掩模單元和蒸鍍裝置制造方法

掩模單元和蒸鍍裝置制造方法
【專利摘要】掩模單元(1)在俯視時Y方向上沒有被梁部(22)覆蓋的開口部(S)的開口長度總和在X方向的任意位置均相等，梁部(22)的與蒸鍍掩模(10)接觸的部分不沿著Y方向架在框部(21)上，而連續或斷續地橫切Y方向。
【專利說明】掩模單元和蒸鍍裝置

【技術領域】
[0001]本發明涉及包括掩模單元的蒸鍍裝置，該掩模單元包括蒸鍍掩模和用于保持蒸鍍掩模的蒸鍍掩模保持部件。

【背景技術】
[0002]近年來，在各種商品和領域有效利用平板顯示器，要求平板顯示器的進一步的大型化、高畫質化、低消耗電力化。
[0003]這種狀況下，具有利用有機材料的電致發光(Electroluminescence,以下記作“EL”)的有機EL元件的有機EL顯示裝置，作為在全固體型且低電壓驅動、高速響應性、自發光性等方面優秀的平板顯示器，備受矚目。
[0004]有機EL顯示裝置例如具有以下結構:在由設置有TFT(薄膜晶體管)的玻璃基板構成的基板上，設置有與TFT連接的有機EL元件。
[0005]有機EL元件，是能夠利用低電壓直流驅動的高亮度發光的發光元件，具有依次層疊第一電極、有機EL層和第二電極的結構。其中，第一電極與TFT連接。另外,在第一電極與第二電極之間，作為上述有機EL層，設置有層疊了空穴注入層、空穴輸送層、電子阻擋層、發光層、空穴阻擋層、電子輸送層、電子注入層等的有機層。
[0006]全彩的有機EL顯示裝置，一般將紅色(R)、綠色(G)、藍色(B)各色的有機EL元件作為子像素在基板上排列形成，利用TFT使這些有機EL元件有選擇地以期望的亮度發光，由此進行圖像顯示。
[0007]這種有機EL顯示裝置的發光部中的有機EL元件，一般由有機膜的層疊蒸鍍形成。有機EL顯示裝置的制造中，至少由發出各色光的有機發光材料構成的發光層，按每個作為發光元件的有機EL元件以規定的圖案成膜。
[0008]層疊蒸鍍的規定圖案的成膜中，除了能夠使用例如被稱為蔭罩(Shadow mask)的蒸鍍掩模的蒸鍍法以外，還能夠使用噴墨法、激光轉印法等。其中，當前使用蒸鍍掩模的真空蒸鍍法是最常用的(例如參照專利文獻I)。
[0009]現有技術文獻
[0010]專利文獻
[0011]專利文獻1:日本公開專利公報《特開2006-164815號公報(
【公開日】:2006年6月22)》


【發明內容】

[0012]發明要解決的技術問題
[0013]但是，像這樣在使用蒸鍍掩模進行蒸鍍的情況下，當基板尺寸變大時，隨之蒸鍍掩模也變大。
[0014]其結果是，因蒸鍍掩模的自重導致的撓曲和延伸，會發生蒸鍍掩模的翹曲現象，在蒸鍍所使用的被成膜基板與蒸鍍掩模之間產生間隙。
[0015]圖13是表示現有的蒸鍍掩模的撓曲導致的問題點的截面圖。圖13示意性地表示現有的蒸鍍裝置內部的主要構成要素的概略結構。
[0016]如圖13所示，使用蒸鍍掩模301的蒸鍍中，在與被成膜基板200相反的一側配置有蒸鍍源310，蒸鍍源310與被成膜基板200之間隔著蒸鍍掩模301。
[0017]有機發光材料等蒸鍍材料，在高真空下加熱、升華，由此作為蒸鍍顆粒從蒸鍍源310出射。
[0018]在使用了蒸鍍掩模301的蒸鍍中，如圖13所示，在蒸鍍掩模301設置有與蒸鍍區域的一部分的圖案對應的開口部302，經由該開口部302使蒸鍍顆粒蒸鍍到被成膜基板200上由此進行圖案形成，以使得作為目標的蒸鍍區域以外的區域不附著蒸鍍顆粒。
[0019]作為蒸鍍顆粒從蒸鍍源310出射的蒸鍍材料，通過設置于蒸鍍掩模301的開口部302被蒸鍍到被成膜基板200。
[0020]由此，僅在與開口部302對應的被成膜基板200的規定的位置，蒸鍍形成具有期望的成膜圖案的有機膜作為蒸鍍膜。另外，有機EL蒸鍍工藝的發光層的蒸鍍，按發光層的每個顏色進行(將之稱為“分別涂敷蒸鍍”)。
[0021]在這樣的蒸鍍工藝中，在被成膜基板200使用大型基板的情況下，伴隨被成膜基板200的大型化蒸鍍掩模301也大型化，由此如圖13的二點劃線所示，在蒸鍍掩模301發生自重導致的撓曲。
[0022]從蒸鍍源310射出的蒸鍍顆粒，呈放射狀地飛散而蒸鍍到被成膜基板200。此時，蒸鍍顆粒從蒸鍍源310具有角度地飛散，所以蒸鍍掩模301的撓曲導致的高度方向的位置偏移，呈現橫向的位置偏移。
[0023]因此，當蒸鍍掩模301發生撓曲時，如圖13的二點劃線所示，在蒸鍍源310的正上方的位置Pl不發生蒸鍍位置的偏移，而在從蒸鍍源310離開的位置P2、P3蒸鍍位置發生偏移。
[0024]因此，在例如如上所述RGB分別涂敷方式的大型有機EL蒸鍍工藝中，當蒸鍍掩模301發生撓曲時，蒸鍍位置精度降低，不能進行位置精度高的圖案形成，會發生蒸鍍位置偏移或混色，難以實現高精細化。
[0025]另外，這樣的問題在使用與被成膜基板200同等尺寸的蒸鍍掩模作為蒸鍍掩模301的情況下顯得更加顯著。
[0026]另外，圖14是表示現有的包括蒸鍍掩模301和蒸鍍掩模保持部件303的掩模單元300的概略結構的平面圖。其中，圖14中省略了蒸鍍掩模301的開口部302的圖示。
[0027]如圖14所示，在蒸鍍掩模301的背后設置有用于保持蒸鍍掩模301的、被稱為掩模框(mask frame)或掩模架(mask holder)的蒸鍍掩模保持部件303。
[0028]在這樣的掩模單元中，蒸鍍掩模保持部件303 —般形成為框狀，包括開口部304和包圍該開口部304并保持蒸鍍掩模301的框部305。
[0029]蒸鍍掩模301，以其開口部302位于蒸鍍掩模保持部件303的開口部304內的方式，用激光等將其周緣部分通過熔接到蒸鍍掩模保持部件303的框部305而固定到蒸鍍掩模保持部件303 (例如參照專利文獻I)。
[0030]因此，現有技術中，將蒸鍍掩模301以預先充分拉伸的狀態熔接到蒸鍍掩模保持部件303，以使得所熔接的蒸鍍掩模301不發生撓曲。
[0031]像這樣拉伸熔接的蒸鍍掩模301，如圖14的二點劃線所示，將蒸鍍掩模保持部件303的框部305向蒸鍍掩模301的中央強力拉伸。因此，現有的蒸鍍掩模保持部件303，具有框部305的邊的部分、特別是如圖14所示在長邊部分容易產生變形的問題點。
[0032]其中，專利文獻I中公開了，為了防止這樣的蒸鍍掩模的翹曲導致的掩模單元的翹曲，將蒸鍍掩模熔接到蒸鍍掩模保持部件的框部之后，將施加了張力的金屬帶(tape)以與施加于蒸鍍掩模的張力(tens1n)的方向平行的方式熔接到該框部的背面。
[0033]但是，在被成膜基板200使用大型基板的情況下，隨之蒸鍍掩模的大小變大時，僅通過對蒸鍍掩模施加張力，很難說足以消除蒸鍍掩模的撓曲和翹曲。
[0034]本發明鑒于上述問題點，其目的在于提供一種能夠進行沒有蒸鍍掩模的撓曲導致的蒸鍍位置偏移的蒸鍍的掩模單元和蒸鍍裝置。
[0035]用于解決課題的方法
[0036]為了解決上述課題，本發明的一個方式的掩模單元包括:具有開口部的蒸鍍掩模；和保持上述蒸鍍掩模的蒸鍍掩模保持部件，上述蒸鍍掩模保持部件的一部分與上述蒸鍍掩模的下表面接觸，并且，從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，在上述蒸鍍掩模的開口部中的第一方向的任意位置，與該第一方向正交的第二方向上的沒有被上述蒸鍍掩模保持部件覆蓋的開口部的開口長度總和均相等，并且，上述蒸鍍掩模保持部件在上述蒸鍍掩模的邊緣部以外的部分具有連續或斷續地橫切上述第二方向地與上述蒸鍍掩模的下表面接觸的接觸部，另一方面，上述蒸鍍掩模保持部件在上述蒸鍍掩模的邊緣部以外的部分不具有從上述蒸鍍掩模中的上述第二方向的一端至另一端連續的接觸部。
[0037]另外，本發明的方式的蒸鍍裝置，包括:上述掩模單元；蒸鍍源，其與上述掩模單元中的蒸鍍掩模相對配置，且與上述蒸鍍掩模的相對位置被固定；和移動機構，其在上述掩模單元中的蒸鍍掩模和被成膜基板相對配置的狀態下，使上述掩模單元和蒸鍍源、與上述被成膜基板中的任一方以第二方向為掃描方向的方式相對移動，上述蒸鍍掩模的第二方向的寬度小于第二方向的被成膜基板的寬度，一邊沿著上述第二方向掃描，一邊使從上述蒸鍍源出射的蒸鍍顆粒經由上述蒸鍍掩模的開口部蒸鍍到上述被成膜基板上。
[0038]發明的效果
[0039]根據上述各結構，即使不使用剛性高、粗(重)的框部，也能夠抑制蒸鍍掩模保持部件的歪曲等變形。另外，上述蒸鍍掩模保持部件在上述蒸鍍掩模的邊緣部以外的部分具有連續或斷續地橫切上述第二方向地與上述蒸鍍掩模的下表面接觸的接觸部，由此，能夠抑制蒸鍍掩模的自重撓曲等撓曲。
[0040]另外，上述掩模單元中，上述蒸鍍掩模保持部件的與上述蒸鍍掩模接觸的接觸部連續或斷續地橫切第二方向，上述蒸鍍掩模保持部件在上述蒸鍍掩模的邊緣部以外的部分不具有從上述蒸鍍掩模中的上述第二方向的一端至另一端連續的接觸部，所以通過以上述第二方向為掃描方向進行掃描蒸鍍，上述蒸鍍掩模保持部件的與上述蒸鍍掩模的接觸部不與掃描方向平行。
[0041]因此，使用上述掩模單元以上述第二方向為掃描方向進行掃描蒸鍍，由此，即使在上述蒸鍍掩模保持部件設置了上述接觸部，在有該接觸部的區域也能夠進行與沒有該接觸部的區域同樣的蒸鍍。因此，如果將上述掩模單元作為掃描蒸鍍用的掩模單元使用，則能夠進行沒有因蒸鍍掩模的撓曲導致的蒸鍍位置偏移的蒸鍍。
[0042]另外，上述掩模單元，從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，在上述蒸鍍掩模的開口部的第一方向的任意位置，與該第一方向正交的第二方向上的沒有被上述梁部覆蓋的開口部的開口長度總和均相等，所以上述第一方向上相鄰的開口部間不發生蒸鍍量的偏差，在具有上述蒸鍍掩模保持部件的與上述蒸鍍掩模的接觸部的顯示區域也能夠均勻地進行蒸鍍。
[0043]因此，根據上述結構，能夠提供一種掩模單元和蒸鍍裝置，上述蒸鍍掩模保持部件的與上述蒸鍍掩模接觸的接觸部不會妨礙蒸鍍，利用該接觸部能夠抑制蒸鍍掩模的撓曲導致的蒸鍍位置偏移，還能夠進行均勻的蒸鍍。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0044]圖1(a)?(d)是表示實施方式I的掩模單元的概略結構的圖。
