘著劑的厚度以干燥膜厚計多為Ιμπι~ΙΟμπι。本發明中所說的底涂層與涂布接合劑或粘 著劑而形成的粘接層或粘著層從膜厚的角度出發有區別。
[0040]本發明中的底涂層的厚度以干燥膜厚計優選為500nm以下,更優選為20nm~ 400nm、進一步優選為20nm~120nm、更進一步優選為20nm~95nm、特別優選為50nm~95nm。
[0041] 下面進一步對本發明的環狀烯烴系膜中的由環狀烯烴系樹脂形成的層和底涂層 進行詳細說明。
[0042] 〈〈含有環狀烯烴系膜的層》
[0043] 本發明的環狀烯烴系膜具有由環狀烯烴系樹脂形成的層。
[0044] 關于作為環狀烯烴系樹脂的原料的降冰片烯樹脂(降冰片烯單元),可以舉出以下 記載的飽和降冰片烯樹脂-A和飽和降冰片烯樹脂-B作為優選的實例。這些飽和降冰片烯樹 脂均可通過后述的溶液制膜法、熔融制膜法進行制膜,但飽和降冰片烯樹脂-A更優選通過 熔融制膜法進行制膜,飽和降冰片烯樹脂-B更優選通過熔融和溶液制膜法進行制膜。
[0045](飽和降冰片烯樹脂-A)
[0046]作為飽和降冰片烯樹脂-A,可以舉出:(1)對于降冰片烯系單體的開環(共)聚合 物,根據需要進行馬來酸加成、環戊二烯加成之類的聚合物改性,其后進一步進行氫化而得 到的樹脂;(2)使降冰片烯系單體進行加成型聚合而得到的樹脂;(3)使降冰片烯系單體與 乙烯或α-烯烴等烯烴系單體進行加成型共聚而得到的樹脂;等等。聚合方法和氫化方法可 按照常規方法來進行。
[0047]作為降冰片烯系單體,例如可以舉出:降冰片烯及其烷基和/或次烷基取代體(例 如5-甲基降冰片稀、5-二甲基降冰片稀、5-乙基降冰片稀、5 -丁基降冰片稀、 5-亞乙基-2-降冰片烯等)、它們的鹵素等極性基團取代體;雙環戊二烯、2,3_二氫雙環戊二 烯等;二甲橋八氫化萘、其烷基和/或次烷基取代體以及鹵素等極性基團取代體(例如6-甲 基 -1,4:5,8-一甲橋_1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氛化蔡、6 -乙基-1,4:5,8-一甲橋-1,4,4a,5, 6,7,8,8a -八氛化蔡、6-亞乙基-1,4: 5,8-一甲橋_1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氛化蔡、6 -氣-1, 4:5,8-二甲橋-1,4,4&,5,6,7,8,8 &-八氫化萘、6-氰基-1,4:5,8-二甲橋-1,4,4&,5,6,7,8, 8a-八氫化萘、6-吡啶基-1,4: 5,8-二甲橋-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫化萘、6-甲氧基羰基-1,4: 5,8-二甲橋-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫化萘等);環戊二烯與四氫化茚等的加成物;環 戊二烯的3~4聚體(例如,4,9:5,8_二甲橋-3a,4,4a,5,8,8a,9,9a-八氫化-1H-苯并茚、4, 11:5,10:6,9-三甲橋-3a,4,4a,5,5a,6,9,9a, 10,10a, 11,11a-十二氫-1H-環戊二烯并蒽) 等。這些降冰片烯系單體可以單獨使用,也可將2種以上組合使用。
[0048](飽和降冰片烯樹脂-B)
[0049] 作為飽和降冰片烯樹脂-B,可以舉出如下通式(1)~(4)所表示的物質。它們之中, 特別優選如下通式(1)所表示的物質。
[0050] 【化1】
[0051]
[0052] 通瓦(1)~(4)甲,1Γ~IT。谷目棚H地衣不S原于現1併取代基(優選有機基團),優 選它們之中的至少1個為極性基團。這些飽和降冰片烯樹脂的重均分子量通常優選為5,000 ~1,000,000、更優選為 8,000 ~200,000。
[0053]作為上述取代基,可示例出日本專利第5009512號公報的〈0036〉段中記載的基團。 此外,作為上述極性基團,可示例出日本專利第5009512號公報的〈0037〉段所記載的基團。 [0054]作為本發明中可以使用的飽和降冰片烯樹脂,例如可以舉出日本特開昭60-168708號公報、日本特開昭62-252406號公報、日本特開昭62-252407號公報、日本特開平2- 133413號公報、日本特開昭63-145324號公報、日本特開昭63-264626號公報、日本特開平1-240517號公報、日本特公昭57-8815號公報等中記載的樹脂等。
[0055] 這些樹脂中,特別優選將降冰片烯系單體的開環聚合物氫化得到的氫化聚合物。
[0056] 本發明中,作為飽和降冰片烯樹脂,可以使用如下得到的樹脂:將如下通式(5)所 表示的至少一種四環十二碳烯衍生物單獨進行易位聚合、或者將該四環十二碳烯衍生物與 能夠與其共聚的不飽和環狀化合物進行易位聚合,對所得到的聚合物進行氫化,使用所得 到的氫化聚合物。
[0057] 【化2】 1?
[0058]
[0059] 通式(5)中,R13~R16各自獨立地表示氫原子或1價取代基(優選有機基團),優選它 們之中的至少1個為極性基團。關于此處所說的取代基與極性基團的具體例和優選范圍,與 通式(1)~(4)中說明的具體例和優選范圍相同。
[0060] 上述通式(5)所表示的四環十二碳烯衍生物中,通過使R13~R16中的至少1個為極 性基團,可以得到與其它材料的密合性、耐熱性等優異的偏振光膜。進而,該極性基團為-(CH 2) nC00R (此處,R表示碳原子數為1~20的烴基、η表示0~10的整數。)所表示的基團時,最 終得到的氫化聚合物(偏振光膜的基材)具有較高的玻璃化轉變溫度,因而優選該極性基團 為_(CH 2)nC00R所表示的基團。特別是,從降低吸水率的方面考慮,優選在每1分子通式(5)的 四環十二碳烯衍生物中含有1個該_(CH 2)nC00R所表示的極性取代基。上述極性取代基中,R 所表示的烴基的碳原子數越多,所得到的氫化聚合物的吸濕性越小,從這方面考慮,優選R 所表示的烴基的碳原子數多,但從與所得到的氫化聚合物的玻璃化轉變溫度的平衡的方面 考慮,該烴基優選碳原子數為1~4的鏈狀烷基或碳原子數為5以上的(多)環狀烷基,特別優 選為甲基、乙基、環己基。
[0061] 進而,在由_(CH2)nC00R表示的基團所鍵接的碳原子上結合了碳原子數為1~10的 烴基作為取代基的通式(5)的四環十二碳烯衍生物會使所得到的氫化聚合物的吸濕性降 低,因而優選該四環十二碳烯衍生物。特別是,從其合成容易的方面考慮,優選該取代基為 甲基或乙基的通式(5)的四環十二碳烯衍生物。具體地說,優選8-甲基-8-甲氧基羰基四環 [4,4,0,1 2·5,17·1()]十二碳-3-烯。這些四環十二碳烯衍生物和能夠與其共聚的不飽和環狀 化合物的混合物可以通過例如日本特開平4-77520號公報第4頁右上欄12行~第6頁右下欄 第6行所記載的方法進行易位聚合、氫化。
[0062]這些降冰片烯系樹脂在氯仿中于30°C測定的特性粘度(rUnh)優選為0.1dl/g~ 1.5dl/g、進一步優選為0.4dl/g~1.2dl/g。此外,關于氫化聚合物的氫化率,在60MHz利用 匪R測定的值優選為50 %以上、更優選為90 %以上、進一步優選為98 %以上。氫化率越 高,所得到的飽和降冰片烯膜對于熱、光的穩定性越優異。上述氫化聚合物中所含有的凝膠 含量優選為5質量%以下、進一步優選為1質量%以下。
[0063](其它能夠開環聚合的環烯烴類)
[0064]在本發明中,可以合用能夠進行開環聚合的其它環烯烴類。作為這樣的環烯烴的 具體例,例如可示例出環戊烯、環辛烯、5,6_二氫雙環戊二烯等之類的具有1個反應性雙鍵 的化合物。相對于上述降冰片烯系單體,這些能夠開環聚合的環烯烴類的含量優選為〇摩 爾%~5〇摩爾%、更優選為0.1摩爾%~30摩爾%、特別優選為0.3摩爾%~10摩爾%。 [0065]環狀烯烴系樹脂可以為含有乙烯單元和降冰片烯單元的環狀烯烴共聚物。乙烯單 元為由-CH2CH2-表示的重復單元。乙稀單元通過與上述降冰片稀單元進行乙烯基聚合而得 到環狀烯烴共聚物。降冰片烯單元與乙烯單元的共聚摩爾比例優選為80:20~20:80、更優 選為80:20~50:50、進一步優選為80:20~60:40。
[0066] 需要說明的是,在環狀烯烴共聚物中,除了乙烯單元和降冰片烯單元以外,也可以 少量含有由其它可共聚的乙烯基單體形成的重復單元。作為其它乙烯基單體,具體地說,可 以舉出丙稀、I -丁稀、I-己稀、4-甲基-1-戊稀、1-辛稀、1-癸稀、1-十二碳稀、1-十四碳稀、1-十六碳烯、1-十八碳烯之類的碳原子數為3~18的 α-烯烴;環丁烯、環戊烯、環己烯、3-甲基 環己烯、環辛烯之類的環烯烴等。這樣的乙烯基單體可以單獨使用、或將兩種以上組合使 用,并且該重復單元優選為整體的10摩爾%以下、更優選為5摩爾%以下。
[0067](其它添加劑)
[0068] 在環狀烯烴系樹脂中,可以在無損于本發明目的的范圍內添加其它添加劑。作為 添加劑,例如可以舉出抗氧化劑、紫外線吸收劑、易滑劑、抗靜電劑。特別是在環狀烯烴系樹 脂被設于各種器件的表面的情況下,優選含有紫外線吸收劑。作為紫外線吸收劑,可以使用 二苯甲酮系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、丙烯腈系紫外線吸收劑等。
