一水合羥基硼酸鍶和一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體及制備方法和用途
【專利摘要】本發明涉及一種化合物一水合羥基硼酸鍶和一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體及制備方法和用途，該化合物的分子式為Sr2[B5O9(OH)]H2O，分子量為408.31222，采用水熱法制備，該化合物的非線性光學晶體的分子式為Sr2[B5O9(OH)]H2O，分子量為408.31222，屬于三斜晶系，空間群為Pl，采用水熱法，通過程序降溫或自然降溫的方法即可得到一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體。該晶體非線性光學效應為KDP晶體的3倍，透光波段190nm至2500nm。該晶體生長過程具有操作簡單，成本低，所用的試劑為無機原料，毒性低，生長周期短，物化性質穩定等優點。本發明的一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體在倍頻轉換、光參量振蕩器等非線性光學器件中得到廣泛應用。
【專利說明】一水合羥基硼酸鍶和一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體及制備方法和用途
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種一水合羥基硼酸鍶和一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體及制備方法和用途，屬于無機化學領域，也屬于材料科學領域和光學領域。
【背景技術】
[0002]非線性光學材料是光電子產業的物質基礎，是固體激光技術、光通信與信息處理等領域發展的重要支柱，在科研、工業和醫療等領域發揮著重要作用。在激光技術中，直接利用激光晶體所能獲得的激光波段有限，從紫外到紅外光譜區尚存有空白波段。利用非線性光學晶體進行頻率轉換，可以將全固態激光器輸出的激光轉換成新波段激光，大大拓展激光器的應用范圍，在激光【技術領域】有巨大的應用前景和經濟價值。[0003]經過幾十年探索，國內外研究者已發現一系列性能優異的非線性光學材料，如β -BB0、LB0、LN和KTP等，已進行規模化生產并獲得了廣泛應用。隨著激光技術的發展，激光光源向深紫外、紫外和紅外波段拓展，這大大提高了對綜合性能優異的非線性光學晶體的需求，因此，探索新型非線性光學晶體材料已成為國內外的研究熱點。
[0004]本發明所要解決的問題是提供一種透光波段較寬，二階非線性光學系數較大，能夠實現相位匹配，容易制備且穩定性較好的化合物一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體材料及其制備方法和用途。
【發明內容】
[0005]為解決全固態激光系統對具有非線性光學效應的晶體材料的需要，本發明目的在于提供一種化合物一水合羥基硼酸鍶，該化合物化學式為:Sr2[B509(0H)]H20，分子量為408.31222，采用水熱法制備，所得產物直接為晶體；
[0006]本發明的另一目的是提供一種化合物一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體，該晶體化學式為Sr2 [B5O9 (OH)] H2O,分子量為408.31222，屬于三斜晶系，空間群為Pl，單胞參數為a = 6.4991 Lb: 6.5059 k,c = 11.3175 A, α = 88.458。, β = 86.019。，y =61.351。，Z = 2 ;
[0007]本發明的再一目的是提供一種化合物一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體的制備方法，采用水熱法制備；
[0008]本發明的又一目的是提供一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體的用途。
[0009]本發明所述的一種化合物一水合羥基硼酸鍶，該化合物的化學式為Sr2 [B5O9 (OH)]H2O,分子量為408.31222，采用水熱法制備，所得產物為晶體。
[0010]一種化合物一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體，該晶體的分子式為Sr2 [B5O9 (OH)]H2O,分子量為408.31222，屬于三斜晶系，空間群為Ρ1，單胞參數為a = 6.4991 A,6: 6.5059 K,c = 11.3175 Α, α = 88.458。, β = 86.019°，Y = 61.351。，Z =20[0011]所述化合物一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體的制備方法，采用水熱法制備晶體，具體操作按下列步驟進行:
[0012]a、將含鍶化合物為 Sr (OH)2.8H20、Sr (NO3)2、SrCl2, SrSO4, Sr (ClO4)2、SrCO3 或Sr(CH3COO)2.H2O加入到體積為25_100mL的高壓反應釜的聚四氟乙烯內襯中，加入含硼化合物為H3BO3或B2O3,再加入去離子水5-50mL，使其充分混合均勻；
[0013]b、將步驟a中的溶液加入乙二胺調節pH值范圍為8-12 ；
[0014]C、將步驟b中混合溶液裝在的聚四氟乙烯內襯蓋子旋緊，裝入相應的高壓反應釜中，將反應爸活塞旋緊；
[0015]d、將步驟c中的高壓反應釜放置在恒溫箱內，以溫度20_60°C /h的升溫速率升至120-200°C，恒溫1-15天，再以溫度4-50°C /h的降溫速率或自然冷卻至室溫；
[0016]e、打開高壓反應釜，將含有晶體的溶液過濾，即可得到一水合羥基硼酸鍶透明晶體。
[0017]步驟a中含鍶化合物中Sr2+和含硼化合物中BO廣的摩爾比為:1: 0.2-5或含鍶化合物中Sr2+和含硼化合物中B2O3的摩爾比為:1: 0.1-2.5。
[0018]步驟c中將溶液放在干凈無污染的高壓反應釜。
[0019]所述的一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體的用途，該晶體在制備倍頻發生器、上或下頻率轉換器或光參量振蕩器。