[0045]圖2是示意性地表示實施方式I的蒸鍍裝置的重要部位的概略結構的截面圖。
[0046]圖3是表示實施方式I的蒸鍍裝置中的從斜上方看真空腔室內的主要構成要素時的關系的俯視圖。
[0047]圖4是表示具有格子狀的梁構造的掩模框的概略結構的平面圖。
[0048]圖5是表不實施方式I的另一掩模單兀的概略結構的截面圖。
[0049]圖6(a)?(d)是表示實施方式2的掩模單元的概略結構的圖。
[0050]圖7(a)是表示實施方式3的掩模單元的蒸鍍掩模保持部件的概略結構的平面圖，(b)是表示(a)所示的掩模單元的蒸鍍掩模的概略結構的平面圖。
[0051]圖8(a)是表示實施方式4的掩模單元的蒸鍍掩模保持部件的概略結構的平面圖，(b)是表示(a)所示的掩模單元的蒸鍍掩模的概略結構的平面圖。
[0052]圖9(a)是表示實施方式5的掩模單元的蒸鍍掩模保持部件的概略結構的平面圖，(b)是表示(a)所示的掩模單元的蒸鍍掩模的概略結構的平面圖。
[0053]圖10(a)?(C)是表示實施方式6的掩模單元的概略結構的圖。
[0054]圖11是表示圖10(a)所示的掩模單元的另一蒸鍍掩模的概略結構的平面圖。
[0055]圖12是表示實施方式6的掩模單元的另一蒸鍍掩模保持部件的概略結構的平面圖。
[0056]圖13是表示現有的蒸鍍掩模的撓曲導致的問題點的截面圖。
[0057]圖14是表示現有的包括蒸鍍掩模和蒸鍍掩模保持部件的掩模單元的概略結構的平面圖。

【具體實施方式】
[0058]以下，對本發明的實施方式進行詳細說明。
[0059][實施方式I]
[0060]基于圖1 (a) (b)?圖5對本發明的一個實施方式進行說明如下。
[0061]本實施方式的掩模單元，是使用比被成膜基板(被成膜對象物)尺寸小的蒸鍍掩模，一邊使被成膜基板與掩模單元和蒸鍍源相對移動地進行掃描一邊進行蒸鍍的、采用掃描(scanning)方式的蒸鍍(掃描蒸鍍)所使用的掩模單元。
[0062]其中，以下以掃描方向和與掃描方向平行的方向(第一方向)作為Y方向(Y軸方向)，以與掃描方向垂直的方向(第二方向)作為X方向(X軸方向)進行說明。
[0063]<掩模單元I的整體結構>
[0064]圖1 (a)?(d)是表示本實施方式的掩模單元的概略結構的圖。圖1 (a)是表示本實施方式的掩模單元的概略結構的平面圖，圖1 (b)是圖1 (a)所示的掩模單元的1-1線矢視截面圖，圖1(c)是表示圖1(a)所示的掩模單元的蒸鍍掩模保持部件的概略結構的平面圖，圖1(d)是表示圖1(a)所示的掩模單元的蒸鍍掩模的概略結構的平面圖。
[0065]本實施方式的掩模單元1，如圖1 (a)?(d)所示，包括被稱為蔭罩的蒸鍍掩模10，和用于保持蒸鍍掩模10的、被稱為掩模框或掩模架的蒸鍍掩模保持部件20。
[0066]<蒸鍍掩模保持部件20>
[0067]本實施方式的蒸鍍掩模保持部件20，如圖1(a)?(C)和圖3所示，具有中央開口的框形狀。
[0068]蒸鍍掩模保持部件20包括框部21、梁部22、和由被梁部22分隔開的開口部Hl、H2構成的開口部H(開口區域)。
[0069]框部21由俯視時呈矩形狀的框部件構成，在蒸鍍掩模10的外緣部保持該蒸鍍掩模10。
[0070]框部21，如圖1(a)所示，以包圍由蒸鍍掩模10的開口部S組構成的開口區域11 (參照圖1(d))的方式形成，蒸鍍掩模10的開口部S位于由框部21圍成的開口部H內。
[0071]在由框部21圍成的開口部H內，如圖1(b)所示，具有與框部21相同厚度的板狀的梁部22形成為其上表面22a與框部21中的與蒸鍍掩模10接觸的接觸面21a為同一面。
[0072]由此，梁部22的上表面22a與蒸鍍掩模10的下表面1c接觸，蒸鍍掩模保持部件20通過框部21和梁部22來支承蒸鍍掩模10。
[0073]另外，如圖1(a)所示，梁部22以將由框部21圍成的開口部H斜向二分的方式設置在框部21的一個對角線上。其中，梁部22俯視時具有均等的寬度。
[0074]由此，由框部21圍成的開口部H，被梁部22分割為開口部Hl和開口部H2，俯視時Y方向的開口部Hl與開口部H2的開口長度總和(即俯視時在Y方向位于同一直線上的開口部Hl與開口部H2的開口長度總和)在X方向的任意位置均相等。
[0075]<蒸鍍掩模10>
[0076]在蒸鍍掩模10，與上述蒸鍍區域的一部分的圖案對應地設置有用于使蒸鍍時的蒸鍍顆粒通過的多個開口部S(貫通口)，以使得被成膜基板的作為目標的蒸鍍區域以外的區域上不附著蒸鍍顆粒。
[0077]作為蒸鍍顆粒從蒸鍍源出射的蒸鍍材料，通過蒸鍍掩模保持部件20的開口部H(開口部H1、H2)和蒸鍍掩模10的開口部S被蒸鍍到被成膜基板。
[0078]由此，僅在與開口部S對應的被成膜基板的規定的位置，形成具有規定的成膜圖案的蒸鍍膜。其中，在上述蒸鍍材料為有機EL顯示裝置的發光層的材料的情況下，有機EL蒸鍍工藝的發光層的蒸鍍按發光層的每個顏色進行。
[0079]如圖l(a)、(d)所示，在蒸鍍掩模10，在Y方向上延伸設置的狹縫狀的開口部S在X方向上呈條紋狀地排列設置有多個。
[0080]梁部22和開口部S形成為俯視時與開口部Hl重疊的開口部S的開口長度和與開口部H2重疊的開口部S的開口長度的開口長度總和在X方向的任意位置均相等。
[0081]本實施方式中，如圖1(a)、(d)所示，各開口部S形成于不與梁部22重疊的部分，俯視時以避開梁部22的方式在Y方向上連續或在Y方向上斷續地形成。
[0082]因此，本實施方式中，蒸鍍掩模10的開口部S本身形成為俯視時該開口部S的Y方向的開口部S的開口長度總和在X方向的任意位置均相等。
[0083]例如，如圖1(a)所示，在蒸鍍掩模10在X方向上形成有N個(N為3以上的整數)的開口部S的情況下，設圖1(a)中最左側的開口部為開口部SI，最右側的開口部S為開口部SN，它們之間的任意的開口部S為開口部SM(M為1〈M〈N的整數)，與開口部Hl重疊的開口部SI的開口長度為dl，與開口部Hl重疊的開口部SM的開口長度為d2，與開口部H2重疊的開口部SM的開口長度為d3，與開口部H2重疊的開口部SN的開口長度為d4時，以dl=d2+d3 = d4的方式形成各開口部S。
[0084]其中，作為上述蒸鍍掩模10和蒸鍍掩模保持部件20的材料，能夠使用例如不銹鋼等各種具有耐熱性的與現有技術同樣的材料。
[0085]另外，蒸鍍掩模10向蒸鍍掩模保持部件20的固定能夠采用熔接、粘接、螺絲固定等公知的各種固定方法。
[0086]另外，在蒸鍍掩模10和蒸鍍掩模保持部件20的至少一者，沿著作為被成膜基板的掃描方向(基板掃描方向)的方向設置有用于進行被成膜基板與蒸鍍掩模10的位置對準(對齊)的未圖示的對準標記。
[0087]另一方面，在被成膜基板也在蒸鍍區域的外側，沿著被成膜基板的掃描方向設置有用于進行被成膜基板與蒸鍍掩模10的位置對準的對準標記。
[0088]本實施方式中，以Y方向作為掃描方向的方式在蒸鍍裝置配置掩模單元I使被成膜基板與掩模單元I和蒸鍍源相對地移動，由此，能夠使俯視時掃描方向上的與開口部Hl重疊的開口部S的開口長度和與開口部H2重疊的開口部S的開口長度的開口長度總和在與掃描方向垂直的任意位置均相等，能夠在具有梁部22的區域和不具有梁部22的區域均進行同樣的蒸鍍。
[0089]接著，參照圖2和圖3對使用上述掩模單元I的蒸鍍裝置的一例進行說明。
[0090]<蒸鍍裝置的整體結構>
[0091]另外，圖2是示意性地表示本實施方式的蒸鍍裝置的重要部位的概略結構的截面圖。另外，圖2表示與掃描方向平行地將本實施方式的蒸鍍裝置截斷時的截面。
[0092]圖3是表示本實施方式的蒸鍍裝置中的從斜上方看真空腔室內的主要構成要素時的關系的俯視圖。
[0093]如圖2所示，本實施方式的蒸鍍裝置50包括:真空腔室51 (成膜腔室)、作為保持被成膜基板200的基板保持部件的基板保持件52、使被成膜基板200移動的基板移動機構53 (移動機構)、蒸鍍單元54、使蒸鍍單元54移動的蒸鍍單元移動機構55 (移動單元)、圖像傳感器等未圖示的對準觀測單元、和未圖示的控制電路等。
[0094]另外,蒸鍍單元54包括上述掩模單元1、蒸鍍源70、掩模單元固定部件80、和未圖示的遮板(shutter)。
[0095]其中，基板保持件52、基板移動機構53、蒸鍍單元54、蒸鍍單元移動機構55，設置在真空腔室51內。
[0096]另外，在真空腔室51設置有未圖示的真空泵，為了在蒸鍍時將該真空腔室51內保持為真空狀態，經由設置于該真空腔室51的未圖示的排氣口對真空腔室51進行真空排氣。
[0097]<基板保持件52〉
[0098]基板保持件52，將由TFT基板等構成的被成膜基板200以其被成膜面201 (蒸鍍面)面向蒸鍍單元54的蒸鍍掩模10的方式保持。
[0099]被成膜基板200與蒸鍍掩模10離開一定距離地相對配置，在被成膜基板200與蒸鍍掩模10之間設置有一定高度的空隙。
[0100]基板保持件52優選使用例如靜電卡盤等。通過用靜電卡盤等方法將被成膜基板200固定于基板保持件52，能夠將被成膜基板200以沒有因自重而產生的撓曲的狀態保持于基板保持件52。
[0101]<基板移動機構53和蒸鍍單元移動機構55>
[0102]本實施方式中，如圖2和圖3所示，利用基板移動機構53和蒸鍍單元移動機構55的至少一者使被成膜基板200和蒸鍍單兀54 (掩模單兀I和蒸鍍源70)以Y方向成為掃描方向的方式相對移動地進行掃描蒸鍍。
[0103]基板移動機構53，具有未圖示的電機，通過未圖示的電機驅動控制部驅動電機，由此使被保持于基板保持件52的被成膜基板200移動。
[0104]另外,蒸鍍單元移動機構55,具有未圖示的電機,通過未圖示的電機驅動控制部驅動電機使電機驅動，由此在照原樣保持蒸鍍掩模10與蒸鍍源70的相對位置的狀態下，使蒸鍍單元54相對于被成膜基板200相對移動。
[0105]另外，該基板移動機構53和蒸鍍單元移動機構55，通過驅動未圖示的電機，利用未圖示的對準標記，以消除蒸鍍掩模10與被成膜基板200的位置偏移的方式進行位置修正。
[0106]該基板移動機構53和蒸鍍單元移動機構55，例如可以為輥式的移動機構，也可以為油壓式的移動機構。