[0069] 此外,環狀烯烴系樹脂中具有加成聚合型和開環聚合型,它們均可使用。作為開環 聚合型的環狀烯烴系樹脂,例如可以舉出W02009/041377號、W02008/108199號、W02007/ 001020 號、W02006/112304號、日本特開2008-037932、W02007/043573 號、W02007/010830 號、 日本專利5233280號、W02007/001020號、日本特開2007-063356號公報、日本特開2009-210756號公報、日本特開2008-158088號公報、日本特開2001-356213號公報、日本特開 2004- 212848號公報、日本特開2003-014901號公報、日本特開2000-219752號公報、日本特 開2005-008698號公報、W02007/135887號、日本特開2012-056322號公報、日本特開平7-197623號公報、日本特開2006-215333號公報、日本特開2006-235085號公報、日本特開 2005- 173072號公報、日本專利4292993號、日本特開2004-258188號公報、日本特開2003-136635號公報、日本特開2003-236915號公報、日本特開平10-130402號公報、日本特開平9-263627號公報、日本特開平4-361230號公報、日本特開平4-363312號公報、日本特開平4-170425號公報、日本特開平3-223328號公報等中記載的開環聚合型環狀烯烴系樹脂。
[0070] 另外,作為加成聚合型環狀烯烴系樹脂,例如可以舉出W02009/139293號、W02006/ 030797號、日本專利4493660號、日本特開2007-232874號公報、日本特開2007-009010號公 報、TO2013/179781 號、W02012/114608 號、W02008/078812號、日本特開平 11-142645號公報、 日本特開平10-287713號公報、日本專利5220616號、日本特開平11-142645號公報、日本特 開平10-258025號公報、日本特開2001-026682號公報、日本特開平5-025337號公報、日本特 開平3-273043號公報等中記載的加成聚合型環狀烯烴系樹脂。
[0071] 作為由環狀烯烴系樹脂形成的層,可以使用市售的環狀烯烴系膜。作為市售品,可 以舉出ARTON D4540(JSR株式會社制造)等。
[0072] 作為由環狀稀經系樹脂形成的層的厚度,優選為20μηι~100μπι、更優選為20μηι~80 Mi、進一步優選為30μπι~50μπι。
[0073] 〈〈底涂層》
[0074] 本發明的環狀烯烴系膜在由環狀烯烴系樹脂形成的層的至少一側表面上具有底 涂層,底涂層含有含噁唑啉基聚合物。
[0075] 由于在由環狀烯烴系樹脂形成的層的表面上所形成的底涂層含有含噁唑啉基聚 合物,因此能夠提供干燥密合性和濕潤密合性優異的環狀烯烴系膜。
[0076]只要底涂層含有含噁唑啉基聚合物,就對材料等沒有特別限制。作為含噁唑啉基 聚合物,例如可以舉出具有噁唑啉基和聚氧亞烷基鏈的聚合物,進一步優選可以舉出具有 噁唑啉基和聚氧亞烷基鏈的丙烯酸聚合物等,根據需要可以含有粘結劑等。
[0077](含噁唑啉基聚合物)
[0078]含噁唑啉基聚合物至少含有具有噁唑啉基的單體作為必要成分,根據需要使單體 成分進行聚合,該單體成分含有能夠與具有噁唑啉基的單體共聚的單體,從而容易地制備。 [0079] 作為具有噁唑啉基的單體,可以舉出2-乙烯基-2-噁唑啉、2-乙烯基-4-甲基-2-噁 唑啉、2-乙烯基-5-甲基-2-噁唑啉、2-異丙烯基-2-噁唑啉、2-異丙烯基-4-甲基-2-噁唑啉、 2_異丙烯基-5-甲基-2-噁唑啉,可以使用它們的1種或2種以上的混合物。它們之中,2-異丙 烯基_2_噁唑琳在Τ.業h易于獲得,為適宜的。
[0080] 在本發明中,作為能夠與具有噁唑啉基的單體共聚的單體成分,從在水(也可以含 有一些有機溶劑)中的溶解性、底涂層的凝聚力、密合性的方面出發,優選使用具有聚氧亞 烷基鏈的丙烯酸單體。即,含噁唑啉基聚合物優選為具有噁唑啉基和聚氧亞烷基鏈的丙烯 酸聚合物。
[0081] 作為具有聚氧亞烷基鏈的丙烯酸單體,可以舉出在丙烯酸或甲基丙烯酸的酯部分 賦予了聚氧亞烷基的丙烯酸或甲基丙烯酸。聚氧亞烷基鏈可以舉出聚氧亞甲基、聚氧亞乙 基、聚氧亞丙基、聚氧亞丁基等。聚氧亞烷基鏈的重復單元優選為3~100。聚氧亞烷基鏈的 重復單元少于3時,底涂層的透明性變差;大于100時,底涂層的耐濕熱性降低,在高濕度、高 溫下的密合性變差。此外,具有噁唑啉基的單體與具有聚氧亞烷基鏈的丙烯酸單體之比優 選為1:1~5:1。噁唑啉基的量(具有噁唑啉基的單體的量)少于1:1時,密合性降低;噁唑啉 基的量多于5:1時,在水中的溶解性變差。
[0082] 作為其它可共聚的單體成分,也可適當地使用上述以外的單體。例如為:丙烯酸烷 基酯、甲基丙烯酸烷基酯(作為烷基,為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁 基、2-乙基己基、環己基等);丙烯酸-2-羥乙酯、甲基丙烯酸-2-羥乙酯、丙烯酸-2-羥丙酯、 甲基丙烯酸-2-羥丙酯等含有羥基的單體;丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、烯 丙基縮水甘油醚等含有環氧基的單體;丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、馬來酸、富馬酸、丁烯 酸、苯乙烯磺酸及其鹽(鈉鹽、鉀鹽、銨鹽、叔胺鹽等)等具有羧基或其鹽的單體;丙烯酰胺、 甲基丙烯酰胺、N-烷基丙烯酰胺、N-烷基甲基丙烯酰胺、N,N-二烷基丙烯酰胺、N,N-二甲基 丙烯酸烷基酯(作為烷氧基,為甲氧基、乙氧基、丁氧基、異丁氧基等)、丙烯酰嗎啉、N-羥甲 基丙烯酰胺、N-羥甲基甲基丙烯酰胺、N-苯基丙烯酰胺、N-苯基甲基丙烯酰胺等具有酰胺基 的單體;馬來酸酐、衣康酸酐等酸酐單體;乙烯基異氰酸酯、烯丙基異氰酸酯、苯乙烯、α-甲 基苯乙烯、乙烯基甲醚、乙烯基乙醚、乙烯基三烷氧基硅烷、烷基馬來酸單酯、烷基富馬酸單 酯、烷基衣康酸單酯、丙烯腈、甲基丙烯腈、偏二氯乙烯、乙烯、丙烯、氯化乙烯、醋酸乙烯酯、 丁二烯等。
[0083]具有噁唑啉基和聚氧亞烷基鏈的丙烯酸聚合物可以使用市售品,例如可以舉出 Epocros K-2010E、Epocros K-2020E、Epocros K-2030E、Epocros WS-700、Epocros WS-300 (均為日本觸媒社制造)等。
[0084]底涂層中的含噁唑啉基聚合物的含量為2質量%~15質量%,優選為3質量%~12 質量%、特別優選為5質量%~10質量%。
[0085] 含噁唑啉基聚合物小于2質量%時,底涂層的凝聚力降低,密合性可能不充分;超 過15質量%時,與由環狀烯烴系樹脂形成的層的密合性可能會降低。
[0086] 底涂層中的含噁唑啉基聚合物的含量可如下求得:對底涂層組合物進行采樣,利 用1H-匪R對樣品進行分析,通過來源于噁唑啉基的吸收峰強度、來源于其它粘結劑的吸收 峰強度來求出該含量。
[0087] 底涂層中的含噁唑啉基聚合物是指包括下述聚合物的聚合物:在聚合物中的噁唑 啉基未反應的狀態下閉環而成的聚合物;聚合物中的噁唑啉基未發生交聯下開環而成的聚 合物;以及聚合物中的噁唑啉基經交聯反應酰胺酯化而成的聚合物。上述任一種聚合物均 可通過上述的h-NMR來確認含量。
[0088] 從環境負荷的方面出發,含噁唑啉基聚合物優選為水溶性的。
[0089] 從提高與由環狀烯烴系樹脂形成的層的密合性的方面考慮,含噁唑啉基聚合物的 玻璃化轉變溫度(Tg)優選為50°C以上、更優選為85°C以上。關于上限沒有特別限制,但為 150°C。通常認為,粘接層越柔軟(即Tg越低),密合力越高,但在本發明中,使用具有50°C以 上這樣的比較高的Tg的含噁唑啉基聚合物是更為優選的,這一技術思想是出乎意料的。需 要說明的是,玻璃化轉變溫度例如可通過差示掃描熱量測定(DSC)進行測定。
[0090] 含噁唑啉基聚合物的重均分子量沒有特別限定,優選為40000以上、更優選為 40000~200000、進一步優選為70000~150000。重均分子量例如可通過凝膠滲透色譜法 (GPC)進行測定。
[0091] 為了促進與含噁唑啉基聚合物的交聯反應,本發明的底涂層可以添加鑰化合物、 水混合性有機溶劑等催化劑。
[0092]-鑰化合物-
[0093] 本發明的底涂層含有至少一種鑰化合物。通過含有鑰化合物,可促進聚合物與上 述含噁唑啉基聚合物的交聯反應,可謀求耐溶劑性的提高。并且可良好地進行交聯,從而底 涂層與由環狀烯烴系樹脂形成的層之間的密合性也優異。
[0094] 作為鐵化合物,可以適當地舉出箱鹽、梳鹽、氣錄[鹽、鵬錄[鹽、鱗鹽、硝錄[鹽、亞硝錄i 鹽、重氮鹽等。
[0095] 作為鑰化合物的具體例,可以舉出:磷酸一銨、磷酸二銨、氯化銨、硫酸銨、硝酸銨、 對甲苯磺酸銨、氨基磺酸銨、亞氨基二磺酸銨、四丁基氯化銨、芐基三甲基氯化銨、三乙基芐 基氯化銨、四氟化硼四丁基銨、四丁基六氟磷酸銨、四丁基高氯酸銨、四丁基硫酸銨等銨鹽; 三甲基碘化锍、三甲基四氟硼酸锍、二苯基甲基四氟硼酸锍、芐基四亞甲基四氟硼酸锍、2-丁烯基四亞甲基六氟銻酸锍、3-甲基-2-丁烯基四亞甲基六氟銻酸锍等锍鹽;三甲基氧鑰四 氣棚酸等氧鐵鹽;^苯基氣化鵬鐵、^苯基鵬鐵四氣棚酸等鵬鐵鹽;氛基甲基二丁基憐鐵八 氟銻酸、乙氧基羰基甲基三丁基磷鑰四氟硼酸等鱗鹽;四氟硼酸硝鑰等硝鑰鹽;四氟硼酸亞 硝鐵等亞硝鐵鹽;4-甲氧基氣化重氣苯等重氣鹽;等等。
[0096] 它們之中,從縮短固化時間的方面考慮,鑰化合物更優選為銨鹽、锍鹽、碘鑰鹽、鱗 鹽,進一步優選它們中的銨鹽,從安全性、pH以及成本的方面出發,優選磷酸系、芐基氯化系 的鑰化合物。
[0097] 底涂層中的鑰化合物可以僅為1種,也可以合用兩種以上。
[0098] 底涂層中的鑰化合物的含量相對于底涂層中的粘結劑量優選為0.1質量%以上15 質量%以下的范圍,更優選為0.5質量%以上10質量%以下的范圍,進一步優選為1質量% 以上5質量%以下的范圍。鐵化合物的含量為0.1質量%以上是指積極地含有鐵化合物的含 義,通過含有鑰化合物,粘結劑與含噁唑啉基聚合物之間的交聯反應更為良好地進行,可得 到更為優異的耐溶劑性。此外,通過使鑰化合物的含量為15質量%以下,從溶解性、過濾性、 密合的方面考慮是有利的。
[0099]-水混合性有機溶劑_
[0100]本發明中的底涂層可以含有至少一種沸點為99°c以下的水混合性有機溶劑。通過 含有低沸點的有機溶劑,可促進粘結劑與含噁唑啉基聚合物的交聯反應,耐溶劑性進一步 提尚。
[0101]水混合性是指具有水溶性,指的是與水任意混合的性質。
