離子注入機之蒸發器的制造方法
【專利摘要】一種離子注入機之蒸發器，包括：承載體，用于承載所述離子注入機之蒸發器的各功能部件；擋板，設置在所述承載體上，且所述擋板圍閉形成相互獨立的多個子區間；腔室，分別設置在通過所述擋板圍閉的各獨立子區間內；以及滑動密封裝置，所述滑動密封裝置設置在所述承載體之底部，并可用于進行上下垂直運動和圓周旋轉運動。本實用新型所述離子注入機之蒸發器通過增加容置InCl3的腔室，并在所述蒸發器之底部設置滑動密封裝置，不僅可以延長設備定期保養周期、增加設備在線生產時間、提高設備利用率，而且可以避免InCl3在不同設備上使用造成的不良影響。
【專利說明】離子注入機之蒸發器
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及離子注入機【技術領域】，尤其涉及一種離子注入機之蒸發器。
【背景技術】
[0002]本征硅的晶體結構由硅的共價鍵形成，本征硅的導電性很差，因此需要向其中摻入少量雜質，使其結構和導電率發生改變，硅基才能成為可用之半導體，這個過程被稱之為摻雜。離子注入便是最重要的摻雜方式。
[0003]離子注入已成為集成電路或平板顯示制造等領域標準化技術。離子注入機在電離的過程中，會使用包括AsH3、BF3、PH等在內的多種氣體。例如，VARIAN離子注入機在使用時，可根據產品結構和工藝的要求使用InCl3固體粉末，以達到產品預期工藝要求。
[0004]目前，傳統的離子注入機之蒸發器(Vaporizer)包括腔室(Chamber)、熱源(Lamp)、隔離板。其中，每個蒸發器進一步包括兩個容量分別為5G，并用以容置離子源的腔室，且每個腔室容置的5G InCl3可使用80小時。顯然地，每個蒸發器的使用周期為160小時。當InCl3使用完畢后，需要進行定期保養，更換蒸發器。
[0005]但是，現有離子注入機的定期保養循環時間為350?400小時，而以InCl3使用完畢進行定期保養，勢必縮短定期保養循環時間，減小設備在線生產時間，降低設備利用率。另一方面，InCl3在升華和電離過程中會出現潮解現象，在大氣環境下，所述升華后但未使用的InCl3會粘附在所述腔室內壁，導致在設備保養完成后，準備下次生產前建立預期真空度需要相當長的時間。
[0006]故針對現有技術存在的問題，本案設計人憑借從事此行業多年的經驗，積極研究改良，于是有了本實用新型一種離子注入機之蒸發器。
實用新型內容
[0007]本實用新型是針對現有技術中，所述傳統離子注入機定期保養循環時間短、設備利用率低，以及保養導致建立預期真空度耗時過長等缺陷提供一種離子注入機之蒸發器。
[0008]為實現本實用新型之目的，本實用新型提供一種離子注入機之蒸發器，所述離子注入機之蒸發器包括:承載體，所述承載體用于承載所述離子注入機之蒸發器的各功能部件；擋板，所述擋板設置在所述承載體上，且所述擋板圍閉形成相互獨立的多個子區間；腔室，所述腔室分別設置在通過所述擋板圍閉的各獨立子區間內；以及滑動密封裝置，所述滑動密封裝置設置在所述承載體之底部，并可用于進行上下垂直運動和圓周旋轉運動。
[0009]可選地，所述離子注入機之蒸發器的底部滑動密封裝置可進一步包括設置在所述滑動密封裝置內的滑動密封部件。
[0010]可選地，所述擋板圍閉形成的獨立子區間的數量為4個。
[0011]可選地，所述離子注入機之蒸發器用于容置所述InCl3的腔室數量為4個。
[0012]可選地，所述腔室的容量均為5G。
[0013]可選地，所述腔室的工作時間均為80小時。[0014]可選地，所述離子注入機之蒸發器的工作時間為320小時。
[0015]綜上所述，本實用新型所述離子注入機之蒸發器通過增加容置InCl3的腔室，并在所述蒸發器之底部設置滑動密封裝置，不僅可以延長設備定期保養周期、增加設備在線生產時間、提高設備利用率，而且可以避免InCl3在不同設備上使用造成的不良影響。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0016]圖1所示為本實用新型離子注入機之蒸發器的主視圖。