[0107]該基板移動機構53和蒸鍍單元移動機構55，也可以包括由例如步進電機(脈沖電機)等電機(χγ Θ驅動電機)、輥和齒輪等構成的驅動部、和電機驅動控制部等驅動控制部，利用驅動控制部驅動驅動部，由此使被成膜基板200或蒸鍍單元54移動。另外，該基板移動機構53和蒸鍍單元移動機構55，包括由XYZ載置臺等構成的驅動部，可以在X方向、Y方向、Z方向(Z軸方向)的任意方向都移動自如地設置。
[0108]其中，被成膜基板200和蒸鍍單元54只要其至少一者設置成能夠相對移動即可。換言之，基板移動機構53和蒸鍍單元移動機構55只要至少設置有一者即可。
[0109]例如被成膜基板200設定成能夠移動的情況下，蒸鍍單元54可以固定于真空腔室51的內壁。相反地，在蒸鍍單元移動機構55設定成能夠移動的情況下，基板保持件52可以固定于真空腔室51的內壁。
[0110]〈蒸鍍源70>
[0111]蒸鍍源70是例如在內部收納蒸鍍材料的容器。蒸鍍源70可以是在容器內部直接收納蒸鍍材料的容器，也可以具有負載制動式的配管，形成為從外部供給蒸鍍材料。
[0112]蒸鍍源70如圖3所示例如形成為矩形狀。在蒸鍍源70的與蒸鍍掩模10的相對面，例如設置有多個使蒸鍍材料作為蒸鍍顆粒射出(飛散)的射出口 71。
[0113]上述蒸鍍單元54中，蒸鍍掩模10與蒸鍍源70的位置相對固定。即，蒸鍍掩模10與蒸鍍源70的射出口 71的形成面之間的空隙gl總是保持為一定。
[0114]射出口 71如圖3所示，沿蒸鍍掩模10的開口部S的排列設置方向排列設置。
[0115]另外，射出口 71的間距與開口部S的間距可以不一致。另外，射出口 71的大小也可以與開口部S的大小不一致。
[0116]例如，如圖3所示在蒸鍍掩模10設置有條紋狀的開口部S的情況下，射出口 71的開口徑既可以比開口部S的短邊的寬度大也可以比開口部S的短邊的寬度小。
[0117]另外，可以對于一個開口部S設置多個射出口 71，也可以對于多個開口部S設置一個射出口 71。另外，多個射出口 71中的一部分(至少一個)射出口 71或射出口 71的一部分區域可以與蒸鍍掩模10的非開口部(例如相鄰的開口部S間)相對地設置。
[0118]但是，出于減少在蒸鍍掩模10的非開口部附著蒸鍍顆粒的量，盡可能提高材料利用效率的觀點，優選以各射出口 71的至少一部分與一個或多個開口部S重疊的方式將各射出口 71與各開口部S相對地設置。
[0119]而且，更優選各射出口 71以俯視時位于某個開口部S的方式將射出口 71與開口部S相對地設置。
[0120]另外，出于提高材料利用效率的觀點，優選開口部S與射出口 71 —對一對應。
[0121]〈遮板的結構〉
[0122]在蒸鍍掩模10與蒸鍍源70之間，為了控制蒸鍍顆粒到達蒸鍍掩模10，可以根據需要將上述的未圖示的遮板能夠基于蒸鍍關閉(OFF)信號或蒸鍍開啟(ON)信號進退(能夠插拔)地設置。
[0123]上述遮板通過插入到蒸鍍掩模10與蒸鍍源70之間來封閉蒸鍍掩模10的開口部S。像這樣，在蒸鍍掩模10與蒸鍍源70之間適當插入遮板，由此能夠防止向不進行蒸鍍的非蒸鍍區域的蒸鍍。
[0124]其中，上述遮板可以與蒸鍍源70設置成一體，也可以與蒸鍍源70分開設置。
[0125]另外，在上述蒸鍍裝置50中，也可以采用如下結構:從蒸鍍源70飛散的蒸鍍顆粒被調整成在蒸鍍掩模10內飛散，飛散到蒸鍍掩模10外的蒸鍍顆粒，用防附著板(遮蔽板)等適當除去。
[0126]〈掩模單元固定部件80>
[0127]掩模單元固定部件80是載置掩模單元I并將其保持、固定的載置臺。
[0128]如圖2所示，掩模單元I被掩模單元固定部件80保持、固定，在該掩模單元I的下方配置有蒸鍍源70。
[0129]其中，掩模單元固定部件80的形狀沒有特別限定，只要能夠將掩模單元I從蒸鍍源70離開一定距離地保持、固定即可。
[0130]掩模單元I和蒸鍍源70例如由掩模單元固定部件80保持為一體，掩模單元I的蒸鍍掩模10與蒸鍍源70的相對位置固定。
[0131]S卩，蒸鍍掩模10與蒸鍍源70的射出口 71的形成面之間的空隙的高度(垂直距離)保持為一定，并且蒸鍍掩模10的開口部S與蒸鍍源70的射出口 71的相對位置也保持為一定。
[0132]但是，在將蒸鍍單元54固定而使被成膜基板200相對于蒸鍍單元54相對移動的情況下，只要掩模單元I與蒸鍍源70的相對位置固定即可，并不一定需要像上述那樣一體化。
[0133]也可以例如通過將蒸鍍源70與掩模單元固定部件80分別固定于真空腔室51的內壁，來將掩模單元I與蒸鍍源70的相對位置、即蒸鍍掩模10與蒸鍍源70的相對位置固定。
[0134]另外，也可以例如與真空腔室2的內壁相鄰地設置具有架板的保持件作為防附著板兼真空腔室內構成物保持機構，在該保持件的架板載置掩模單元I。即，上述支架的架板也可以作為掩模單元固定部件80使用。
[0135]蒸鍍掩模10與蒸鍍源70以該蒸鍍掩模10與蒸鍍源70之間具有一定的高度的空隙gl的方式彼此離開一定距離地相對配置。
[0136]另外，上述空隙gl能夠任意設定，沒有特別限定。但是，為了提高蒸鍍材料的利用效率，優選上述空隙gl盡可能小，例如設定為Hmm程度。
[0137]另外，蒸鍍掩模10與被成膜基板200以該蒸鍍掩模10與被成膜基板200之間具有一定的高度的空隙g2的方式彼此離開一定距離地相對配置。
[0138]蒸鍍掩模10與被成膜基板200之間的空隙的高度(垂直距離)優選為50 μ m以上、Imm以下的范圍內，更優選為200?500 μ m程度。
[0139]在上述空隙g2的高度低于50 μ m的情況下，被成膜基板200與蒸鍍掩模10接觸的風險變聞。
[0140]另一方面，當上述空隙g2的高度超過Imm時，通過蒸鍍掩模10的開口部S的蒸鍍顆粒擴散，形成的蒸鍍膜的圖案寬度變得過大。例如在上述蒸鍍膜為有機EL顯示裝置中使用的紅色的發光層的情況下，當上述空隙超過Imm時，有可能導致在作為相鄰子像素的綠色或藍色等子像素中也蒸鍍有紅色的發光材料。
[0141]另外，只要上述空隙g2的高度為200?500 μ m程度，則被成膜基板200沒有與蒸鍍掩模10接觸的風險，另外，蒸鍍膜的圖案寬度的范圍也能夠充分變小。
[0142]〈效果〉
[0143]根據本實施方式，如上所述，通過在框部21設置梁部22，即使不使用剛性高、粗(重)的框部，也能夠抑制框部21的歪曲等變形。另外，通過使上述梁部22在由框部21圍成的開口部H內以與蒸鍍掩模10接觸的方式形成，能夠抑制蒸鍍掩模10的自重撓曲等撓曲。
[0144]另外，本實施方式中，通過以上述梁部22橫貫容易發生撓曲的蒸鍍掩模10的中央部附近的方式形成，能夠直接地抑制蒸鍍掩模10的撓曲。
[0145]像這樣，根據本實施方式，在進行掃描蒸鍍時，通過令掩模單元I的框構造采用最佳的梁(棧)構造，能夠實現沒有撓曲的蒸鍍掩模10。
[0146]另外，在使用與被成膜基板幾乎相同大小的蒸鍍掩模進行蒸鍍的不是掃描蒸鍍方式的現有的蒸鍍法中，如果在掩模框設置梁構造，則有梁的區域變得無法蒸鍍，所以不能設置梁構造。
[0147]另外，在采用掃描蒸鍍法的情況下也如圖4所示，如果在框部21設置格子狀的梁部22，則在被成膜基板中，在與蒸鍍掩模保持部件20的設置有與掃描方向平行的梁部22的區域R重疊的區域，蒸鍍顆粒不通過蒸鍍掩模10，蒸鍍顆粒不被蒸鍍。因此，不能在被成膜基板的被成膜區域(蒸鍍區域)設置這樣的梁構造。
[0148]但是，本實施方式中，如上所述，將梁部22形成為橫切作為開口部S的排列方向的X方向，以與該X方向垂直的Y方向作為掃描方向進行掃描蒸鍍，由此，梁部22與掃描方向不平行。
[0149]像這樣，根據本實施方式，梁部22以橫切作為掃描方向的Y方向的方式傾斜地設置，而不是沿著上述Y方向橫架在上述框部21上。
[0150]S卩，本實施方式的掩模單元1，不具有從由框部21圍成的區域內的一端至另一端平行于Y方向地設置的梁部。
[0151]因此，有梁部22的區域也能夠與沒有梁部22的區域進行同樣的蒸鍍。由此，能夠進行沒有因蒸鍍掩模10的撓曲導致的蒸鍍位置偏移的蒸鍍。
[0152]另外，根據本實施方式，如上所述，俯視時與開口部Hl重疊的開口部S的開口長度和與開口部H2重疊的開口部S的開口長度的開口長度總和在X方向的任意位置均相等，由此在各開口部S、即X方向上相鄰的開口部S之間不發生蒸鍍量偏差，能夠在有梁部22的顯示區域也均勻地進行蒸鍍。因此，根據本實施方式，上述梁部22不會妨礙蒸鍍，能夠利用上述梁部22抑制蒸鍍掩模10的撓曲導致的蒸鍍位置偏移，且能夠進行均勻的蒸鍍。由此，能夠實現例如沒有混色的有機EL顯示裝置。
[0153]另外，如上所述，現有技術中，為了不使熔接后的蒸鍍掩模撓曲，將蒸鍍掩模在預先充分拉伸的狀態下熔接到蒸鍍掩模保持部件，因為由被拉伸熔接的蒸鍍掩模拉伸的框容易變形，所以需要用剛性高、粗(重)的框來形成框部。
[0154]但是，本實施方式中，如上所述，通過以橫貫容易發生撓曲的蒸鍍掩模10的中央附近的方式形成梁部22，直接地抑制蒸鍍掩模10的撓曲，由此相比現有技術，能夠減低拉伸蒸鍍掩模10的張力。特別是，本實施方式中，梁部22形成在框部21的對角線上，所以上述梁部22作為支撐條起作用。
[0155]因此，不需要剛性高、粗(重)的框部，相比現有技術能夠使框部21薄型化、輕量化。因此，即使形成有梁部22，也能夠相比現有技術使蒸鍍掩模保持部件20輕量化。
[0156]作為一例，本實施方式中，框部21的外形采用X方向的長度750mmX Y方向的長度365mm，框部21采用俯視時的寬度為30mm、厚度為20mm的框體。另外，梁部22使用俯視時的寬度為5mm、厚度為20mm的板狀部件。
[0157]另外，開口部Hl的Y方向的距離(開口長度)設計成300mm?0mm。即，圖1(b)中，開口部Hl設計成最左側端的部分的開口長度為300mm、最右側端的部分的開口長度為Omm,隨著向右側去開口長度變小。
[0158]另一方面，開口部H2的Y方向的距離(開口長度)設計成Omm?300mm。S卩，圖1(b)中，開口部H2設計成最左側端的部分的開口長度為0_、最右側端的部分的開口長度為300mm,隨著向右側去開口長度變大。