[0102] 沸點為99°C以下是指與被制備為水系的涂布液中的主溶劑水相比更容易被去除, 據推測,通過含有比水更容易被排出到體系外的溶劑成分,交聯反應變良好。
[0103] 作為沸點為99°C以下的水混合性有機溶劑,除了沸點以外沒有特別限制,例如可 以舉出醇類溶劑(一元醇和二元以上的多元醇)、酮類溶劑、醚類溶劑、酯類溶劑等。
[0104] 作為上述醇類溶劑,例如可以舉出甲醇(b . p : 65 °C )、乙醇(b . p : 78 °C )、正丙醇 (b.p:97°C)、異丙醇(b.p:82°C)、叔丁醇(b.p:82°C)等,優選可以舉出碳原子數為1~3的一 元醇等。作為上述酮類溶劑,例如可以舉出丙酮(b. P:56°C)、甲基乙基酮(b.p:80°C)、2-T 酮(b.p:79.5°C)等碳原子數為3~5的酮類化合物。作為上述醚類溶劑,例如可以舉出二乙 醚(b.p:35°C)、四氫呋喃(b.p:66°C)等。作為上述酯類溶劑,例如可以舉出乙酸乙酯(b.p: 70 °C )、乙酸異丙酯(b . p : 88~91°C )等。需要說明的是,上述"b . p"表示沸點(boi 1 ing point)〇
[0105] 上述之中,作為水混合性有機溶劑,從提高粘結劑與含噁唑啉基聚合物之間的交 聯反應性、進而提高耐溶劑性的方面出發,優選為選自碳原子數為1~3的一元醇和碳原子 數為3~5的酮類化合物中的溶劑,進而更優選為甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、丙酮。
[0106] 在本發明的底涂層中可以含有水混合性有機溶劑,底涂層中所含有的水混合性有 機溶劑的含量相對于聚合物層中的粘結劑量優選為0.0001質量%~30質量%、更優選為 0.1質量%~5質量%。
[0107] 水混合性有機溶劑會揮發,因而保存環境優選在室溫下、1周以內、密閉容器內。
[0108] 底涂層中所含有的水混合性有機溶劑的量為使用無極性柱作為柱,通過氣相色譜 法進行檢測、定量的值。
[0109] (粘結劑)
[0110] 底涂層除了含噁唑啉基聚合物以外,還可以含有粘結劑。
[0111] 作為適合底涂層的粘結劑,例如可以舉出選自聚烯烴樹脂、丙烯酸系樹脂、改性有 機硅樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、苯乙烯丁二烯橡膠樹脂等中的至少一種樹脂,其中從密 合性的方面出發,優選丙烯酸系樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、苯乙烯丁二烯橡膠樹脂,特別 優選聚氨酯樹脂。
[0112] 可用于本發明的聚烯烴樹脂為在主鏈骨架中具有聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴的樹 月旨。作為主鏈的具體例,可以舉出乙烯-(甲基)丙烯酸共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸酯-(甲 基)丙烯酸共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯-(甲基)丙烯酸共聚物、乙 烯-丙烯-(甲基)丙烯酸共聚物、乙烯-丙烯-(甲基)丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、乙烯-馬來酸酐共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸酯-馬來酸酐共聚物、乙烯-丁烯-馬來酸酐和/或-(甲 基)丙烯酸共聚物、丙烯-丁烯-馬來酸酐和/或-(甲基)丙烯酸共聚物、乙烯-氯化乙烯共聚 物、乙烯-氯化乙烯共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸共聚物等。作為能夠商業獲得的聚烯烴系樹 月旨,例如可以舉出Arobase SE-1010、SE-1013N、SD-1010、TC-4010、TD-4010(以上Unitika株 式會社制造)、把丨6吐33148、33121、38512(以上東邦化學株式會社制造)、〇161^口63113-120、5-751¥1004¥210!1(以上三井化學株式會社制造)等等。其中,在本發明中,優選使用 Arobase SE_1013N(Unitika株式會社制造)。
[0113] 可用于本發明的丙烯酸系樹脂為聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚丙烯 酸甲酯等丙烯酸類單體聚合而成的聚合物,根據需要可以為丙烯酸、甲基丙烯酸等共聚而 成的聚合物。作為能夠商業獲得的丙稀酸樹脂的示例,可以舉出AS-563A(Daicel Finechem 株式會社制造 )、Jurymer ET410、Jurymer SEK301、Jurymer FC30(日本純藥株式會社制造) 等。
[0114] 作為可用于本發明的改性有機硅樹脂,可以舉出丙烯酸與硅酮的復合樹脂。作為 能夠商業獲得的改性硅酮樹脂的具體例,可以舉出Ceranate WSA1060、WSA1070(均由DIC株 式會社制造)與H7620、H7630、H7650(均由旭化成化學株式會社制造)等。
[0115] 可用于本發明的聚酯樹脂例如有聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚(2,6_萘二甲酸 乙二醇酯)(PEN)等聚酯。作為能夠商業獲得的聚酯樹脂,可以舉出Vylonal MD1400、 MD1480、MD1245(東洋紡株式會社制造 )、Plascoat Z-221、Z-561、Z-730、RZ-142、Z-687(互 應化學工業株式會社制造)等。
[0116] 可用于本發明的聚氨酯樹脂可以使用碳酸酯系、醚系、酯系的聚氨酯樹脂,從密合 性的方面出發,特別優選自交聯型的聚氨酯樹脂。作為能夠商業獲得的聚氨酯樹脂,可以舉 出Superflex 830、460、870、420、420奶(第一工業制藥株式會社制造聚氨酯)、Hydran AP-40F、WLS-202、HW-140SF(大日本油墨化學工業株式會社制造聚氨酯)、olester UD500、 UD350(三井化學株式會社制造聚氨酯)、了&1?513〇1-615、1-6010、1-6020、1-6061、1-405、¥-5030、W-5661、W-512A-6、W-635、WPB-6601,特別是可以舉出自交聯型的 WS-6021、WS-5000、 吧-5100、'^-4000、154-5920、'^-764(三井武田化學株式會社制造)。
[0117]作為可用于本發明的苯乙烯丁二烯橡膠樹脂,可以舉出包含苯乙烯、丁二烯、丙烯 腈、甲基丙烯酸甲酯的、可商業獲得的NIPOL LX415、NIP0L LX407、NIP0L V1004、NIP0L MH8101、SX1105(日本Zeon株式會社制造)等。
[0118]底涂層中的粘結劑的含量優選為70質量%~97質量%,特別優選為75質量%~98 質量%。
[0119] (其它添加劑)
[0120] 在底涂層中,除了含噁唑啉基聚合物和粘結劑以外,也可以根據需要含有其它添 加劑。作為其它添加劑,可以舉出脂肪族蠟(平滑劑)、填料、表面活性劑等。
[0121 ]在底涂層中優選含有0.5質量%~30質量%的脂肪族蠟,更優選含有1質量%~10 質量%的脂肪族蠟。該比例少于0.5質量%時,可能得不到膜表面的平滑性;超過30質量% 時,與環狀烯烴系膜基材的密合或易粘接性可能不足。
[0122] 上述脂肪族蠟的具體例為:巴西棕櫚蠟(作為市售品,例如有Cellusol 524、中京 油脂株式會社制造)、小燭樹錯、米糠錯、日本錯、加州希蒙得木油(j〇 joba 〇i 1 )、棕櫚錯、松 香改性錯、小冠巴西棕錯(ouricury wax)、甘鹿錯、茅草錯、樹皮錯(bark wax)等植物系錯; 蜂蠟、羊毛脂、鯨蠟、蟲白蠟(ibota wax)、蟲膠蠟等動物系蠟;褐煤蠟、石蠟、純白地蠟等礦 物系蠟;固體石蠟、微晶蠟、礦脂(petrolatum)等石油系蠟;費托蠟、聚乙烯蠟、氧化聚乙烯 蠟、聚丙烯蠟、氧化聚丙烯蠟(酸化求口匕° 只)等合成烴類蠟等。進而,從易粘 接性與平滑性良好的方面考慮,更優選巴西棕櫚蠟、固體石蠟、聚乙烯蠟。特別是從環境問 題、處理容易性的方面考慮,優選水分散體。
[0123] 在底涂層中,優選含有0.1質量%~20質量%平均粒徑為0.005μπι~0.5μπι范圍的 填料。涂布層中的填料的含量少于0.1質量%時,膜的平滑性不足,難以卷取成卷狀;若超過 20質量%,則底涂層的透明性不足,可能無法用于顯示屏用途。
[0124] 作為上述填料,例如可以舉出膠態二氧化娃(作為市售品,例如有Snowtex UP、日 產化學株式會社制造)、碳酸鈣、碳酸鎂、氧化鈣、氧化鋅、氧化鎂、二氧化硅、硅酸鈉、氫氧化 錯、氧化鐵、氧化錯、硫酸鎖、^氧化欽、氧化錫、二氧化鋪、炭黑、^硫化鑰等無機微粒;丙稀 酸系交聯聚合物、苯乙烯系交聯聚合物、有機硅樹脂、氟樹脂、苯胍胺樹脂、酚樹脂、尼龍樹 月旨、聚乙烯蠟等有機微粒等。它們之中,為了避免水不溶性的固體物質在水分散液中發生沉 降,優選選擇相對密度不超過3的超微粒。
[0125] 在底涂層中,從進一步提尚涂布性的方面考慮,可以添加各種表面活性劑。作為表 面活性劑,可以使用氟系表面活性劑、非離子系表面活性劑、陽離子系表面活性劑、陰離子 系表面活性劑、硅酮系表面活性劑等各種表面活性劑。
