本發明屬于面料技術領域，具體涉及一種抗菌防紫外線復合布。
背景技術：
抗菌面料具有良好的安全性，它可以高效完全去除織物上的細菌、真菌和霉菌，保持織物清潔，并能防止細菌再生和繁殖。然而，這些抗菌面料抑菌持久性能均不強，不具有防紫外線性能，還不能滿足使用需求。
技術實現要素：
發明目的：針對現有技術中存在的不足，本發明的目的是提供一種抗菌防紫外線復合布，具有抗菌性能持久，具有防紫外線性能，滿足使用需求。
技術方案：為了實現上述發明目的，本發明采用的技術方案如下：
一種抗菌防紫外線復合布，包括基布、抗菌層和防紫外線層，基布由經絲和緯絲交織而成；所述的經絲為高強滌綸線，所述的緯絲為腈綸；基布與抗菌層和防紫外線層的厚度比為2~4：1：0.5。
所述的抗菌層直接復合在基布的上表面，防紫外線層復合在基布的下表面。
所述的抗菌層為殼聚糖抗菌膜。
所述的抗菌層為具有銀離子膜層。
所述的防紫外線層為由紫外線吸收劑制備的涂層。
有益效果：與現有技術相比，本發明的抗菌防紫外線復合布，徑向采取高強滌綸線，緯向是腈綸，光滑、具高密性、抵抗力、抗撕、抗磨損性，抗菌層直接復合在基布的上，具備持久抗菌性能，在基布上設防紫外線層，有效防紫外線，能滿足抗菌防紫外線復合布使用。
附圖說明
圖1是抗菌防紫外線復合布的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合具體實施例對本發明做進一步的說明。
如圖1所示，抗菌防紫外線復合布，包括基布1、抗菌層2和防紫外線層3，基布1由經絲和緯絲交織而成；經絲為高強滌綸線，緯絲為腈綸，具備光滑、具高密性、抵抗力、抗撕、抗磨損性。
抗菌層2直接復合在基布1的上表面，抗菌層可以為殼聚糖抗菌膜或具有銀離子膜層，具備持久抗菌性能。
現有研究表明，分子量小于5000kda的殼聚糖可以透過細胞膜，小分子殼聚糖進入微生物細胞內，與細胞內帶負電的物質結合，使細胞的正常生理功能受到影響，導致微生物死亡。大分子的殼聚糖吸附在微生物細胞表面，形成一層高分子膜，阻止了營養物質向細胞內運輸，從而起到殺菌和抑菌作用。殼聚糖的正電荷與微生物細胞膜表面的負電荷之間的相互作用，改變了微生物細胞膜的通透性，引起微生物細胞死亡。
防紫外線層3直接復合在基布1的下表面，防紫外線層可以為由紫外線吸收劑制備的涂層，具備持久防紫外線能力。
紫外線吸收劑可強烈地吸收紫外線（尤其是波長為290-400nm）；熱穩定性好，即使在加工中也不會因熱而變化，熱揮發性小；化學穩定性好，不與制品中材料組分發生不利反應；混溶性好，可均勻地分散在材料中，不噴霜，不滲出；吸收劑本身的光化學穩定性好，不分解，不變色；無色、無毒、無臭；耐浸洗；價廉、易得。
基布1與抗菌層2和防紫外線層3的厚度比為2~4：1：0.5，在此比例范圍內，具有很強的抗菌和防紫外線性能。
本發明的抗菌防紫外線復合布，徑向采取高強滌綸線，緯向是腈綸，抗菌層和防紫外線層直接復合在基布的上，具備持久抗菌和防紫外線性能，能滿足抗菌防紫外線復合布使用。