[0159]但是，這些值都是一例，并不僅限定于上述值，能夠任意地設計。
[0160]〈變形例〉
[0161](梁部22的厚度)
[0162]圖5是表示本實施方式的另一掩模單元I的概略結構的截面圖。
[0163]圖1(b)中，以在由框部21圍成的開口部H內形成有具有與框部21相同厚度的板狀的梁部22的情況舉例進行圖示。
[0164]與之相對地，圖5所示的掩模單元I中，梁部22的厚度形成得比框部21薄，這一點與圖1 (a)、(b)所示的掩模單元I不同。
[0165]其中，本實施方式中，梁部22也以其上表面22a成為與框部21的與蒸鍍掩模10接觸的接觸面21a為同一面的方式形成。
[0166]如上所述，根據本實施方式，不需要剛性高、粗(重)的框部。
[0167]因此，如圖5所示，通過使梁部22形成得比外周的框部21薄，相比圖1 (a)、(b)所示的掩模單元I能夠進一步輕量化。
[0168](開口形狀)
[0169]另外，圖1(a)、(d)和圖3中，以在蒸鍍掩模10在Y方向上延伸設置的狹縫狀的開口部S在X方向上呈條紋狀地排列設置有多個的情況舉例進行說明。
[0170]但是，上述開口部S的形狀可以任意，例如在X方向排列多個槽狀的開口部，也可以為這樣的槽狀的開口部在X方向和Y方向上排列為交錯狀。
[0171]另外，上述蒸鍍掩模10可以例如為按每個像素形成有開口部S的精細式掩模(finemask)，也可以為與被成膜基板200的X方向的顯示區域的大小對應的區域整體開口的開放式掩模(open mask)。
[0172]其中自不必說，上述掩模單元I在使用在蒸鍍掩模10的容易發生撓曲的區域、特別是最容易發生撓曲的蒸鍍掩模10的中央部存在掩模部(即，相鄰的開口部S間的非開口區域)的蒸鍍掩模10的情況下發揮特別大的效果。
[0173]不論在哪種情況下，本實施方式中，在將蒸鍍掩模10和蒸鍍掩模保持部件20組合的情況下、即作為掩模單元I使用的情況下，只要以俯視時使蒸鍍掩模10的開口部S的、Y方向上的不與梁部22重疊(即不被梁部22覆蓋)的開口部S的開口長度總和在X方向的任意位置均相等的方式形成開口部H的梁部22和開口部S即可。
[0174]即，本實施方式的掩模單元I，以俯視時使與開口部Hl重疊的開口部S的開口長度和與開口部H2重疊的開口部S的開口長度的開口長度總和在成為與掃描方向垂直的方向的X方向的任意位置均相等的方式形成開口部H的梁部22和開口部S，俯視時使成為開口部H的掃描方向的Y方向上的實質上的開口長度的總和在與開口部H的掃描方向垂直的X方向上均相等即可。
[0175](蒸鍍掩模的大小)
[0176]另外，掩模單元1，為了將該掩模單元I小型化，如圖1 (a)和圖3所示，以使蒸鍍掩模10的較短方向(短邊方向)成為掃描方向的方式進行設計、設置。
[0177]本實施方式中，如圖3所示，使用蒸鍍掩模10的長邊1a的寬度大于與該長邊1a平行的被成膜基板200的短邊200b的寬度，蒸鍍掩模10的短邊1b的寬度小于與該短邊1b平行的被成膜基板200的長邊200a的寬度的矩形狀的蒸鍍掩模10。
[0178]但是，被成膜基板200相對于蒸鍍掩模10的長邊200a的方向并不限定于此，當然也可以根據被成膜基板200的大小，配置蒸鍍掩模10和被成膜基板200以使得被成膜基板200的長邊200a與蒸鍍掩模10的長邊1a平行。
[0179]另外，本實施方式中，俯視時作為矩形狀的蒸鍍掩模10和蒸鍍掩模保持部件20使用俯視為長方形狀的蒸鍍掩模10和蒸鍍掩模保持部件20，但當然作為上述蒸鍍掩模10和蒸鍍掩模保持部件20也可以使用俯視為正方形狀的蒸鍍掩模10和蒸鍍掩模保持部件20。
[0180](框部的大小)
[0181]另外，圖1(a)、(b)中，以蒸鍍掩模10為矩形狀、蒸鍍掩模保持部件20的框部21形成為俯視時比蒸鍍掩模10大一圈的矩形狀的情況舉例進行了圖示。
[0182]但是，框部21俯視時也可以具有與蒸鍍掩模10相同的大小。另外，也可以蒸鍍掩模10的開口區域11的外周部分形成得比框部21大，蒸鍍掩模10以卷繞于框部21的方式固定。
[0183][實施方式2]
[0184]基于圖6(a)?(d)對本實施方式進行說明如下。
[0185]另外，在本實施方式中，主要對與實施方式I的不同點進行說明，對具有與在上述實施方式I中說明過的構成要素相同的功能的構成要素標注相同的編號，省略其說明。
[0186]圖6(a)?(d)是表不本實施方式的掩模單兀I的概略結構的圖。圖6(a)是表示本實施方式的掩模單元I的概略結構的平面圖，圖6(b)是圖6(a)所示的掩模單元I的I1-1I線矢視截面圖，圖6(c)是表示圖6(a)所示的掩模單元I的蒸鍍掩模保持部件20的概略結構的平面圖，圖6(d)是表示圖6(a)所示的掩模單元I的蒸鍍掩模10的概略結構的平面圖。
[0187]本實施方式的掩模單元1，除了變更了蒸鍍掩模保持部件20的梁部22的平面形狀(換言之，開口部H的開口形狀)和蒸鍍掩模10的開口部S的開口形狀以外，具有與實施方式I的掩模單元I同樣的結構。
[0188]<蒸鍍掩模保持部件20>
[0189]本實施方式的蒸鍍掩模保持部件20，如圖6 (a)、(c)和圖所示，在矩形狀的框部21的各對角線上分別設置有梁部22。由此，本實施方式中，由框部21圍成的開口部H，被相對于Y方向傾斜交叉的梁部22分隔為4個開口部Hll?H14。
[0190]另外，本實施方式中，如圖6(b)所示，梁部22與實施方式I同樣具有與框部21相同的厚度，以其上表面22a成為與框部21的與蒸鍍掩模10接觸的接觸面21a為同一面的方式形成。由此，本實施方式的蒸鍍掩模保持部件20由框部21和相對于Y方向傾斜地交叉的梁部22支承蒸鍍掩模10。
[0191]另外，本實施方式中，如圖6(a)、(C)所示，俯視時梁部22的交叉部(梁部交叉區域22b)及其附近的梁部22的Y方向的寬度，形成為其他區域的梁部22的Y方向的寬度的2倍的寬度。
[0192]由此，俯視時由梁部22分割而成的開口部Hll?H14的Y方向的開口長度總和(即開口部Hll?H14中的俯視時在Y方向位于同一直線上的開口部的開口長度總和)在X方向的任意位置均相等。
[0193]〈蒸鍍掩模10>
[0194]另外，圖6(a)、(d)中，以在蒸鍍掩模10在Y方向上延伸設置的狹縫狀的開口部S在X方向上呈條紋狀地排列設置有多個的情況舉例進行說明。其中，上述開口形狀為一例，并不限定于此，如實施方式I中說明的那樣。
[0195]本實施方式中，如圖6(a)、(d)所示，各開口部S形成于不與梁部22重疊的部分，俯視時以避開梁部22的方式在Y方向上連續或在Y方向上斷續地形成。
[0196]因此，本實施方式中，蒸鍍掩模10的開口部S本身也形成為俯視時該開口部S的Y方向的開口部S的開口長度總和在X方向的任意位置均相等，與開口部Hll?H14中的在Y方向位于同一直線上的開口部重疊的開口部S的開口長度在X方向的任意位置均相等。
[0197]〈效果〉
[0198]因此，本實施方式中，與實施方式I同樣，以Y方向作為掃描方向的方式在蒸鍍裝置50配置掩模單元I使被成膜基板200與掩模單元I和蒸鍍源70相對地移動，由此，能夠使俯視時掃描方向上的與開口部Hl I?H14重疊的開口部S的開口長度總和在與掃描方向垂直的任意位置均相等，能夠在具有梁部22的區域和不具有梁部22的區域都進行同樣的蒸鍍。
[0199]由此，能夠進行沒有因蒸鍍掩模10的撓曲導致的蒸鍍位置偏移的蒸鍍，并且能夠在各開口部S、即X方向相鄰的開口部S間蒸鍍量不發生偏差，在有梁部22的顯示區域也均勻地進行蒸鍍。由此，能夠實現例如沒有混色的有機EL顯示裝置。
[0200]另外，本實施方式中，也如上所述，通過在框部21設置梁部22能夠抑制框部21的歪曲等變形，并且通過使上述梁部22在由框部21圍成的開口部H內以與蒸鍍掩模10接觸的方式形成，能夠抑制蒸鍍掩模10的自重撓曲等撓曲。
[0201 ]另外，本實施方式中，也通過以上述梁部22橫貫容易發生撓曲的蒸鍍掩模10的中央部附近的方式形成，能夠直接地抑制蒸鍍掩模10的撓曲。
[0202]而且，根據本實施方式，上述梁部22交叉地設置，具有分支部，由此能夠獲得比實施方式I高的抑制蒸鍍掩模10的撓曲的效果。
[0203]因此，本實施方式也能夠相比現有技術減少拉伸蒸鍍掩模10的張力。因此，不需要剛性高、粗(重)的框部，相比現有技術能夠使框部21薄型化、輕量化。因此，即使形成有梁部22，也能夠相比現有技術使蒸鍍掩模保持部件20輕量化。
[0204]另外，圖6(b)中，以在由框部21圍成的開口部H內形成具有與框部21相同厚度的板狀的梁部22的情況舉例進行圖示。
[0205]但是，本實施方式中也如圖5所示，梁部22的厚度也可以形成得比框部21薄。
[0206]其他自不必說本實施方式也能夠進行與實施方式I同樣的變形。
[0207]<變形例>
[0208]另外，本實施方式中，以俯視時梁部交叉區域22b及其附近的梁部22的Y方向的寬度，形成為其他區域的梁部22的Y方向的寬度的2倍的寬度的情況舉例進行圖示，但也可以根據開口部S的開口圖案(形狀和間距等)，使俯視時僅在梁部交叉區域22b，該梁部交叉區域22b的梁部22的Y方向的寬度(換言之、梁部交叉區域22b的Y方向的寬度)形成為梁部交叉區域22b以外的梁部22的Y方向的寬度的2倍的寬度。
[0209][實施方式3]
[0210]基于圖7(a)、(b)對本實施方式進行說明如下。
[0211]另外，在本實施方式中，主要對與實施方式2的不同點進行說明，對具有與在上述實施方式I中說明過的構成要素相同的功能的構成要素標注相同的編號，省略其說明。
[0212]圖7(a)是表示本實施方式的掩模單元I的蒸鍍掩模保持部件20的概略結構的平面圖，圖7(b)是表示圖7(a)所示的掩模單元I的蒸鍍掩模10的概略結構的平面圖。
[0213]本實施方式的掩模單元1，除了變更了蒸鍍掩模保持部件20的梁部22的平面形狀(換言之，開口部H的開口形狀)和蒸鍍掩模10的開口部S的開口形狀以外，具有與實施方式2的掩模單元I同樣的結構。因此，以下僅對上述形狀進行說明。
[0214]<蒸鍍掩模保持部件20>