[0126] 作為氟系表面活性劑,例如可以舉出MEGAFACE F171、MEGAFACE F172、MEGAFACE F173、MEGAFACE F176、MEGAFACE F177、MEGAFACE F141、MEGAFACE F142、MEGAFACE F143、 MEGAFACE F144、MEGAFACE R30、MEGAFACE F437、MEGAFACE F475、MEGAFACE F479、MEGAFACE F482、MEGAFACE F554、MEGAFACE F780、MEGAFACE F781(以上由DIC株式會社制造 );Fluorad FC430、Fluorad FC431、Fluorad FC171(以上由住友3M株式會社制造 );Surflon S-382、 Surflon SC-101、Surflon SC-103、Surflon SC-104、Surflon SC-105、Surflon SC1068、 Surflon SC-381、Surflon SC-383、Surflon S393、Surflon KH-40(以上由旭硝子株式會社 制造);??636、??656、??6320、??6520、??7002((1^0¥4社制造)等。
[0127] 作為非離子系表面活性劑,具體地說,可以舉出甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙 烷以及它們的乙氧基化物和丙氧基化物(例如甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧 乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油烯基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬 基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、山梨聚糖脂肪酸酯(BASF社制造的 Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2;Tetronic 304、701、704、901、904、150R1; Pionin D-6512、D-6414、D-6112、D-6115、D-6120、D-6131、D-6108-W、D-6112-W、D-6115-W、 D-6115-X、D-6120-X(竹本油脂株式會社制造);Solsperse20000(日本路博潤株式會社制 造 )、Naroacty CL95、HN-100(三洋化成工業株式會社制造)等。
[0128] 作為陽離子系表面活性劑,具體地說,可以舉出酞菁衍生物(商品名:EFKA-745、森 下產業株式會社制造)、有機硅氧烷聚合物KP341 (信越化學工業株式會社制造)、(甲基)丙 烯酸系(共)聚合物P0LYFL0W如.75、如.90、如.95(共榮社化學株式會社制造)、1001(裕商 株式會社制造)等。
[0129] 作為陰離子系表面活性劑,具體地說,可以舉出W004、W005、W017(裕商株式會社社 制造 )、Sandet BL(三洋化成工業株式會社制造 )、Lupizol A_90(日油株式會社制造)等。 [0130] 作為娃酮系表面活性劑,例如可以舉出Toray Dow Corning株式會社制造的 "Toray Silicon DC3PA"、"Toray Silicon SH7PA"、"Toray Silicon DC11PA","Toray Silicon SH21PA"、"Toray Silicon SH28PA"、"Toray Silicon SH29PA"、"Toray Silicon SH30PA"、"Toray Silicon SH8400";Momentive Performance Materials社制造的 "TSF-4440"、"TSF-4300"、"TSF-4445"、"TSF-4460"、"TSF-4452" ;信越硅酮株式會社制造的 "ΚΡ34Γ、"KF6001"、"KF6002" ;畢克化學社制造的 "BYK307"、"BYK323"、"BYK330" 等。
[0131] 表面活性劑可以僅使用1種,也可以組合使用兩種以上。
[0132] 表面活性劑的添加量相對于底涂層形成用涂布液(以下也稱為"底涂層用涂布 液")的全部質量優選為0.001質量%~2.0質量%、更優選為0.005質量%~1.0質量%。
[0133] 〈環狀烯烴系膜的制造〉
[0134] 本發明的環狀烯烴系膜可通過制作由環狀烯烴系樹脂形成的層,在由環狀烯烴系 樹脂形成的層的至少一側表面上設置底涂層來制造。更具體地說,可在由環狀烯烴系樹脂 形成的層的至少一側表面上涂布至少含有含噁唑啉基聚合物和樹脂的涂布液、使其固化, 從而形成底涂層。
[0135] 本發明的環狀烯烴系膜通過溶液制膜法、熔融制膜法的任一種方法均可制膜,但 更優選熔融制膜法。
[0136] 〈〈熔融制膜法》
[0137] 在熔融制膜法中,在制膜之前根據需要添加其它添加劑,將樹脂干燥。優選的干燥 條件為80°C以上、樹脂的Tg以下,更優選為100°C以上、Tg-5°C以下。干燥時間優選為0.5小 時以上2 4小時以下,更優選為1小時以上10小時以下。
[0138] (擠出)
[0139] 作為擠出機的種類,通常多使用設備成本比較低廉的單螺桿擠出機,有全螺線、 Madd〇Ck、Dulmage等螺桿型,優選全螺線型。此外還可使用通過變更螺桿段而在中途設置排 氣口,一邊可使不需要的揮發成分脫揮一邊擠出的雙螺桿擠出機。雙螺桿擠出機中大致分 類有同向型和異向型,它們皆可使用,但優選不易產生滯留部分、自清潔性能高的同向旋轉 型。
[0140](過濾)
[0141]為了進行樹脂中的異物過濾或避免異物所致的齒輪栗損傷,優選進行在擠出機出 口設置過濾器濾材的所謂多孔板(breaker plate)式過濾。并且,為了進一步進行高精度異 物過濾,優選設置在齒輪栗通過后裝入所謂葉片式轉盤過濾器的過濾裝置。過濾可以設置1 處過濾部來進行,此外也可以為設置多處過濾部來進行的多段過濾。過濾器濾材的過濾精 度高是優選的,但出于濾材耐壓或濾材堵塞所致的濾壓上升的考慮,過濾精度優選為15μπι ~3μηι、進一步優選為ΙΟμπι~3μηι。特別是在最終使用進行異物過濾的葉片式轉盤過濾器裝 置的情況下,從品質方面考慮,優選使用過濾精度高的濾材;為了確保耐壓、過濾器使用期 (7彳7的適性),可利用裝填片數進行調整。關于濾材的種類,從在高溫高壓下使用的方面 考慮,優選使用鋼鐵材料,在鋼鐵材料中,特別優選使用不銹鋼、鋼等,從腐蝕的方面考慮, 特別優選使用不銹鋼。作為濾材的構成,除了編織線材而成的濾材外,還可以使用例如將金 屬長纖維或者金屬粉末燒結而形成的燒結濾材,從過濾精度、過濾器壽命的方面考慮燒結 濾材。
[0142] (齒輪栗)
[0143] 優選在擠出機與塑模(夕'^只)之間設置齒輪栗,由齒輪栗供給一定量的樹脂。通 過使其轉速變動,能夠賦予上述吐出變動。關于齒輪栗,其將由驅動齒輪與從動齒輪構成的 一對齒輪以相互咬合的狀態容納其中,通過驅動驅動齒輪使兩齒輪咬合旋轉,將熔融狀態 的樹脂從外殼處形成的吸引口吸引到內腔內,將該樹脂從同樣在外殼處形成的吐出口中吐 出一定量。
[0144](模頭)
[0145] 利用如上所述構成的擠出機將樹脂熔融,必要時經由過濾機、齒輪栗將熔融樹脂 連續輸送至模頭。模頭可以使用通常使用的T模、魚尾形模頭、衣架模頭的任一類型。并且, 在緊接著模頭之前可以裝入用于提高樹脂溫度均勻性的靜態混合器。
[0146] (澆注)
[0147] 將利用上述方法由模頭擠出到片材上的熔融樹脂在流延鼓上冷卻固化,得到未拉 伸膜。此時,優選使用靜電施加法、氣刀法、氣體腔室法、真空噴嘴法、接觸輥法等方法提高 流延鼓與熔融擠出的片材的密合。這樣的密合提高法可以在熔融擠出片材的整個面實施, 也可以在一部分實施。特別是多采取被稱為邊緣釘壓(二7^^°二乂夕'')的、僅在膜的兩端部 進行密合的方法,但并不限于此。
[0148] 流延鼓更優選使用多根冷卻輥來緩緩冷卻,特別通常在使用3根冷卻輥時,可較為 良好地進行,但并不限定于此。輥的直徑優選為50mm~5000mm,在有多根輥時的間隔以面間 距計優選為〇. 3mm~300mm。
[0149] 流延鼓溫度優選為樹脂的Tg-70 °C~Tg+20°C、更優選為Tg-50°C~Tg+10 °C、進一 步優選為Tg-30 °C~Tg+5 °C。
[0150] 此外,在使用所謂接觸輥法的情況下,接觸輥表面可以為橡膠、特氟龍(注冊商標) 等樹脂,也可以為金屬輥。進而,還可以使用被稱為柔性輥這樣的輥,該柔性輥通過使金屬 輥的厚度變薄,接觸時的壓力使輥表面稍微凹陷,壓接面積變大。
[0151] 接觸輥溫度優選為Tg-70°C~Tg+20°C、更優選為Tg-50°C~Tg+10°C、進一步優選 為 Tg-30°C ~Tg+5°C。
[0152] (拉伸)
[0153] 如上所述擠出在澆注鼓上的澆注膜(未拉伸坯膜)可以沿縱向(MD)或橫向(TD)的 至少1個軸向進行拉伸。更優選沿縱向(MD)和橫向(TD)進行雙向拉伸。在沿縱向和橫向進行 雙向拉伸的情況下,可以按縱-橫、橫-縱這樣來逐次進行,也可以同時在2個方向進行拉 伸。進而,還優選按例如縱4縱-橫、縱4橫-縱、縱4橫-橫這樣進行多段拉伸。
[0154] 關于縱向拉伸,通常設置2對以上的乳輥,使加熱的坯膜(原反)在期間通過,同時 使出口側乳輥的圓周速度比入口側更快,從而可達成該縱向拉伸。
[0155] 橫向拉伸優選使用拉幅機進行。即,在用夾子夾住膜的兩端的情況下在加熱區傳 送,同時使夾子沿寬度方向擴展,從而可進行該橫向拉伸。
[0156] 關于優選的拉伸倍率,縱向、橫向分別優選為1.05倍~8倍,更優選為1.1倍~6倍, 拉伸溫度為Tg_20°C以上Tg+80°C以下、更優選為Tg以上Tg+50°C以下。由此可表現出雙折 射,可改良脆性和/或可進行薄膜化。
[0157] 在縱向、橫向拉伸前可以對膜進行預熱。預熱溫度優選為樹脂的Tg-50~Tg+30°C、 更優選為Tg-40~Tg+15°C、進一步優選為Tg-30~Tg。這樣的預熱可以與加熱輥接觸來進 行,可以使用放射熱源(IR加熱器、鹵素加熱器等)、也可以吹入熱風。
[0158] 在縱向、橫向拉伸處理后,可以對膜進行熱處理。熱處理是指在Tg+ΙΟ~Tg+50°C的 程度(進一步優選Tg+15~Tg+30°C)對膜進行1~60秒(進一步優選為2~30秒)的加熱。此 時,可以沿縱向、橫向收縮,使膜緩和。優選緩和率在縱向、橫向的一方或兩方分別為〇. 5 % 至 10%〇