【具體實施方式】
[0017]為詳細說明本發明創造的技術內容、構造特征、所達成目的及功效，下面將結合實施例并配合附圖予以詳細說明。
[0018]請參閱圖1，圖1所示為本實用新型離子注入機之蒸發器的主視圖。所述離子注入機之蒸發器I包括承載體11，所述承載體11用于承載所述離子注入機之蒸發器I的各功能部件；擋板12，所述擋板12設置在所述承載體11上，且所述擋板12圍閉形成相互獨立的多個子區間121 ;腔室13，所述腔室13分別設置在通過所述擋板12圍閉的各獨立子區間121內；以及滑動密封裝置14，所述滑動密封裝置14設置在所述承載體11之底部，并可用于進行上下垂直運動和圓周旋轉運動。
[0019]在本實用新型中，為了避免所述離子注入機之蒸發器I的滑動密封裝置14在運動過程中，對真空度造成破壞，優選地，所述離子注入機之蒸發器的底部滑動密封裝置14可進一步包括設置在所述滑動密封裝置14內的滑動密封部件(未圖示)。
[0020]同時，為了與現有設備相適應，減少設備改進之成本，在本實用新型中，所述擋板12圍閉形成的獨立子區間121的數量為4個。所述離子注入機之蒸發器I用于容置所述InCl3的腔室13數量為4個，且每個腔室13的容量為5G，每個腔室13的工作時間為80小時。
[0021]故，作為本領域技術人員，容易理解地，當InCl3用盡，需要更換腔室13時，可在高真空度狀態下完成，確保粘附在所述腔室13表面的1冗13不會發生潮解。在離子注入機之蒸發器I更換過程中，僅需對外部熱電偶線路(未圖示)進行更換即可。通過本實用新型所述技術方案，所述離子注入機之蒸發器I的使用時間可以達到320小時，與離子注入機之定期保養循環周期相匹配，不僅減少了蒸發器之離子源注入時間，增加設備在線生產時間，而且縮短蒸發器的更換時間，減少當機時間。另一方面，本實用新型所述離子注入機之蒸發器的腔室13所容置的InCl3容量可達到產品生產之需，避免InCl3在不同設備上使用造成的不良影響。
[0022]綜上所述，本實用新型所述離子注入機之蒸發器通過增加容置InCl3的腔室，并在所述蒸發器之底部設置滑動密封裝置，不僅可以延長設備定期保養周期、增加設備在線生產時間、提高設備利用率，而且可以避免InCl3在不同設備上使用造成的不良影響。。
[0023]本領域技術人員均應了解，在不脫離本實用新型的精神或范圍的情況下，可對本實用新型進行各種修改和變型。因而，如果任何修改或變型落入所附權利要求書及等同物的保護范圍內時，認為本實用新型涵蓋這些修改和變型。
【權利要求】
1.一種離子注入機之蒸發器，其特征在于，所述離子注入機之蒸發器包括: 承載體，所述承載體用于承載所述離子注入機之蒸發器的各功能部件； 擋板，所述擋板設置在所述承載體上，且所述擋板圍閉形成相互獨立的多個子區間； 腔室，所述腔室分別設置在通過所述擋板圍閉的各獨立子區間內；以及， 滑動密封裝置，所述滑動密封裝置設置在所述承載體之底部，并可用于進行上下垂直運動和圓周旋轉運動。
2.如權利要求1所述的離子注入機之蒸發器，其特征在于，所述離子注入機之蒸發器的底部滑動密封裝置可進一步包括設置在所述滑動密封裝置內的滑動密封部件。
3.如權利要求1所述的離子注入機之蒸發器，其特征在于，所述擋板圍閉形成的獨立子區間的數量為4個。
4.如權利要求1所述的離子注入機之蒸發器，其特征在于，所述腔室的數量為4個。
【文檔編號】C30B31/22GK203546208SQ201320588165
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2013年9月23日 優先權日:2013年9月23日
【發明者】許鹖 申請人:中芯國際集成電路制造(北京)有限公司