[0215]本實施方式的蒸鍍掩模保持部件20，如圖7(a)所示，在矩形狀的框部21的各對角線上分別設置有梁部22。由此，本實施方式中，由框部21圍成的開口部H，由相對于Y方向傾斜地交叉的梁部22分隔為4個開口部H21?H24。
[0216]本實施方式中，俯視時梁部22均具有均等的寬度。因此，本實施方式中，在由框部21圍成的開口部H內的梁部22交叉的梁部交叉區域22b以外的部分，梁部22分支，由此，梁部交叉區域22b相比該開口部H內的其他區域，Y方向的開口長度的總和較長。
[0217]〈蒸鍍掩模10>
[0218]本實施方式中，如上所述，梁部交叉區域22b相比開口部H內的其他區域Y方向的開口長度的總和較長，所以在X方向上，在Y方向設置有梁部交叉區域22b的部分，相比開口部H的其他區域，蒸鍍掩模10的Y方向的開口長度較短，以使得俯視時與開口部H重疊的開口部S的Y方向的開口長度在X方向排列的任意開口部S均相等。
[0219]S卩，為了防止X方向相鄰的開口部S間的蒸鍍量的偏差，只要俯視時成為開口部H的掃描方向的Y方向上的實質上的開口長度的總和在與開口部H的掃描方向垂直的X方向上均相等即可。
[0220]根據本實施方式，如上所述,當組合蒸鍍掩模保持部件20和蒸鍍掩模10做成掩模單元I時，通過設計開口部S，使俯視時與開口部H21?H24中的Y方向上位于同一直線上的開口部重疊的開口部S的開口長度在X方向的任意位置均相等，從而能夠獲得與實施方式2同樣的效果。
[0221]〈變形例〉
[0222]另外，圖7(a)、(b)中，以梁部22與開口部S部分重疊的情況舉例進行了圖示，但本實施方式并不限定于此，也可以例如構成為如圖7(b)的開口部S的與梁部22重疊的區域不開口(即，在與梁部22重疊的區域不形成開口部S)。在這種情況下，做成掩模單元I時的俯視時的Y方向的實質上的開口長度也與使用圖7(b)所示的蒸鍍掩模10的情況相同，能夠獲得與上述相同的效果。
[0223][實施方式4]
[0224]基于圖8(a)、(b)對本實施方式進行說明如下。
[0225]另外，在本實施方式中，主要對與實施方式I?3的不同點進行說明，對具有與在上述實施方式I?3中說明過的構成要素相同的功能的構成要素標注相同的編號，省略其說明。
[0226]圖8(a)是表示本實施方式的掩模單元I的蒸鍍掩模保持部件20的概略結構的平面圖，圖8(b)是表示圖8(a)所示的掩模單元I的蒸鍍掩模10的概略結構的平面圖。
[0227]本實施方式的掩模單元1，除了變更了蒸鍍掩模保持部件20的梁部22的平面形狀(換言之，開口部H的開口形狀)和蒸鍍掩模10的開口部S的開口形狀以外，具有與實施方式I的掩模單元I同樣的結構。因此，以下僅對上述形狀進行說明。
[0228]另外，本實施方式中，圖8(b)中，以在蒸鍍掩模10，在Y方向上延伸設置的狹縫狀的開口部S在X方向上呈條紋狀排列設置有多個的情況舉例進行說明，但當然本實施方式中也能夠進行與實施方式I同樣的變形。
[0229]<蒸鍍掩模保持部件20>
[0230]本實施方式的蒸鍍掩模保持部件20，如圖8 (a)所示，梁部22形成在容易發生撓曲的蒸鍍掩模10的中央部附近，特別是在本實施方式中，以橫貫蒸鍍掩模10的Y方向的中央線(即，在X方向延伸的中央線)的方式形成為曲折狀(圖8(a)中，作為一例為M字狀)。另外，本實施方式中，梁部22也都具有均等的寬度。
[0231]由此，本實施方式中，由框部21圍成的開口部H，被上述梁部22分割為5個開口部H31?H35，俯視時由上述梁部22分割而成的開口部H31?H35的Y方向的開口長度總和(即開口部H31?H35中的俯視時在Y方向位于同一直線上的開口部的開口長度總和)在X方向的任意位置均相等。
[0232]<蒸鍍掩模10>
[0233]本實施方式中，也如圖8(b)所示，各開口部S形成于不與梁部22重疊的部分，俯視時以避開梁部22的方式在Y方向上連續或在Y方向上斷續地形成。
[0234]因此，本實施方式中，蒸鍍掩模10的開口部S本身也形成為俯視時該開口部S的Y方向的開口部S的開口長度總和在X方向的任意位置均相等，與開口部H31?H35中的在Y方向位于同一直線上的開口部重疊的開口部S的開口長度在X方向的任意位置均相等。
[0235]由此，本實施方式也能夠得到與實施方式I同樣的效果。
[0236]另外，本實施方式中，如上所述，梁部22以橫貫蒸鍍掩模10的Y方向的中央線的方式形成為曲折狀，由此遍布多處地直接支承蒸鍍掩模10的容易發生撓曲的上述中央線上的區域。因此，能夠得到比實施方式I?3高的抑制蒸鍍掩模10的撓曲的效果。
[0237]另外，如圖14所示，蒸鍍掩模保持部件因將被拉伸熔接的蒸鍍掩模向該蒸鍍掩模的中央強力拉伸，框部的邊的部分、特別是長邊部分容易發生變形。
[0238]但是，根據本實施方式，如圖8(a)所示，通過在框部21、特別是容易發生變形的框部21的長邊間呈曲折狀地設置梁部22，能夠對于由安裝于框部21的蒸鍍掩模10拉伸而將框部21向中央拉伸的力給予反向的作用力，所以能夠有效地抑制被拉伸熔接的蒸鍍掩模10的拉伸力導致的框部21的變形。
[0239][實施方式5]
[0240]基于圖9(a)、(b)對本實施方式進行說明如下。
[0241]另外，在本實施方式中，主要對與實施方式I?4的不同點進行說明，對具有與在上述實施方式I?4中說明過的構成要素相同的功能的構成要素標注相同的編號，省略其說明。
[0242]圖9(a)是表示本實施方式的掩模單元I的蒸鍍掩模保持部件20的概略結構的平面圖，圖9(b)是表示圖9(a)所示的掩模單元I的蒸鍍掩模10的概略結構的平面圖。
[0243]本實施方式的掩模單元1，除了變更了蒸鍍掩模保持部件20的梁部22的平面形狀(換言之，開口部H的開口形狀)和蒸鍍掩模10的開口部S的開口形狀以外，具有與實施方式I的圖5所示的掩模單元I同樣的結構。因此，以下僅對上述形狀進行說明。
[0244]<蒸鍍掩模保持部件20>
[0245]在本實施方式的蒸鍍掩模保持部件20，如圖9 (a)所示，以俯視時在由框部21圍成的區域內呈交錯狀地形成有多個矩形狀的小徑的開口部HA的方式設置梁部22。
[0246]上述梁部22由具有交錯狀形成的多個開口部HA、和在Y方向的框部21的邊緣部之間相連接的非開口區域的板狀部件構成，俯視時遍及由框部21圍成的區域整體設置。
[0247]上述開口部HA均具有相同的大小，在X方向和Y方向，框部21的從一端數第偶數列的開口部HA均位于第奇數列的開口部HA間，并且開口部HA間的非開口區域僅在橫切Y方向的方向(即，X方向或X方向與Y方向之間的傾斜方向)上連續，而不在Y方向上連續。
[0248]由此，上述蒸鍍掩模保持部件20中，俯視時由梁部22分割而成的開口部HA的Y方向的開口長度總和(即，俯視時在Y方向位于同一直線上的開口部HA的開口長度總和)在X方向的任意的開口部HA的位置均相等，并且不存在不能進行蒸鍍的、Y方向上連續的梁部(非開口區域)。
[0249]<蒸鍍掩模10>
[0250]上述蒸鍍掩模10中，各開口部S如圖9 (b)所示，俯視時以避開梁部22 ( S卩，由框部21圍成的區域的非開口區域)的方式與開口部HA對應地(重疊地)形成。
[0251 ] 因此，本實施方式中，如圖9 (b)所示，在蒸鍍掩模10，狹縫狀的開口部S每隔多個地在X方向和Y方向上斷續且錯開位置地排列。
[0252]因此，本實施方式中，蒸鍍掩模10的開口部S本身也形成為俯視時該開口部S的Y方向的開口部S的開口長度總和在X方向的任意位置均相等，與在Y方向位于同一直線上的開口部HA重疊的開口部S的開口長度在X方向的任意位置均相等。
[0253]由此，本實施方式也能夠得到與實施方式I?4同樣的效果。
[0254]另外，根據本實施方式，如上所述，上述掩模單元I中，各開口部S與開口部HA對應地形成，由此，遍及蒸鍍掩模10的掩模部、即開口區域11的非開口區域的整個面地設置有由橫梁構成的梁部22。
[0255]因此，蒸鍍掩模10，在開口區域11中的除開口部S以外的區域全部由設置在其下表面側的梁部22直接支承，除開口部S以外的全部區域由蒸鍍掩模保持部件20直接保持(支承)。因此，根據本實施方式，能夠獲得與實施方式I同樣的效果，并且能夠實現不發生蒸鍍掩模10的撓曲的掩模單元I。
[0256]〈開口部S的變形例〉
[0257]另外，圖9(b)中，以蒸鍍掩模10的開口部S俯視時以避開梁部22的方式與開口部HA對應地形成，狹縫狀的開口部S每隔多個地在X方向和Y方向上斷續且錯開位置地排列的情況舉例進行了說明。但是，本發明并不限定于此。
[0258]如上所述，為了防止X方向相鄰的開口部S間的蒸鍍量的偏差，只要俯視時掩模單元I的Y方向上的實質上的開口長度的總和在X方向的開口部均相等即可。
[0259]因此，如實施方式3所示，開口部S可以不與梁部22重合。本實施方式中，俯視時在Y方向位于同一直線上的開口部HA的開口長度總和在X方向的任何的開口部HA的位置均相等，所以只要與各開口部HA重疊的開口部S的形狀相同，就能夠獲得相同的效果。因此，與在Y方向相鄰的開口部HA重疊的開口部S，也可以彼此連續地形成。
[0260]<蒸鍍掩模保持部件20的變形例>
[0261]另外，上述說明中，掩模單元I除了變更了開口部H的開口形狀和蒸鍍掩模10的開口部S的開口形狀以外，具有與圖5所示的掩模單元I同樣的結構。
[0262]但是，掩模單元I也可以具有框部21與梁部22形成為一體的結構。
[0263]例如，也可以通過使框部21與板狀的梁部22以相同的厚度、且做薄并一體化，使框部21與梁部22的邊界消失的形狀(即，一塊板的形狀)。
[0264]通常，框部21需要能夠耐受蒸鍍掩模10的張力的強度，所以必然變厚。
[0265]與之相對地，梁部22 (掩模支承部)，只要有用于支承蒸鍍掩模10所需的、不會因自重而撓曲的厚度即可。
[0266]如本實施方式的梁部22所示，當增大梁部22的面積時，施加于蒸鍍掩模10的張力能夠減小到極限，不需要像現有技術這樣用于保持張力的剛性。因此，根據本實施方式，能夠使框部21的厚度盡可能地接近梁部22的厚度。其結果是，如上所述，能夠將蒸鍍掩模保持部件20做成一塊板那樣的結構。