[0159] 熱處理是指在Tg+ΙΟ~Tg+50°C的程度(進一步優選Tg+15~Tg+30°C)對膜實施1~ 60秒(進一步優選為2~30秒)的熱處理。熱固定優選接著橫向拉伸,在拉幅機內以夾在夾頭 的狀態進行,此時的夾頭間隔可以按橫向拉伸終止時的寬度進行,也可以進一步擴展,或者 可以收縮寬度來進行。通過實施熱處理,可以將Re、Rth調整在本發明的范圍內。
[0160] (底涂層的形成)
[0161] 本發明的底涂層例如可通過在由環狀烯烴系樹脂形成的層的至少一側表面上涂 布含有含噁唑啉基聚合物和粘結劑等的底涂層用涂布液來形成。
[0162] 作為涂布方法,例如可使用凹版涂布機、刮條涂布機等公知的涂布方法。此外,關 于進行涂布的時機,可以使用離線涂布涂布法,也可以使用在線涂布法。
[0163] 涂布液可以為使用水作為涂布溶劑的水系,也可以為使用甲基乙基酮等有機溶劑 的溶劑系。其中,從環境負荷的方面出發,優選以水為溶劑。涂布溶劑可以單獨使用一種,也 可以混合使用兩種以上。
[0164] 底涂層涂布液的涂布量優選為0.5g/m2以上、更優選為3g/m2以上。關于上限沒有特 別限制,為50g/m 2以下。
[0165] 在涂布底涂層涂布液之后,可以通過加熱使底涂層涂布液固化來形成底涂層。加 熱方法沒有特別限定,優選膜面溫度為50°C~150°C、更優選為60°C~120°C,在優選為30秒 ~5分鐘、更優選為30秒~3分鐘進行加熱即可。
[0166] 在由環狀烯烴系樹脂形成的層的至少一側表面上涂布底涂層用涂布液之前,對于 環狀烯烴系膜的涂布面,出于提高密合性的目的,可以在膜表面上進行皂化、電暈處理、火 焰處理、輝光放電處理等處理。
[0167] (卷取)
[0168] 在制膜后,優選在拉伸后對兩端進行修剪,并進行卷取。修剪的部分可以在粉碎處 理后、或者根據需要在進行造粒處理等之后,作為相同品種的膜用原料、或作為不同品種的 膜用原料進行再利用。修剪切割器可以使用旋轉切割器、剪切刀、小刀等任一類型的物品。 關于材質,可以使用碳鋼、不銹鋼的任一種。一般來說,在使用超硬刃、陶瓷刃時,刃物的壽 命長,是優選的。
[0169]此外,從防止損傷的方面考慮,優選在卷取前至少在單面貼附層壓膜。卷取張力優 選為lkg/m寬~50kg/m寬、更優選為2kg/m寬~40kg/m寬、進一步優選為3kg/m寬~20kg/m 寬。卷取張力為lkg/m寬以上時,容易將膜均勻地卷取,因而是優選的。此外,卷取張力為 50kg/m寬以下時,膜不會變成緊卷(堅卷含),能夠保持卷外觀的美觀。
[0170]〈〈溶液制膜法》
[0171](制膜)
[0172] 在通過溶液制膜法進行環狀烯烴系膜的制膜時,首先使其溶解在溶劑中。溶解在 溶劑中時的樹脂的合計濃度優選為3質量%~50質量%、更優選為5質量%~40質量%、進 一步優選為10質量%~35質量%。所得到的溶液在室溫的粘度通常為1~l,000,000(mPa · s)、優選為10~100,000(mPa · s)、進一步優選為100~50,000(mPa · s)、特別優選為1,000 ~40,000(mPa,s)〇
[0173] 作為所使用的溶劑,可以舉出:苯、甲苯、二甲苯等芳香族系溶劑;甲基溶纖劑、乙 基溶纖劑、1-甲氧基-2-丙醇等溶纖劑系溶劑;二丙酮醇、丙酮、環己酮、甲基乙基酮、4-甲 基-2-戊酮、乙基環己酮、1,2_二甲基環己烷等酮系溶劑;乳酸甲酯、乳酸乙酯等酯系溶劑; 2,2,3,3_四氟-1-丙醇、二氯甲烷、氯仿等含鹵素溶劑;四氫呋喃、二氧六環等醚系溶劑;1-戊醇、1-丁醇等醇系溶劑。
[0174] 此外,除了上述以外,還優選使用SP值(溶解度參數)通常為10~30(MPa1/2)的范圍 的溶劑。上述溶劑可以單獨使用或者將2種以上合用來使用。將2種以上溶劑合用的情況下, 優選混合物形式的SP值的范圍處于上述范圍內。此時,混合物形式的SP值的值可由其質量 比來求得,例如在為二種的混合物的情況下,在設各溶劑的質量分數為W1、W2,并且設SP值 為SP1、SP2時,可將通過下式計算出的值作為混合溶劑的SP值來求出。
[0175] SP值=W1 · SP1+W2 · SP2
[0176] 進而,為了提高環狀烯烴系膜的表面平滑性,可以添加流平劑。只要為通常的流平 劑均可使用,例如可以使用氟系非離子表面活性劑、特殊丙烯酸樹脂系流平劑、硅酮系流平 劑等。
[0177] 作為通過溶劑澆注法制造環狀烯烴系膜的方法,通常可以舉出下述方法:使用塑 模(夕''<只)或涂布機將上述溶液涂布在金屬鼓、鋼帶、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)或聚萘 二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯膜、聚四氟乙烯制帶材等基材上,其后干燥除去溶劑,將膜由 基材剝離。
[0178] 此外還可以如下制造:使用噴霧、刷毛、輥旋涂、浸漬等手段,將樹脂溶液涂布至基 材,其后干燥除去溶劑,將膜由基材剝離。需要說明的是,可以通過反復涂布來控制厚度或 表面平滑性等。
[0179]另外,在使用聚酯膜作為基材的情況下,可以使用表面處理后的膜。作為表面處理 的方法,可以舉出通常實施的親水化處理方法,例如通過涂覆或層疊來層積丙烯酸系樹脂 或含磺酸鹽基的樹脂的方法,或者通過電暈放電處理等提高膜表面的親水性的方法等。
[0180] (干燥)
[0181] 關于上述溶劑澆注法的干燥(溶劑除去)工序沒有特別限制,可以利用通常使用的 方法、例如利用藉由多個輥使其在干燥爐中通過的方法等來實施,在干燥工序中,在伴隨著 溶劑的蒸發產生氣泡時,膜的特性會顯著降低,因而為了避免這種情況,優選設干燥工序為 2段以上的多段工序,對各工序的溫度或者風量進行控制。
[0182] 此外,環狀烯烴系膜中的殘留溶劑量通常為10質量%以下。由此,通過減少殘留溶 劑,能夠更進一步減輕粘著痕跡障礙(粘著跡故障),因而是優選的。
[0183] (拉伸)
[0184] 如上所述得到的環狀烯烴系膜優選沿縱向(MD)或橫向(TD)的至少1個軸向被拉 伸,更優選沿縱向(MD)和橫向(TD)被雙向拉伸。作為拉伸方法,可以采用熔融制膜時的拉伸 方法。
[0185] 在拉伸后,可以與熔融制膜時同樣地形成底涂層。
[0186] 〈導電性膜〉
[0187] 本發明的環狀烯烴系膜可以用作導電性膜。本發明的導電性膜具有導電層和作為 透明樹脂膜的本發明的環狀烯烴系膜。導電層可以形成為層狀,但優選以具有間歇部的方 式來形成。間歇部是指未設置導電層的部分,優選間歇部的外周被導電層包圍著。在本發明 中,也將以具有間歇部的方式形成導電層的情況稱為以圖案狀或網狀形成導電層。作為導 電層,例如可示例出日本特開2013-1009號公報、日本特開2012-216550號公報、日本特開 2012-151095號公報、日本特開2012-25158號公報、日本特開2011-253546號公報、日本特開 2011-197754號公報、日本特開2011-34806號公報、日本特開2010-198799號公報、日本特開 2009-277466號公報、日本特開2012-216550號公報、日本特開2012-151095號公報、國際公 開2010/140275號小冊子、國際公開2010/114056號小冊子所記載的導電層。
[0188] 本發明中使用的導電層更優選含有銀和親水性樹脂。作為水溶性樹脂,例如可以 舉出明膠、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、淀粉等多糖類、纖維素及其衍生物、聚環 氧乙烷、聚乙烯胺、殼聚糖、聚賴氨酸、聚丙烯酸、聚藻酸、聚透明質酸、羧基纖維素等。根據 官能團的離子性,它們具有中性、陰離子性、陽離子性的性質。它們之中,特別優選明膠。
[0189] 此外,本發明中使用的導電層可以使用有機性(例如多硫醇等導電性樹脂)、無機 性(例如ΙΤ0等半導體、金、銀、銅等金屬)的導電層,它們之中,優選導電性高的無機性導電 層,進一步優選金屬導電層。
[0190] 作為使用導電性樹脂的導電層,可以使用W012/061967號、W02012/120949號、 W02011/105148號、W02011/093332號、W02010/092953號、W02006/070801號、日本專利 53663953號、日本專利5298491號等中記載的導電層。
[0191] 作為使用無機半導體的導電層,可以使用W02013/175807號、W02013/111672號、 W02013/105654 號、W02013/099736 號、W02012/074021號、日本專利5213694號、日本專利 5118309號、日本專利4486715號、日本專利4066132號等中記載的導電層。
[0192] 作為使用金屬的導電層,可以使用W02013/141275號、W02013/099736號、W02012/ 176407號、W02011/027583號、日本專利5142223號、日本專利5112492號、日本專利4893587 號、日本專利4733184號、日本專利3960850號、日本專利5129711號、日本專利4914309號、日 本專利3785086號等中記載的導電層。
[0193] 本發明中使用的導電層特別優選使用鹵化銀感光材料來形成。在使用鹵化銀感光 材料的情況下,根據感光材料和顯影處理的形式,導電層的制造方法包括如下3種形式。
[0194] (1)對不包含物理顯影核的感光性鹵化銀黑白感光材料進行化學顯影或熱顯影, 在上述感光材料上形成金屬銀部(以下也稱為"顯影銀")的方式。
[0195] (2)對于在鹵化銀乳劑層中包含物理顯影核的感光性鹵化銀黑白感光材料進行溶 解物理顯影,在上述感光材料上形成金屬銀部的方式。
[0196] (3)使不包含物理顯影核的感光性鹵化銀黑白感光材料與具有包含物理顯影核的 非感光性層的圖像接收板重合,進行擴散轉印顯影,在非感光性圖像接收板上形成金屬銀 部的方式。
[0197] 上述方式(1)是一體型黑白顯影型,在感光材料上形成光透過性導電膜等透光性 導電性膜。所得到的顯影銀為化學顯影銀或熱顯影銀,從作為較高比表面積的纖絲方面考 慮,其在后續的鍍覆或物理顯影過程的活性高。