[0267]像這樣如果使蒸鍍掩模保持部件20的框部21與梁部22為相同的厚度，則僅需要在確保了平坦性的板上開任意的開口就能夠容易地制作蒸鍍掩模保持部件20。
[0268]另外，在該情況下，上述蒸鍍掩模保持部件20的厚度，即設置有上述開口部HA的板狀部件的厚度，只要能夠根據該蒸鍍掩模保持部件20的材質或蒸鍍掩模10的掩模尺寸等而穩定地保持蒸鍍掩模10，并且適當設定以使之不發生自重撓曲即可。像這樣，上述蒸鍍掩模保持部件20的厚度，例如根據蒸鍍掩模10的掩模尺寸而不同，例如設定為2mm?15mm程度。
[0269][實施方式6]
[0270]基于圖10(a)?(C)至圖12對本實施方式進行說明如下。
[0271]另外，在本實施方式中，主要對與實施方式I?5的不同點進行說明，對具有與在上述實施方式I?5中說明過的構成要素相同的功能的構成要素標注相同的編號，省略其說明。
[0272]圖10(a)?(C)是表示本實施方式的掩模單元I的概略結構的圖。其中，圖10(a)是表示本實施方式的掩模單元I的概略結構的分解立體圖，圖10(b)是表示圖10(a)所示的掩模單元I的蒸鍍掩模保持部件20的概略結構的平面圖，圖10(c)是表示圖10(a)所示的掩模單元I的蒸鍍掩模10的概略結構的平面圖。其中，圖10(a)中為了便于圖示，省略了蒸鍍掩模10的開口圖案的圖示。
[0273]以下，對與實施方式I?5的不同點進行說明。
[0274]<蒸鍍掩模保持部件20>
[0275]本實施方式的蒸鍍掩模保持部件20，如圖10(a)、(b)所示，在由框部21圍成的區域(開口部H)內設置有框(frame)狀的梁部22，該梁部22具有立體的骨架(立體結構)，梁部22的與蒸鍍掩模10接觸的接觸部22A形成為島狀。
[0276]上述梁部22，作為梁構件，設置有以與蒸鍍掩模10接觸的接觸部22A為頂點在縱向(上下方向、Z方向)、更具體地說在上下間傾斜的方向上配設的縱梁22B，該縱梁22B直接或間接地與框部21的下端21b連結。
[0277]上述縱梁22B，從強度上考慮優選以上述接觸部22A為頂點形成為放射狀。其中，圖10 (a)、(b)中，以縱梁22B架設為四角錐狀的情況舉例進行了圖示，但上述縱梁22B也可以架設為三角錐狀、也可以形成為四角錐以上的多角錐狀。
[0278]作為上述縱梁22B，能夠使用例如金屬纜線。其中，縱梁22B的直徑，可以根據接觸部22A的數量、換言之、縱梁22B的配設密度或立體形狀等適當設定，只要具有足以保持蒸鍍掩模10的強度,就沒有特別限定。
[0279]另外，在與上述蒸鍍掩模10的接觸部22A，為了更穩定地支承蒸鍍掩模10，并且緩和因蒸鍍掩模10的自重而在蒸鍍掩模10的與上述梁部22接觸的接觸部22A的接觸部位的應力集中，如圖10(a)、(b)所示，優選設置有作為具有緩沖作用的島狀部件的墊(pat)部。即，上述接觸部22A優選為具有緩沖作用的墊部。
[0280]構成上述接觸部22A的墊部，可以由金屬材料等與蒸鍍掩模10和縱梁22B等相同的材料形成，也可以由具有耐熱性的橡膠、發泡材料等與梁構件不同的材料形成。
[0281]另外，圖10(a)、(b)中，以上述接觸部22A做成矩形狀的情況為例進行圖示，但上述墊部的形狀并不限定于此。
[0282]另外，上述接觸部22A為了更穩定地支承蒸鍍掩模10并且提高抑制撓曲的效果，優選以等間隔均勻地分散形成，例如形成為單位面積的密度一定。
[0283]因此，圖10(b)所示的例子中，在由框部21圍成的開口部H內，由在X方向上排列在一直線上的多個接觸部22A構成的列在Y方向上并列設置有多列(圖10(b)中為2列)，且Y方向上相鄰的接觸部22A分別在Y方向排列在一直線上。
[0284]<蒸鍍掩模10>
[0285]另夕卜，圖10(c)中，以在蒸鍍掩模10，在Y方向上延伸設置的狹縫狀的開口部S在X方向上呈條紋狀地排列設置有多個的情況舉例進行說明。另外，上述開口形狀為一例，并不限定于此，如實施方式I中說明的那樣。
[0286]本實施方式中，如圖10(c)所示，各開口部S形成不與梁部22的接觸部22A重疊的部分。
[0287]另外，本實施方式中，梁部22的接觸部22A不與外周的框部21直接連結，而在俯視時形成為島狀，由此在X方向上的、在Y方向設置有接觸部22A的部分，相比Y方向上沒有設置接觸部22k的部分，開口部H的Y方向的開口長度的總和較長。
[0288]因此，圖10(c)中，俯視時以覆蓋在X方向上排列的接觸部22A的方式設置有在X方向上連接的帶狀的非開口區域，各開口部S俯視時以避開梁部22的方式在Y方向上斷續地形成。
[0289]由此，本實施方式中，蒸鍍掩模10的開口部S本身也形成為俯視時該開口部S的Y方向的開口部S的開口長度總和在X方向的任意位置均相等，與在Y方向位于同一直線上的開口部H重疊的開口部S的開口長度在X方向的任意位置均相等。
[0290]另外，本實施方式中，如圖10(a)、(b)所示，通過在開口部H設置縱梁22B，俯視時不僅上述接觸部22A而且縱梁22B也與蒸鍍掩模10重疊。
[0291]但是，縱梁22B如上所述，具有立體梁結構，形成為框狀，由此，從蒸鍍源70出射的蒸鍍顆粒通過縱梁22B間的空間，飛散(擴散)到由框部21圍成的開口部H內。
[0292]因此，縱梁22B雖然俯視時與開口部S重疊，但是實質上不覆蓋開口部S，不會妨礙均勻蒸鍍。
[0293]由此，本實施方式也能夠得到與實施方式I同樣的效果。
[0294]另外，根據本實施方式，梁部22的接觸部22A不與外周的框部21直接連結，俯視時形成為島狀，由此能夠增大由框部21圍成的區域的開口部H的總面積。因此，根據本實施方式，能夠直接抑制蒸鍍掩模10的撓曲，并且能夠增大蒸鍍掩模10的開口部S的總開口面積并提高開口部S的開口圖案的布局的自由度。
[0295]像這樣，上述梁部22特別是上述梁部22的接觸部22A可以斷續地橫切Y方向。
[0296]另外，本實施方式中，俯視時縱梁22B也以橫切Y方向的方式使縱梁22B形成為放射狀，但如上所述，在梁部22具有立體梁結構，形成為框狀的情況下，縱梁22B不會妨礙均勻蒸鍍。
[0297]因此，掩模單元I中，梁部22的與蒸鍍掩模10接觸的部分(本實施方式中為接觸區域22A)橫切Y方向，不沿著Y方向架在框部21上即可，可以在梁部22的不與蒸鍍掩模10接觸的部分例如框部21的下端部分，設置在Y方向連結框部21的梁構件。
[0298]另外，根據本實施方式，如上所述，通過使梁部22為立體梁結構，能夠實現輕量化。
[0299]<蒸鍍掩模10和蒸鍍掩模保持部件20的變形例>
[0300]圖11是表示圖10(a)所示的掩模單元I的另一蒸鍍掩模10的概略結構的平面圖。
[0301]圖11中，各開口部S也俯視時以避開梁部22的方式在Y方向上斷續地形成。但是，圖11中，俯視時以覆蓋X方向上排列的接觸部22A的方式設置有矩形狀的非開口區域，并且蒸鍍掩模10的開口部S以俯視時該開口部S的Y方向的開口部S的開口長度總和在X方向的任意位置均相等的方式，在覆蓋上述接觸部22A的矩形狀的非開口區域間設置有用于使Y方向的開口部S的開口長度總和相等的非開口區域。
[0302]由此，圖11中，與在Y方向位于同一直線上的開口部H重疊的開口部S的開口長度也在X方向的任意位置相等。
[0303]另外，圖10(a)、(b)中，上述接觸部22A做成矩形狀(例如正方形)，圖11中，覆蓋上述接觸部22A的非開口區域做成覆蓋接觸部22A程度的大小的矩形狀(圖11中為長方形)，但是上述接觸部22A和覆蓋該接觸部22A的蒸鍍掩模10的非開口區域，只要在上述框部21不與Y方向平行地連結即可，只要與外周的框部21之間存在間隙(即，在Y方向上存在用于蒸鍍蒸鍍顆粒的沒有被梁部22覆蓋的開口部S)，Y方向的實質上的開口長度在X方向的任意位置均相等即可，Y方向上例如可以形成為帶狀。
[0304]<蒸鍍掩模保持部件20的變形例>
[0305]圖12是表示本實施方式的掩模單元I的另一蒸鍍掩模保持部件20的概略結構的平面圖。
[0306]上述實施方式I?4中，以在相對于Y方向傾斜的方向設置梁部22，并且圖10(a)、(b)所示的例子中，在相對于Y方向傾斜的方向上設置縱梁22B的情況舉例進行了圖示。但是，上述梁部22只要在被成膜基板200的與蒸鍍區域相對的區域不與Y方向平行地形成即可，例如在使用圖10(c)所示的那樣的蒸鍍掩模10的情況下，可以與該蒸鍍掩模10的非開口區域的形狀配合地，如圖12所示，例如板狀的梁部22具有與X方向平行地形成的結構。
[0307]另外，圖12中，以梁部22在X方向上平行地形成有2根的情況舉例表示，但是根據蒸鍍掩模10的形狀，梁部22可以在X方向上只形成I根，或者形成3根以上，另外，當然其中的幾個也可以傾斜地形成。
[0308][總結]
[0309]本發明的方式I的掩模單元包括:具有開口部的蒸鍍掩模；和保持上述蒸鍍掩模的蒸鍍掩模保持部件，上述蒸鍍掩模保持部件的一部分與上述蒸鍍掩模的下表面接觸，并且，從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，在上述蒸鍍掩模的開口部中的第一方向的任意位置，與該第一方向正交的第二方向上的沒有被上述蒸鍍掩模保持部件覆蓋的開口部的開口長度總和均相等，并且，上述蒸鍍掩模保持部件在上述蒸鍍掩模的邊緣部以外的部分具有連續或斷續地橫切上述第二方向地與上述蒸鍍掩模的下表面接觸的接觸部，另一方面，上述蒸鍍掩模保持部件在上述蒸鍍掩模的邊緣部以外的部分不具有從上述蒸鍍掩模中的上述第二方向的一端至另一端連續的接觸部。
[0310]根據上述結構，通過從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，上述蒸鍍掩模保持部件在上述蒸鍍掩模的邊緣部以外的部分具有連續或斷續地橫切上述第二方向地與上述蒸鍍掩模的下表面接觸的接觸部，能夠抑制蒸鍍掩模保持部件的歪曲等變形。另外，通過上述蒸鍍掩模保持部件在上述蒸鍍掩模的邊緣部以外的部分具有連續或斷續地橫切上述第二方向地與上述蒸鍍掩模的下表面接觸的接觸部，能夠抑制蒸鍍掩模的自重撓曲等撓曲。
[0311]另外，根據上述結構，上述蒸鍍掩模保持部件的與上述蒸鍍掩模接觸的接觸部連續或斷續地橫切第二方向，在上述蒸鍍掩模的邊緣部以外的部分，不具有從上述蒸鍍掩模中的上述第二方向的一端至另一端連續的接觸部，所以通過以上述第二方向為掃描方向進行掃描蒸鍍，上述蒸鍍掩模保持部件的與上述蒸鍍掩模接觸的接觸部不與掃描方向平行。
[0312]因此，如果使用上述掩模單元以上述第二方向為掃描方向進行掃描蒸鍍，則即使在上述蒸鍍掩模保持部件設置了上述接觸部，在有該接觸部的區域也能夠進行與沒有該接觸部的區域同樣的蒸鍍。因此，如果將上述掩模單元作為掃描蒸鍍用的掩模單元使用，則能夠進行沒有因蒸鍍掩模的撓曲導致的蒸鍍位置偏移的蒸鍍。
[0313]另外，上述掩模單元，從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，在上述蒸鍍掩模的開口部中的第一方向的任意位置，與該第一方向正交的第二方向上的沒有被上述梁部覆蓋的開口部的開口長度總和均相等，所以上述第一方向上相鄰的開口部間不發生蒸鍍量的偏差，在具有上述蒸鍍掩模保持部件的與上述蒸鍍掩模接觸的接觸部的顯示區域，也能夠均勻地進行蒸鍍。因此，根據上述結構，上述蒸鍍掩模保持部件的與上述蒸鍍掩模接觸的接觸部不會妨礙蒸鍍，能夠利用該接觸部抑制蒸鍍掩模的撓曲導致的蒸鍍位置偏移，且能夠進行均勻的蒸鍍。由此，能夠實現例如沒有混色的有機EL顯示裝置。
[0314]本發明的方式2的掩模單元,在上述方式I中,優選上述蒸鍍掩模保持部件包括框部和與該框部連結且設置在由該框部圍成的區域內的梁部，上述接觸部是上述梁部的一部分，上述梁部的與上述蒸鍍掩模接觸的部分，不沿著上述第二方向架在上述框部上，而連續或斷續地橫切上述第二方向。
[0315]根據上述結構，通過在框部設置梁部，即使不使用剛性高、粗(重)的框部，也能夠抑制框部的歪曲等變形。另外，通過以上述梁部在由框部圍成的開口區域內以與蒸鍍掩模下表面接觸的方式設置，能夠抑制蒸鍍掩模的自重撓曲等撓曲。
[0316]另外，根據上述結構，上述梁部的與上述蒸鍍掩模接觸的部分連續或斷續地橫切第二方向，不沿著第二方向架在上述框部上，所以通過以上述第二方向為掃描方向進行掃描蒸鍍，梁部不與掃描方向平行。
[0317]因此，如果使用上述掩模單元以上述第二方向為掃描方向進行掃描蒸鍍，則即使在有梁部的區域也能夠進行與沒有梁部的區域同樣的蒸鍍。因此，如果將上述掩模單元作為掃描蒸鍍用的掩模單元使用，則能夠進行沒有因蒸鍍掩模的撓曲導致的蒸鍍位置偏移的蒸鍍。
[0318]另外，上述掩模單元，從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，在上述蒸鍍掩模的開口部中的第一方向的任意位置，與該第一方向正交的第二方向上的沒有被上述梁部覆蓋的開口部的開口長度總和均相等，所以上述第一方向上相鄰的開口部間不發生蒸鍍量的偏差，有梁部的顯示區域也能夠均勻地進行蒸鍍。因此，根據上述結構，上述梁部不會妨礙蒸鍍，能夠利用上述梁部抑制蒸鍍掩模的撓曲導致的蒸鍍位置偏移，且能夠進行均勻的蒸鍍。由此，如上所述，能夠實現例如沒有混色的有機EL顯示裝置。
[0319]本發明的方式3的掩模單元，在上述方式2中，優選上述蒸鍍掩模的開口部以避開上述梁部的與上述蒸鍍掩模接觸的部分的方式設置，并且，從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，在上述蒸鍍掩模的開口部中的第一方向的任意位置，上述第二方向上的上述開口部的開口長度總和均相等。
[0320]根據上述結構，從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，不論上述蒸鍍掩模保持部件的由上述框部圍成的區域內沒有設置上述梁部的開口區域的第二方向的開口長度總和是否在第一方向的任意位置均相等，都能夠使上述蒸鍍掩模的開口部的第二方向的沒有被上述梁部覆蓋的蒸鍍掩模的開口部的開口長度總和在第一方向的任意位置均相等。[0321 ] 本發明的方式4的掩模單元，在上述方式3中，優選從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，上述蒸鍍掩模保持部件中的由上述框部圍成的區域內的沒有設置上述梁部的開口區域的第二方向的開口長度總和，在第一方向的任意位置均相等。
[0322]根據上述結構，使上述蒸鍍掩模的開口部避開上述梁部的與上述蒸鍍掩模接觸的部分，以覆蓋上述梁部的方式設置非開口區域，由此能夠容易地使上述蒸鍍掩模的開口部的第二方向的沒有被上述梁部覆蓋的蒸鍍掩模的開口部的開口長度總和在第一方向的任意位置均相等。
[0323]本發明的方式5的掩模單兀,在上述方式2?4的任一個中，優選上述框部為矩形狀，上述梁部設置在上述框部的至少一條對角線上。
[0324]根據上述結構，上述梁部設置在上述框部的至少一條對角線上，由此上述梁部橫貫容易發生撓曲的蒸鍍掩模的中央附近。因此，能夠直接抑制蒸鍍掩模的撓曲。另外，由此，相比現有技術，在將蒸鍍掩模固定到蒸鍍掩模保持部件時能夠減少拉伸蒸鍍掩模的張力。而且，根據上述結構，上述梁部形成在框部的對角線上，所以上述梁部作為支撐條起作用，因此能夠更強地防止框部的變形。因此，不需要剛性高、粗(重)的框部，相比現有技術能夠使框部薄型化、輕量化。
[0325]本發明的方式6的掩模單元，在上述方式5中，優選上述梁部分別設置在上述框部的各對角線上，從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，上述梁部的交叉部的上述梁部的第二方向的寬度，形成為上述梁部的交叉部以外的梁部的第二方向的寬度的2倍的寬度。
[0326]根據上述結構，上述梁部分別設置在上述框部各對角線上，由此上述梁部橫貫容易發生撓曲的蒸鍍掩模的中央附近。因此，能夠直接抑制蒸鍍掩模的撓曲。另外，由此，相比現有技術，在將蒸鍍掩模固定到蒸鍍掩模保持部件時能夠減少拉伸蒸鍍掩模的張力。另夕卜，上述結構中上述梁部也形成在框部的對角線上，所以上述梁部作為支撐條起作用，因此能夠更強地防止框部的變形。因此，不需要剛性高、粗(重)的框部，相比現有技術能夠使框部薄型化、輕量化。
[0327]根據上述結構，從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，上述梁部的交叉部中的上述梁部的第二方向的寬度，形成為上述梁部的交叉部以外的梁部的第二方向的寬度的2倍的寬度，由此，能夠使蒸鍍掩模保持部件中的由上述框部圍成的區域內沒有設置上述梁部的開口區域的第二方向的開口長度總和在第一方向的任意位置均相等。
[0328]本發明的方式7的掩模單元，在上述方式2中，優選上述框部為矩形狀，上述梁部分別設置在上述框部的各對角線上，從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，上述梁部均具有均等的寬度，并且，在第一方向上的上述蒸鍍掩模的開口部中，在第二方向設置有上述梁部的交叉部的部分，相比由上述框部圍成的其他區域，上述蒸鍍掩模的第二方向的開口長度較短，以使得在上述蒸鍍掩模的開口部中的第一方向的任意位置，與該第一方向正交的第二方向的沒有被上述梁部覆蓋的開口部的開口長度總和均相等。
[0329]上述結構中，上述梁部也分別設置在上述框部各對角線上，由此上述梁部橫貫容易發生撓曲的蒸鍍掩模的中央附近。因此，能夠直接抑制蒸鍍掩模的撓曲。另外，由此，相比現有技術，在將蒸鍍掩模固定到蒸鍍掩模保持部件時能夠減少拉伸蒸鍍掩模的張力。另夕卜，上述結構中梁部也形在框部的對角線上，所以上述梁部作為支撐條起作用，因此能夠更強地防止框部的變形。因此，不需要剛性高、粗(重)的框部，相比現有技術能夠使框部薄型化、輕量化。
[0330]另外，根據上述結構，上述梁部分別設計在上述框部的各對角線上，從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時上述梁部均具有均等的寬度，由此，上述蒸鍍掩模保持部件中，在上述梁部交叉的區域，相比由上述框部圍成的區域的其他區域，上述第二方向的開口長度的總和較長。
[0331]但是,根據上述結構，在第一方向的上述蒸鍍掩模的開口部，在第二方向設置有上述梁部的交叉部的部分，相比由上述框部圍成的其他區域，上述蒸鍍掩模的第二方向的開口長度較短，以使得在上述蒸鍍掩模的開口部中的第一方向的任意位置，與該第一方向正交的第二方向的沒有被上述梁部覆蓋的開口部的開口長度總和均相等，所以在上述第一方向上相鄰的開口部間蒸鍍量不發生偏差，在具有梁部的顯示區域也能夠均勻地進行蒸鍍。
[0332]本發明的方式8的掩模單元，在上述方式2?4的任一個中，優選在從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，上述梁部形成為曲折狀。
[0333]根據上述結構，在從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，上述梁部形成為曲折狀，由此上述梁部橫貫容易發生撓曲的蒸鍍掩模的中央附近。因此，根據上述結構，能夠直接抑制上述蒸鍍掩模的撓曲。
[0334]另外，蒸鍍掩模保持部件中，在將蒸鍍掩模固定于上述蒸鍍掩模保持部件時被拉伸的蒸鍍掩模向該蒸鍍掩模的中央強力拉伸，由此，框部的邊的部分容易發生變形。
[0335]但是，根據上述結構，在從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，上述梁部形成為曲折狀，由此能夠有效地抑制上述框部的變形。
[0336]本發明的方式9的掩模單兀,在上述方式2?4的任一個中,優選上述梁部由具有形成為交錯狀的多個開口區域的板狀部件構成，從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，上述梁部遍及由上述框部圍成的區域的整個面設置。
[0337]根據上述結構，能夠實現沒有蒸鍍掩模的撓曲的掩模單元。
[0338]本發明的方式10的掩模單元，在上述方式2?9的任一個中，優選上述梁部的厚度形成得比上述框部的厚度薄。
[0339]由此，能夠進一步實現上述框部的輕量化。