[0198] 上述方式(2)為在曝光部中通過物理顯影核附近的鹵化銀顆粒被溶解并沉積在顯 影核上,由此在感光材料上形成光透過性導電性膜等透光性導電性膜。這也是一體型黑白 顯影型。由于顯影作用是在物理顯影核上的析出,因而為高活性的,但顯影銀是比表面積較 小的球形。
[0199] 上述方式(3)為在未曝光部中通過鹵化銀顆粒溶解并擴散而沉積到圖像接收板上 的顯影核上,從而在圖像接收板上形成光透過性導電性膜等透光性導電性膜。其是所謂的 分離型(irZP-卜夕<7°),為將圖像接收板從感光材料剝離來進行使用的方式。
[0200] 在任一方式中,均可選擇負型顯影處理和反轉顯影處理的任一種顯影,需要說明 的是,在擴散轉印顯影方式的情況下,可以通過使用直接正型(才一卜求、2型)感光材料作為 感光材料來進行負型顯影處理。
[0201] 此處所說的化學顯影、熱顯影、溶解物理顯影、擴散轉印顯影為本領域通常使用的 術語的含義,在照片化學的一般教科書、例如在菊地真一著《寫真化學》(共立出版社、1955 年發行)、C.E.K.Mees編"The Theory of Photographic Processes,4th ed,(Mcmillan 社、1977年刊行)中有說明。本發明為液處理的發明,但也作為其它顯影方式,也可以參考應 用熱顯影方式的技術。例如可以應用日本特開2004-184693號、日本特開2004-334077號、日 本特開2005-010752號的各公報、日本特開2006-154700號公報的各說明書所記載的技術。
[0202] 在本發明中作為導電層的銀鹽乳劑層(使用鹵化銀感光材料形成的層)除了含有 銀鹽和粘結劑外,還可以含有溶劑、染料等添加劑。作為銀鹽,可以舉出鹵化銀等無機銀鹽 和乙酸銀等有機銀鹽。在本發明中,優選使用作為光傳感器的特性優異的鹵化銀。
[0203] 銀鹽乳劑層的形成中所用的溶劑沒有特別限定,例如可以舉出水、有機溶劑(例如 甲醇等醇類、丙酮等酮類、甲酰胺等酰胺類、二甲基亞砜等亞砜類、乙酸乙酯等酯類、醚類 等)、離子性液體、以及它們的混合溶劑。
[0204] 在銀鹽乳劑層上可以設置保護層。本發明中的保護層是指明膠或高分子聚合物之 類的由粘結劑形成的層,為了表現出防止擦傷或改良力學特性的效果,保護層可以在具有 感光性的銀鹽乳劑層上形成。其厚度優選為〇.5μπι以下。保護層形成用組合物的涂布方法和 形成方法沒有特別限定,可以適當選擇公知的涂布方法和形成方法。例如,關于保護層,可 以參照日本特開2008-250233號公報等的記載。
[0205] 可在環狀烯烴系膜的整個面上賦予導電層,導電層也可以圖案化成細線等。
[0206] 若進行圖案化,則容易得到高透明性,是優選的;在利用Ag進行圖案化時,透明性、 導電性優異,是特別優選的。Ag富于柔軟性,即使在上述凹凸上形成,也不容易斷線,是更為 優選的。
[0207]在Ag配線中,更優選由鹵化銀形成的配線。其通過曝光而進行圖案化,因而容易進 行細線化,容易承受上述表面凹凸所致的模糊效果(blur effect),能夠進一步提高透明 性。作為由鹵化銀形成的Ag配線,例如可以舉出日本特開2012-234659號公報、日本特開 2012-230665號公報、日本專利5347037號、日本特開2012-230664號公報、W02012/098992 號、日本特開2012-221891號公報、日本特開2012-218402號公報、日本特開2012-198879號 公報、W02012/121064號、日本特開2012-194887號公報、日本專利5345980號、日本特開 2012-6377號公報、日本特開2012-4042號公報、日本特開2009-259479號公報、日本特開 2006-352073號公報等。
[0208] 作為細線幅寬,優選為0. Ιμπι~50μηι、更優選為0.3μηι~30μηι、進一步優選為0.515μ m。細線幅寬小于O.lwii時,細線可能易于斷裂;超過50μπι時,不容易表現出上述表面凹凸所 致的模糊效果(blur effect)。
[0209] 進而,在本發明中,也可以設置底涂層或抗靜電層之類的其它功能層。作為底涂 層,可以應用日本特開2008-250233號公報的〈0021〉~〈0023〉段的底涂層。此外,作為抗靜 電層,可以應用日本特開2008-250233號公報的〈0012>、〈0014>~〈0020〉段的抗靜電層。
[0210] 〈觸控面板〉
[0211] 本發明的環狀烯烴系膜或導電性膜可以在觸控面板中使用。
[0212] 本發明的具有環狀烯烴系膜或導電性膜的觸控面板沒有特別限制,可以根據目的 適宜選擇,例如可以舉出表面型靜電容量方式觸控面板、投影型靜電容量方式觸控面板、電 阻膜式觸控面板等。需要說明的是,觸控面板包括所謂的觸控傳感器和觸控板(touch pad)。觸控面板中的觸控面板傳感器電極部的層構成可以為2片透明電極貼合而成的貼合 方式、在1片基板的兩面具有透明電極的方式、單面跳線(片面^十^八一)或通孔(只少一 本一少)方式、或者單面積層方式的任一種。并且,在投影型靜電電容式觸控面板中,與DC驅 動相比,優選AC驅動,更優選電極上的電壓施加時間少的驅動方式。
[0213]〈防反射膜〉
[0214] 本發明的環狀烯烴系膜可以作為防反射膜的支持體使用。在如液晶顯示裝置 (LCD)這樣的高精細、高品位化的圖像顯示裝置的情況下,優選使用下述防反射膜,該防反 射膜除了具有上述防塵性外,還具有為了防止顯示面的外光反射所致的對比度降低的或者 為了防止像的映入的、透明且具有抗靜電性能。
[0215] 〈光學膜〉
[0216] 本發明的環狀烯烴系膜可作為光學膜使用。具體地說,可以舉出將環狀烯烴系膜 作為支持體、在支持體上形成光學各向異性層或硬涂層等的光學膜,或作為偏振光膜保護 膜的光學膜等。
[0217] 光學各向異性層、硬涂層可以使用公知的光學各向異性層或硬涂層,例如可以舉 出日本特開2012-215704號公報、日本特開2013-231955號公報所記載的光學各向異性層或 硬涂層等。
[0218] 〈印刷電子用基材膜〉
[0219] 印刷電子是利用印刷技術來形成電子電路等的技術,本發明的環狀烯烴系膜可以 作為印刷電子用基材膜使用。
[0220] 例如可以使用日本特開2010-87146公報所記載的印刷技術來形成電子電路。
[0221] 〈阻隔膜〉
[0222] 本發明的環狀烯烴系膜可以作為阻隔膜使用。具體地說,可以舉出將環狀烯烴系 膜作為支持體、在支持體上具有阻隔層的阻隔膜。
[0223]阻隔層可以使用公知的阻隔層,例如可以舉出日本特開2013-202972號公報所記 載的阻隔層等。
[0224] 〈偏振片〉
[0225] 本發明的環狀烯烴系膜或光學膜可以在偏振片中使用。本發明的偏振片具有偏振 元件和設置在上述偏振元件的兩側的保護膜,作為上述保護膜的至少一者,可以使用本發 明的環狀烯烴系膜或光學膜。環狀烯烴系膜或光學膜中,與具有光散射層或抗反射層的一 側呈相反側的透明支持體的表面、即與偏振元件貼合的一側的表面相對于水的接觸角優選 處于10~50度的范圍。例如,可以在本發明的環狀烯烴系膜或光學膜的單面設置粘著層,將 其配置在顯示屏的最外表面。
[0226] 〈顯示裝置〉
[0227] 本發明的環狀烯烴系膜、光學膜或偏振片可用于液晶顯示裝置(LCD)、等離子體顯 示板(PDP)、電致發光顯示屏(ELD)或陰極管顯示裝置(CRT)等各種顯示裝置中。本發明的環 狀烯烴系膜、光學膜或偏振片優選配置在圖像顯示裝置的顯示畫面的視認側。
[0228] 〈〈液晶顯示裝置》
[0229]本發明的環狀烯烴系膜、光學膜或偏振片特別優選用于液晶顯示裝置等顯示屏的 最表層。液晶顯示裝置具有液晶盒及配置在其兩側的二片偏振片,液晶盒在二片電極基板 之間負載了液晶。進而,光學各向異性層在液晶盒與一側的偏振片之間配置一片、或者有時 在液晶盒與雙側的偏振片之間配置兩片。
[0230]液晶盒優選為TN模式、VA模式、0CB模式、IPS模式或ECB模式。
[0231]在TN模式的液晶盒中,在無電壓施加時,棒狀液晶性分子實質上水平取向,進而在 60~120°扭轉取向。
[0232] TN模式的液晶盒通常多被用作彩色TFT液晶顯示裝置,在大量文獻中有記載。
[0233] 在VA模式的液晶盒中,在無電壓施加時,棒狀液晶性分子實質上垂直取向。
[0234] VA模式的液晶盒包括(1)棒狀液晶性分子在無電壓施加時實質上垂直取向,在施 加電壓時實質上水平取向(記載于日本特開平2-176625號公報中)的狹義VA模式液晶盒,此 外還包括:(2)為了擴大可視角而將VA模式多域化而成的(MVA模式)的液晶盒(記載于 SID97、Digest of Tech.Papers(預稿集)28(1997)845中);(3)棒狀液晶性分子在無電壓施 加時實質上垂直取向、在施加電壓時呈扭曲多域化取向的模式(n-ASM模式)液晶盒(記載于 日本液晶討論會的預稿集58~59(1998));以及(4)51]1^41¥414莫式的液晶盒(發表于1^〇0 International 98)〇
[0235] 0CB模式的液晶盒是棒狀液晶性分子在液晶盒的上部和下部實質上沿相反方向 (對稱)取向的彎曲取向模式液晶盒,在美國專利第4583825號、美國專利第5410422號的各 說明書中有公開。由于棒狀液晶性分子在液晶盒的上部和下部對稱取向,因而彎曲取向模 式的液晶盒具有自體光學補償功能。因此,該液晶模式被稱為 0CB(光學補償彎曲, Optically Compensatory Bend)液晶模式。彎曲取向模式的液晶顯示裝置具有響應速度快 的優點。
[0236] IPS模式的液晶盒為對向列液晶施加橫向電場來進行切換的方式,其具體記載于 Proc·IDRC(Asia Display'95),p·577-580和p·707-710。
[0237] ECB模式的液晶盒中,在無電壓施加時,棒狀液晶性分子實質上水平取向。ECB模式 為具有最單純結構的液晶顯示模式之一,例如在日本特開平5-203946號公報中有詳細記 載。
[0238] 〈〈等離子體顯示板(PDP)?