[0340]本發明的方式11的掩模單元，在上述方式I中，優選上述蒸鍍掩模保持部件由具有形成為交錯狀的多個開口區域的板狀部件構成。
[0341]在這種情況下，也能夠實現沒有發生蒸鍍掩模的撓曲的掩模單元。
[0342]本發明的方式12的掩模單元，在上述方式2或3中，優選上述梁部，從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，上述梁部的與上述蒸鍍掩模接觸的接觸部形成為島狀，具有以與上述蒸鍍掩模接觸的接觸部為頂點形成為框狀的立體的骨架。
[0343]本發明的方式13的掩模單元，在上述方式12中，優選上述梁部具有以與上述蒸鍍掩模接觸的接觸部為頂點配置成放射狀的縱梁。
[0344]另外，根據上述各結構，上述梁部的與上述蒸鍍掩模接觸的接觸部不與外周的框部直接連結，從與上述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時形成為島狀，由此能夠增大由上述框部圍成的區域的開口區域的總面積。因此，根據上述結構，能夠直接抑制蒸鍍掩模的撓曲，并且能夠增大蒸鍍掩模的開口部的總開口面積并提高開口部的開口圖案的布局的自由度。
[0345]另外，上述梁部形成為框狀，由此，上述縱梁不會妨礙均勻蒸鍍。
[0346]本發明的方式14的掩模單元，在上述方式12或13中，優選在上述梁部的與上述蒸鍍掩模接觸的接觸部設置有具有緩沖作用的島狀部件。
[0347]根據上述結構，能夠更穩定地支承上述蒸鍍掩模，并且能夠緩和上述蒸鍍掩模的自重導致的上述蒸鍍掩模的與上述梁部的接觸部位的應力集中。
[0348]本發明的方式15的蒸鍍裝置，包括:在上述方式I?14的任一個掩模單元；蒸鍍源，其與上述掩模單元中的蒸鍍掩模相對配置，且與上述蒸鍍掩模的相對位置被固定；和移動機構，其在上述掩模單元中的蒸鍍掩模和被成膜基板相對配置的狀態下，使上述掩模單兀和蒸鍍源與上述被成膜基板中的任一方以第二方向為掃描方向的方式相對移動，上述蒸鍍掩模的第二方向的寬度小于第二方向的被成膜基板的寬度，一邊沿著上述第二方向掃描，一邊使從上述蒸鍍源出射的蒸鍍顆粒經由上述蒸鍍掩模的開口部蒸鍍到上述被成膜基板上。
[0349]在使用與被成膜基板幾乎相同大小的蒸鍍掩模進行蒸鍍的不是掃描蒸鍍方式的現有的蒸鍍法中，如果在掩模框設置梁構造，則有梁的區域變得無法蒸鍍，所以不能設置梁構造。
[0350]另外，在采用掃描蒸鍍法的情況下，如果在框部設置格子狀的梁部，則在被成膜基板中，在蒸鍍掩模保持部件的設置有與掃描方向平行的梁部的區域所重疊的區域，蒸鍍顆粒不通過蒸鍍掩模，蒸鍍顆粒不被蒸鍍。
[0351]但是，根據上述結構，如果使用上述掩模單元以上述第二方向為掃描方向進行掃描蒸鍍，則在有梁部的區域也能夠進行與沒有梁部的區域同樣的蒸鍍。因此，如果將上述掩模單元作為掃描蒸鍍用的掩模單元使用，則即使蒸鍍掩模保持部件不使用剛性高、粗(重)的框部，也能夠進行沒有因蒸鍍掩模的撓曲導致的蒸鍍位置偏移的蒸鍍。
[0352]本發明并不限定于上述的各實施方式，能夠在權利要求所示的范圍內進行各種變更，將在不同實施方式中分別公開的技術手段適當組合而得到的實施方式也包含在本發明的技術范圍內。
[0353]產業上的可利用性
[0354]本發明能夠適用于采用一邊使被成膜基板與掩模單元和蒸鍍源相對移動進行掃描一邊進行蒸鍍的掃描方式的掃描蒸鍍的掩模單元、以及使用這樣的掩模單元以規定的圖案成膜的蒸鍍裝置。
[0355]附圖標記的說明
[0356]I 掩模單元
[0357]2 真空腔室
[0358]10 蒸鍍掩模
[0359]1a 長邊
[0360]1b 短邊
[0361]1c 下表面
[0362]11 開口區域(蒸鍍掩模的開口區域)
[0363]20 蒸鍍掩模保持部件
[0364]21 框部(邊緣部)
[0365]21a接觸面
[0366]21b 下端
[0367]22 梁部
[0368]22a上表面(接觸部)
[0369]22A接觸部
[0370]22B 縱梁
[0371]22a上表面
[0372]22b梁部交叉區域
[0373]50 蒸鍍裝置
[0374]51 真空腔室
[0375]52 基板保持件
[0376]53 基板移動機構(移動機構)
[0377]54 蒸鍍單元
[0378]55 蒸鍍單元移動機構(移動機構)
[0379]70 蒸鍍源
[0380]71 射出口
[0381]80 掩模單元固定部件
[0382]200被成膜基板
[0383]200a 長邊
[0384]200b 短邊
[0385]201被成膜面
[0386]H、H1、H2、H11 ?H14、H21 ?H24、H31 ?H35、HA 開口部(開口區域)
[0387]S 開口部



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【權利要求】
1.一種掩模單元，其特征在于，包括: 具有開口部的蒸鍍掩模；和 保持所述蒸鍍掩模的蒸鍍掩模保持部件， 所述蒸鍍掩模保持部件的一部分與所述蒸鍍掩模的下表面接觸，并且， 從與所述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，在所述蒸鍍掩模的開口部中的第一方向的任意位置，與該第一方向正交的第二方向上的沒有被所述蒸鍍掩模保持部件覆蓋的開口部的開口長度總和均相等，并且，所述蒸鍍掩模保持部件在所述蒸鍍掩模的邊緣部以外的部分具有連續或斷續地橫切所述第二方向地與所述蒸鍍掩模的下表面接觸的接觸部，另一方面，所述蒸鍍掩模保持部件在所述蒸鍍掩模的邊緣部以外的部分不具有從所述蒸鍍掩模中的所述第二方向的一端至另一端連續的接觸部。
2.如權利要求1所述的掩模單元，其特征在于: 所述蒸鍍掩模保持部件包括框部和與該框部連結且設置在由該框部圍成的區域內的梁部，所述接觸部是所述梁部的一部分， 所述梁部的與所述蒸鍍掩模接觸的部分，不沿著所述第二方向架在所述框部上，而連續或斷續地橫切所述第二方向。
3.如權利要求2所述的掩模單元，其特征在于: 所述蒸鍍掩模的開口部以避開所述梁部的與所述蒸鍍掩模接觸的部分的方式設置，并且， 從與所述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，在所述蒸鍍掩模的開口部中的第一方向的任意位置，所述第二方向上的所述開口部的開口長度總和均相等。
4.如權利要求3所述的掩模單元，其特征在于: 從與所述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，所述蒸鍍掩模保持部件中的由所述框部圍成的區域內的沒有設置所述梁部的開口區域的第二方向的開口長度總和，在第一方向的任意位置均相等。
5.如權利要求2?4中任一項所述的掩模單兀，其特征在于: 所述框部為矩形狀，所述梁部設置在所述框部的至少一條對角線上。
6.如權利要求5所述的掩模單元，其特征在于: 所述梁部分別設置在所述框部的各對角線上， 從與所述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，所述梁部的交叉部的所述梁部的第二方向的寬度，形成為所述梁部的交叉部以外的梁部的第二方向的寬度的2倍的寬度。
7.如權利要求2所述的掩模單元，其特征在于: 所述框部為矩形狀，所述梁部分別設置在所述框部的各對角線上， 從與所述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，所述梁部均具有均等的寬度，并且，在第一方向上的所述蒸鍍掩模的開口部中，在第二方向設置有所述梁部的交叉部的部分，相比由所述框部圍成的其他區域，所述蒸鍍掩模的第二方向的開口長度較短，以使得在所述蒸鍍掩模的開口部中的第一方向的任意位置，與該第一方向正交的第二方向的沒有被所述梁部覆蓋的開口部的開口長度總和均相等。
8.如權利要求2?4中任一項所述的掩模單元，其特征在于: 在從與所述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，所述梁部形成為曲折狀。
9.如權利要求2?4中任一項所述的掩模單元，其特征在于: 所述梁部由具有形成為交錯狀的多個開口區域的板狀部件構成，從與所述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，所述梁部遍及由所述框部圍成的區域的整個面設置。
10.如權利要求2?9中任一項所述的掩模單元，其特征在于: 所述梁部的厚度形成得比所述框部的厚度薄。
11.如權利要求1所述的掩模單元，其特征在于: 所述蒸鍍掩模保持部件由具有形成為交錯狀的多個開口區域的板狀部件構成。
12.如權利要求2或3所述的掩模單元，其特征在于: 所述梁部，從與所述蒸鍍掩模的掩模面垂直的方向看時，所述梁部的與所述蒸鍍掩模接觸的接觸部形成為島狀，具有以與所述蒸鍍掩模接觸的接觸部為頂點形成為框狀的立體的骨架。
13.如權利要求12所述的掩模單元，其特征在于: 所述梁部具有以與所述蒸鍍掩模接觸的接觸部為頂點配置成放射狀的縱梁。
14.如權利要求12或13所述的掩模單元，其特征在于: 在所述梁部的與所述蒸鍍掩模接觸的接觸部設置有具有緩沖作用的島狀部件。
15.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括: 權利要求1?14中任一項所述的掩模單兀； 蒸鍍源，其與所述掩模單元中的蒸鍍掩模相對配置，且與所述蒸鍍掩模的相對位置被固定；和 移動機構，其在所述掩模單元中的蒸鍍掩模和被成膜基板相對配置的狀態下，使所述掩模單兀和蒸鍍源與所述被成膜基板中的任一方以第二方向為掃描方向的方式相對移動， 所述蒸鍍掩模的第二方向的寬度小于第二方向的被成膜基板的寬度， 一邊沿著所述第二方向掃描，一邊使從所述蒸鍍源出射的蒸鍍顆粒經由所述蒸鍍掩模的開口部蒸鍍到所述被成膜基板上。
【文檔編號】H05B33/10GK104428439SQ201380035621
【公開日】2015年3月18日 申請日期:2013年4月15日 優先權日:2012年7月9日
【發明者】越智貴志, 川戶伸一, 大崎智文, 二星學, 小坂知裕, 塚本優人, 菊池克浩 申請人:夏普株式會社