[0239]等離子體顯示板(PDP)通常由氣體、玻璃基板、電極、電極引線材料、厚膜印刷材 料、熒光體來構成。玻璃基板為前面玻璃基板和后面玻璃基板兩片。在二片玻璃基板上形成 電極和絕緣層。在后面玻璃基板上進一步形成熒光體層。將二片玻璃基板組合,在其間封入 氣體。
[0240]等離子體顯示板(PDP)可以使用已有的市售品。關于等離子體顯示板,在日本特開 平5-205643號、日本特開平9-306366號的各公報中有記載。
[0241]在等離子體顯示板的前面可配置前面板。前面板優選具備用于保護等離子體顯示 板的充分強度。前面板也可以與等離子體顯示板之間設置間隙來使用,也可以直接貼在等 離子體顯示屏主體上來使用。
[0242]在等離子體顯示板之類的圖像顯示裝置中,可以將濾光器直接粘貼在顯示屏表 面。此外,在顯示屏前設置前面板的情況下,也可以在前面板的表側(外側)或背側(顯示屏 側)粘貼濾光器。
[0243] 〈〈有機EL元件》
[0244] 本發明的環狀烯烴系膜可以作為有機EL元件等基板(基材膜)或保護膜使用。在將 本發明的膜用于有機EL元件等中的情況下,可以應用日本特開平11-335661號、日本特開平 11-335368號、日本特開2001-192651號、日本特開2001-192652號、日本特開2001-192653 號、日本特開2001-335776號、日本特開2001-247859號、日本特開2001-181616號、日本特開 2001-181617號、日本特開2002-181816號、日本特開 2002-181617 號、日本特開2002-056976 號等各公報中記載的內容。此外,優選與日本特開2001-148291號、日本特開2001-221916 號、日本特開2001-231443號等各公報記載的內容一起使用。
[0245] 【實施例】
[0246] 下面舉出實施例和比較例進一步具體說明本發明的特征。只要不脫離本發明的宗 旨,以下實施例中所示的材料、用量、比例、處理內容、處理過程等可以適宜變更。因此,不應 解釋為本發明的范圍受到以下所示具體例的限定。
[0247] [實施例1]
[0248] 〈底涂層形成用涂布液的制備〉
[0249] 將下述成分混合,來制備涂布液。
[0250] ?氨基甲酸酯系粘結劑3.90質量份
[0251] (Takelac WS5100、三井武田化學株式會社制造、濃度30質量%)
[0252] ?含噁唑啉基的水分散性聚合物0.32質量份
[0253] (Epocros K-2010E(具有噁唑啉基和聚氧亞烷基鏈的丙烯酸聚合物)、Tg = _50°C、 日本觸媒株式會社制造、固體成分:40質量% )
[0254] ?膠態二氧化硅0.27質量份
[0255] (Snowtex UP、日產化學株式會社制造、固體成分:10質量%水稀釋)
[0256] ?平滑劑:巴西棕櫚蠟1.67質量份
[0257] (Cellusol 524、中京油脂株式會社制造、固體成分:3質量%水稀釋)
[0258] ?表面活性劑A:表面活性劑1.67質量份
[0259] (Naroacty CL95、三洋化成工業株式會社制造、固體成分:1質量%水溶液)
[0260] ?表面活性劑B:表面活性劑2.67質量份
[0261] (Lupizol A-90、日油株式會社制造、固體成分:1質量%水溶液)
[0262] ?蒸餾水89.50質量份 [0263]〈底涂層的層積〉
[0264] 在作為基材使用的環狀烯烴系膜ARTON D4540(JSR株式會社制造、膜厚40μπι)的一 側表面上以8kJ/m2的條件進行電暈放電處理。接下來,在進行了基材的電暈放電處理的一 側表面上按照干燥后的膜厚為90nm涂布混合后的底涂層用涂布液,在膜面溫度90°C下干燥 1分鐘,得到形成了底涂層的環狀烯烴系膜。
[0265] 〈防光暈(AH)層和乳劑層(導電層)的層積〉
[0266](防光暈(AH)層)
[0267] 制備相對于明膠100g含有84g下述固體分散染料A的防光暈(AH)層形成用涂布液。
[0268] ?固體分散染料A
[0269] 【化3】
[0270]
[0271] (鹵化銀感光材料)
[0272]制備相對于水介質中的Ag 150g含有明膠10.0g、含有球相當徑平均為Ο.?μπι的碘 溴氯化銀顆粒(1 = 0.2摩爾%、Br = 40摩爾% )的導電層形成用的乳劑(鹵化銀感光材料)。 并且在該乳劑中按照濃度為10-7(摩爾/摩爾銀)添加 K3Rh2BrdPK2IrCl6,在溴化銀顆粒中摻 雜Rh離子和Ir離子。在該乳劑中添加 Na2PdCl4,進一步使用氯金酸和硫代硫酸鈉進行金-硫 增敏。
[0273](帶導電層的膜)
[0274] 在所制作的形成了底涂層的環狀烯烴系膜上,與明膠硬膜劑一起使用防光暈(AH) 層形成用涂布液和乳劑(鹵化銀感光材料),按照環狀烯烴層/底涂層/AH層/乳劑層的順序 同時進行多層涂布。此時,使得乳劑層中的銀的涂布量(涂布銀量)按銀換算為7g/m 2,并使 AH層的膜厚為Ιμπι,使乳劑層中的Ag/明膠體積比為2/1。在寬30cm的環狀烯烴系膜上以25cm 的寬度進行20m涂布,按照留下涂布中央部24cm的方式,將環狀烯烴系膜的兩端分別切下 3cm,得到形成了卷狀乳劑層(導電層)的環狀烯烴系膜(帶導電層的膜)。
[0275] 將所得到的帶導電層的膜作為實施例1的膜。
[0276] [實施例2和3]
[0277] 在實施例 1 中,將Epocros K-2010E分別替換為Epocros K_2020E(Tg = 0°C、日本觸 媒株式會社制造)或Epocros K-2030E(Tg = 50°C、日本觸媒株式會社制造),除此以外,與實 施例1同樣地得到實施例2和3的膜。
[0278] [實施例4]
[0279]在實施例1中,將粘結劑由氨基甲酸酯系粘結劑WS5100變更為烯烴系粘結劑 SE1010,將所使用的含噁唑啉基聚合物由Epocros K-2010E變更為含噁唑啉基的水溶性聚 合物WS-700,按下述成分進行混合,除此以外,與實施例1同樣地得到實施例4的膜。
[0280] ?烯烴系粘結劑5.73質量份
[0281] (Arobase SE1010、Unitika株式會社制造、濃度20質量%)
[0282] ?含噁唑啉基的水溶性聚合物0.51質量份
[0283] (Epocros WS-700、Tg = 50°C、日本觸媒株式會社制造、固體成分:25質量%)
[0284] ?膠態二氧化硅0.26質量份
[0285] (Snowtex UP、日產化學株式會社制造、固體成分:10質量%水稀釋)
[0286] ?平滑劑:巴西棕櫚蠟1.63質量份
[0287] (Cellusol 524、中京油脂株式會社制造、固體成分:3質量%水稀釋)
[0288] ?表面活性劑A:表面活性劑1.63質量份
[0289] (Naroacty CL95、三洋化成工業株式會社制造、固體成分:1質量%水溶液)
[0290] ?表面活性劑B:表面活性劑2.61質量份
[0291] (Lupizol A-90、日油株式會社制造、固體成分:1質量%水溶液)
[0292] ?蒸餾水87.62質量份
[0293] [實施例5]
[0294] 在實施例4中,將粘結劑由烯烴系粘結劑SE1010變更為丙烯酸系粘結劑AS-563A (Daicel Finechem株式會社制造、濃度40質量% ),按下述成分進行混合,除此以外,與實施 例4同樣地得到實施例5的膜。
[0295] ?丙烯酸系粘結劑2.95質量份
[0296] (AS-563A、Daicel Finechem株式會社制造、濃度40質量%)
[0297] ?含噁唑啉基的水溶性聚合物0.52質量份
[0298] (Epocros WS-700、Tg = 50°C、日本觸媒株式會社制造、固體成分:25質量%)
[0299] ?膠態二氧化硅0.27質量份
[0300] (Snowtex UP、日產化學株式會社制造、固體成分:10質量%水稀釋)
[0301] ?平滑劑:巴西棕櫚蠟1.68質量份
[0302] (Cellusol 524、中京油脂株式會社制造、固體成分:3質量%水稀釋)
[0303] ?表面活性劑A:表面活性劑1.68質量份
[0304] (Naroacty CL95、三洋化成工業株式會社制造、固體成分:1質量%水溶液)
[0305] ?表面活性劑B:表面活性劑2.69質量份
[0306] (Lupizol A-90、日油株式會社制造、固體成分:1質量%水溶液)
[0307] ?蒸餾水90.20質量份 [0308][實施例6]
[0309] 在實施例4中,將粘結劑由烯烴系粘結劑SE1010變更為硅酮系粘結劑Ceranate WSA1070(DIC株式會社制造、濃度40質量%),按下述成分進行混合,除此以外,與實施例4同 樣地得到實施例6的膜。
[0310] ?硅酮系粘結劑2.95質量份
[0311] (Ceranate WSA1070、DIC株式會社制造、濃度40質量%)
[0312] ?含噁唑啉基的水溶性聚合物0.52質量份
[0313] (Epocros WS-700、Tg = 50°C、日本觸媒株式會社制造、固體成分:25質量%)
[0314] ?膠態二氧化硅0.27質量份
[0315] (Snowtex UP、日產化學株式會社制造、固體成分:10質量%水稀釋)
[0316] ?平滑劑:巴西棕櫚蠟1.68質量份
[0317] (Cellusol 524、中京油脂株式會社制造、固體成分:3質量%水稀釋)
[0318] ?表面活性劑A:表面活性劑1.68質量份
[0319] (Naroacty CL%、三洋化成工業株式會社制造、固體成分:1質量%水溶液)
[0320] ?表面活性劑B:表面活性劑2.69質量份
[0321] (Lupizol A-90、日油株式會社制造、固體成分:1質量%水溶液)
[0322] ?蒸餾水90.20質量份 [0323][實施例7]
[0324]在實施例4中,將粘結劑由烯烴系粘結劑SE1010變更為聚酯系粘結劑Vylonal MD1245(東洋紡株式會社制造、濃度34質量% ),按下述成分進行混合,除此以外,與實施例4 同樣地得到實施例7的膜。
[0325] ?聚酯系粘結劑3.45質量份
[0326] (Vylonal MD1245、東洋紡株式會社制造、濃度34質量% )
[0327] ?含噁唑啉基的水溶性聚合物0.52質量份
[0328] (Epocros WS-700、Tg = 50°C、日本觸媒株式會社制造、固體成分:25質量%)
[0329] ?膠態二氧化硅0.27質量份
[0330] (Snowtex UP、日產化學株式會社制造、固體成分:10質量%水稀釋)
[0331] ?平滑劑:巴西棕櫚蠟1.67質量份
[0332] (Cellusol 524、中京油脂株式會社制造、固體成分:3質量%水稀釋)
[0333] ?表面活性劑A:表面活性劑1.67質量份
[0334] (Naroacty CL95、三洋化成工業株式會社制造、固體成分:1質量%水溶液)
[0335] ?表面活性劑B:表面活性劑2.68質量份
[0336] (Lupizol A-90、日油株式會社制造、固體成分:1質量%水溶液)
[0337] ?蒸餾水89.74質量份
[0338] [實施例8]
[0339]在實施例4中,將粘結劑由烯烴系粘結劑SE1010變更為苯乙烯丁二烯系粘結劑 NIP0L LX415(日本Zeon株式會社制造、濃度43質量%),按下述成分進行混合,除此以外,與 實施例4同樣地得到實施例8的膜。
[0340] ?苯乙烯丁二烯系粘結劑2.75質量份
[0341] (NIP0L LX415、日本Zeon株式會社制造、濃度43質量%)
[0342] ?含噁唑啉基的水溶性聚合物0.53質量份
[0343] (Epocros WS-700、Tg = 50°C、日本觸媒株式會社制造、固體成分:25質量%)
[0344] ?膠態二氧化硅0.27質量份
[0345] (Snowtex UP、日產化學株式會社制造、固體成分:10質量%水稀釋)
[0346] ?平滑劑:巴西棕櫚蠟1.69質量份
[0347] (Cellusol 524、中京油脂株式會社制造、固體成分:3質量%水稀釋)
[0348] ?表面活性劑A:表面活性劑1.69質量份
[0349] (Naroacty CL95、三洋化成工業株式會社制造、固體成分:1質量%水溶液)
[0350] ?表面活性劑B:表面活性劑2.70質量份
[0351] (Lupizol A-90、日油株式會社制造、固體成分:1質量%水溶液)
[0352] ?蒸餾水90.39質量份
[0353][實施例9]
[0354]在實施例4中,將粘結劑由烯烴系粘結劑SE1010變更為氨基甲酸酯系粘結劑 Takelac WS5100(三井武田化學株式會社制造、濃度30質量%),按下述成分進行混合,除此 以外,與實施例4同樣地得到實施例9的膜。
[0355] ?氨基甲酸酯系粘結劑3.89質量份
[0356] (Takelac WS5100、三井武田化學株式會社制造、濃度30質量%)
[0357] ?含噁唑啉基的水溶性聚合物0.52質量份
[0358] (Epocros WS-700、Tg = 50°C、日本觸媒株式會社制造、固體成分:25質量%)
[0359] ?膠態二氧化硅0.27質量份
[0360] (Snowtex UP、日產化學株式會社制造、固體成分:10質量%水稀釋)
[0361] ?平滑劑:巴西棕櫚蠟1.67質量份
[0362] (Cellusol 524、中京油脂株式會社制造、固體成分:3質量%水稀釋)
[0363] ?表面活性劑A:表面活性劑1.67質量份
[0364] (Naroacty CL95、三洋化成工業株式會社制造、固體成分:1質量%水溶液)
[0365] ?表面活性劑B:表面活性劑2.66質量份
[0366] (Lupizol A-90、日油株式會社制造、固體成分:1質量%水溶液)
[0367] ?蒸餾水89.32質量份
[0368] [實施例10~14]
[0369] 在實施例9中,將所使用的粘結劑和含噁唑啉基聚合物的含量變更為下述表1記載 的含量,除此以外,與實施例9同樣地分別得到實施例10~14的膜。
[0370] [實施例15~20]
[0371] 在實施例12中,按照干燥后的膜厚為下述表1所記載的膜厚來涂布底涂層形成用 組合物,除此以外,與實施例12同樣地分別得到實施例15~20的膜。需要說明的是,在實施 例20中,在底涂層涂布后以膜輥的形式進行卷取時,發生了卷繞褶皺(卷含シフ)。
[0372][實施例21]
[0373] 在實施例9中,將含噁唑啉基聚合物由Epocros WS700變更為Epocros WS300(Tg = 90°C),按下述成分進行混合,除此以外,與實施例9同樣地得到實施例15的膜。
[0374] ?氨基甲酸酯系粘結劑3.86質量份
[0375] (Takelac WS5100、三井武田化學株式會社制造、濃度30質量%)
[0376] ?含噁唑啉基的水溶性聚合物1.29質量份
[0377] (Epocros WS_300、Tg = 90°C、日本觸媒株式會社制造、固體成分:10質量%)
[0378] ?膠態二氧化硅0.27質量份
[0379] (Snowtex UP、日產化學株式會社制造、固體成分:10質量%水稀釋)
[0380] ?平滑劑:巴西棕櫚蠟1.65質量份
[0381] (Cellusol 524、中京油脂株式會社制造、固體成分:3質量%水稀釋)
[0382] ?表面活性劑A:表面活性劑1.65質量份
[0383] (Naroacty CL95、三洋化成工業株式會社制造、固體成分:1質量%水溶液)
[0384] ?表面活性劑B:表面活性劑2.64質量份
[0385] (Lupizol A-90、日油株式會社制造、固體成分:1質量%水溶液)
[0386] ?蒸餾水88.63質量份
[0387] [比較例1~2]
[0388] 在實施例9中,將含噁唑啉基聚合物的含量變更為下述表2記載的含量,除此以外, 與實施例9同樣地分別得到比較例1~3的膜。
[0389] [比較例3]
[0390] 將底涂層的厚度變更為下述表2記載的厚度,除此以外,與比較例2同樣地得到比 較例3的膜。
[0391] [比較例4~9]
[0392] 在實施例4~9中,將含噁唑啉基聚合物由Epocros WS-700變更為水性碳化二亞胺 Carbodilite V-02-L2(日清紡紗株式會社制造、將濃度40質量%水稀釋成25質量%),除此 以外,與實施例4~9同樣地分別得到比較例4~9的膜。
[0393] [比較例 10]
[0394] 在實施例9中,將含噁唑啉基聚合物由Epocros WS-700變更為含環氧基的水溶性 聚合物Modepics 302(荒川工業株式會社制造、將濃度33質量%水稀釋成25質量%),除此 以外,與實施例9同樣地得到比較例10的膜。
[0395] [比較例11]
[0396] 在實施例9中,將含噁唑啉基聚合物由Epocros WS-700變更為含異氰酸酯基的水 溶性聚合物Elastron E-37(第一工業制藥株式會社制造、濃度25質量%),除此以外,與實 施例9同樣地得到比較例11的膜。
[0397] [比較例I2]
[0398] 除了不使用含噁唑啉基聚合物(交聯劑)以外,與實施例9同樣地得到比較例12的 膜。
[0399] [比較例13]
[0400] 在實施例9中,將含噁唑啉基聚合物由Epocros WS-700變更為含噁唑啉基的水溶 性低分子化合物(低分子水溶性噁唑啉單體V0Z0、2-乙烯基-2-噁唑啉、興人株式會社制造、 濃度25質量%水稀釋),除此以外,與實施例9同樣地得到比較例13的膜。低分子水溶性噁唑 啉單體V0Z0的分子量為97。
[0401 ][評價]
[0402]對于實施例1~21和比較例1~13的各膜的干燥密合性和濕潤密合性進行如下評 價。
[0403](干燥密合性)
[0404] 所制作的各實施例以及比較例的膜是帶導電層的膜,將各實施例以及比較例的膜 裁剪成12cmX 3cm的尺寸,制作樣品。將所制作的樣品在23°C、相對濕度50%的條件下保持1 小時后,在乳劑層之上粘貼聚酰亞胺帶(No. 541、住友3M社制造),接下來,按剝離角度為180 度的方式用手剝離聚酰亞胺帶。通過對于在膜上產生剝落的面積進行計算,基于下述5個等 級對干燥密合性進行評價。將等級3以上的膜判斷為實用上優選的水平。更優選為等級4以 上、特別優選為等級5。
[0405] 需要說明的是,各實施例以及比較例的膜所產生的剝落主要為底涂層與防光暈層 之間的剝落。
[0406] 5:完全無剝落
[0407] 4:相對于粘貼聚酰亞胺帶的面積,剝落面積小于30%。
[0408] 3:相對于粘貼聚酰亞胺帶的面積,剝落面積為30%以上且小于60%。
[0409] 2:相對于粘貼聚酰亞胺帶的面積,剝落面積為60%以上且小于90%。
[0410] 1:相對于粘貼聚酰亞胺帶的面積,剝落面積為90%以上。
[0411] (濕潤密合性(濕潤劃痕))
[0412] 所制作的各實施例以及比較例的膜為帶導電層的膜,將各實施例以及比較例的膜 在50 °C的烘箱中保持32小時。其后裁剪成12cm X 3cm的尺寸,在24°C的蒸餾水中浸漬2分鐘, 其后在膜未干燥的情況下立即進行劃痕試驗。劃痕試驗使用連續加載式劃痕強度試驗機 (HEID0N-18型、新東科學社制造),在藍寶石針I.Ommq)、荷重200g的條件下進行長度10cm的 劃痕,確認有無剝落。設剝落長度為l〇cm的情況的負荷為0g,設完全無剝落的情況的負荷為 200g,由剝落產生的長度計算剝落產生時的負荷。負荷為60g以上判斷為可實用的水平。負 荷優選為95g以上,負荷更優選為150g以上。
[0413]需要說明的是,各實施例以及比較例的膜上所產生的剝落主要為基材與底涂層之 間的剝落、或底涂層與防光暈層之間的剝落。
[0414]
[0415]
[0416] 由上述表1和表2可知,在底涂層含有含噁唑啉基聚合物的實施例1~21中,干燥密 合性和濕潤密合性這兩者均優異。另外可知,在底涂層不含有含噁唑啉基聚合物的比較例4 ~13中,干燥密合性劣于實施例,并且在一部分比較例中,濕潤密合性劣于實施例。
[0417] 【工業實用性】
[0418] 利用本發明,能夠得到干燥密合性和濕潤密合性優異的環狀烯烴系膜。本發明的 環狀烯烴系膜可適用于光學膜、導電性膜、印刷電子用基材膜、阻隔膜、觸控面板、偏振片和 顯示裝置等中,工業實用性高。
【主權項】
1. 一種環狀烯烴系膜,其特征在于,其在由環狀烯烴系樹脂形成的層的至少一側表面 上具有底涂層,在上述底涂層中含有2質量%~15質量%的含噁唑啉基聚合物。2. 如權利要求1所述的環狀烯烴系膜,其中,上述底涂層的厚度為20nm~400nm。3. 如權利要求1或2所述的環狀烯烴系膜,其中,上述含噁唑啉基聚合物為水溶性的含 噁唑啉基聚合物。4. 如權利要求1~3中任一項所述的環狀烯烴系膜,其中,上述底涂層中的上述含噁唑 啉基聚合物的含量為3質量%~12質量%。5. 如權利要求1~4中任一項所述的環狀烯烴系膜,其中,上述含噁唑啉基聚合物為具 有噁唑啉基和聚氧亞烷基鏈的丙烯酸聚合物。6. 如權利要求1~5中任一項所述的環狀烯烴系膜,其中,上述含噁唑啉基聚合物的玻 璃化轉變溫度為50 °C以上。7. 如權利要求1~6中任一項所述的環狀烯烴系膜,其中,上述底涂層包含選自聚烯烴 樹脂、丙烯酸系樹脂、改性有機硅樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂和苯乙烯丁二烯橡膠樹脂中 的至少一種樹脂。8. 如權利要求1~7中任一項所述的環狀烯烴系膜的制造方法,其包括:通過在由環狀 烯烴系樹脂形成的層的至少一側表面上涂布至少含有含噁唑啉基聚合物和樹脂的涂布液, 使其固化,由此形成底涂層。9. 一種光學膜,其具有權利要求1~7中任一項所述的環狀烯烴系膜。10. -種導電性膜,其具有權利要求1~7中任一項所述的環狀烯烴系膜和導電層。11. 一種印刷電子用基材膜,其具有權利要求1~7中任一項所述的環狀烯烴系膜。12. -種阻隔膜,其具有權利要求1~7中任一項所述的環狀烯烴系膜。13. -種觸控面板,其具有權利要求1~7中任一項所述的環狀烯烴系膜或權利要求10 所述的導電性膜。14. 一種偏振片,其具有權利要求1~7中任一項所述的環狀烯烴系膜或權利要求9所述 的光學膜。15. -種顯示裝置,其具有權利要求1~7中任一項所述的環狀烯烴系膜、權利要求9所 述的光學膜、或權利要求14所述的偏振片。
【文檔編號】G02F1/1335GK105960326SQ201580006919
【公開日】2016年9月21日
【申請日】2015年2月13日
【發明人】竹上龍太, 渡邊直美
【申請人】富士膠片株式會社