[0020]本發明所述的一種一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體，該晶體的分子式為Sr2[B5O9(OH)]H2O,屬于三斜晶系，空間群為P1，分子量為408.31222，單胞參數為3 = 6.4991 Lb = 6.5059 Lc = 11.3175 Α, α = 88.458。，β = 86.019。，y =61.351°，Z = 2.其粉末倍頻效應達到KDP(KH2PO4)的3倍，具有較寬的透光范圍，在紫外可見區域190-2500nm范圍內仍有較高的透過。此晶體制備簡單，生長周期短，所使用的起始原料毒性低對人體毒害小。
[0021]本發明所用的方法為水熱法，即將起始原料按照一定比例混合后，在一定溫度范圍內通過密封的反應釜中高溫高壓反應，通過程序降溫或恒溫的方法即可得到透明的一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體。
[0022]以下是幾個典型的可以得到Sr2[B509(0H)]H20化合物的化學反應式:
[0023](1)Sr (OH) 2.8Η20+Η3Β03+0Η>Η20 — Sr2B5O9 (OH).H2CHH2O
[0024](2) Sr (NO3) 2+Η3Β03+0Η>Η20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20+N03_
[0025](3) SrCl2+H3B03+0H—+H20 — Sr2B5O9 (OH).Η20+Η20+cl-
[0026](4) SrS04+H3B03+0r+H20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20+S042_
[0027](5) Sr (ClO4) 2+Η3Β03+0Η>Η20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20+C104_
[0028](6) SrC03+H3B03+0r+H20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20+C032_
[0029](7) Sr (CH3COO) 2.H20+H3B03+0H>H20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20+CH3C0(T
[0030](8) Sr (OH) 2.8H20+B203+0H>H20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20[0031 ] (9) Sr (NO3) 2+B203+0H-+H20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20+N03_
[0032](10)SrCl2+B203+0H—+H2O — Sr2B5O9 (OH).Η20+Η20+cl-
[0033](11) SrS04+B203+0r+H20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20+S042_
[0034](12) Sr (ClO4) 2+Β203+0Η>Η20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20+C104_[0035](13) SrC03+B203+0r+H20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20+C032_
[0036](14) Sr (CH3COO) 2.H20+B203+0H>H20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20+CH3C0(T
[0037]本發明中原料為采用市售的試劑，通過本發明所述的方法獲得的晶體透明，具有操作簡單，生長速度快，生長周期短，成本低，等優點。
[0038]本發明制備的一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體作為制備非線性光學器件，包括制作倍頻發生器、上或下頻率轉換器和光參量振蕩器。所述的用一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體制作的非線性器件包含將透過至少一束入射基波光產生至少一束頻率不同于入射光的相干光。
[0039]所述一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體對光學加工精度無特殊要求。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0040]圖1為本發明的X-射線衍射圖譜。
[0041]圖2為本發明制作的非線性光學器件的工作原理圖，其中包括⑴為激光器，(2)為全聚透鏡，(3)為一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體，(4)為分光棱鏡，(5)為濾波片，ω為折射光的頻率等于入射光頻率或是入射光頻率的3倍。
【具體實施方式】
[0042]以下結合附圖和實施例對本發明進行詳細說明:
[0043]實施例1:
[0044]以化學反應式Sr (NO3) 2+Η3Β03+0Η>Η20 — Sr2B5O9 (OH).Η20+Η20+Ν03_ 制備晶體，具體操作步驟如下:
[0045]a、將Sr (NO3)2加入到體積為25mL的高壓反應釜的聚四氟乙烯內襯中，加入H3BO3,再加入去離子水5mL，使其充分混合均勻，其中Sr (NO3) 2與H3BO3摩爾比為I: 0.2 ；
[0046]b、將步驟a中的溶液加入乙二胺調節pH = 8 ;
[0047]C、將步驟b中混合溶液所在的聚四氟乙烯內襯蓋子旋緊，裝入干凈無污染的高壓反應爸中,將反應爸活塞旋緊；
[0048]d、將步驟c中的高壓反應釜放置在恒溫箱內，以溫度20°C /h的升溫速率升至120°C，恒溫I天，再以溫度4°C /h的降溫速率冷卻至室溫；
[0049]e、打開高壓反應釜，將含有晶體的溶液過濾，即可得到一水合羥基硼酸鍶透明晶體。
[0050]實施例2:
[0051 ] 以化學反應式 Sr (CH3COO) 2.Η20+Η3Β03+0Η>Η20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H2(HCH3COCT 制
備晶體:
[0052]a、將Sr (CH3COO)2.H2O加入到體積為35mL的高壓反應釜的聚四氟乙烯內襯中，加入H3BO3,再加入去離子水15mL，使其充分混合均勻，其中Sr(CH3COO)2.H2O與H3BO3的摩爾比為1: 0.8 ;
[0053]b、將步驟a中的溶液加入乙二胺調節pH = 10 ;
[0054]C、將步驟b中混合溶液所在的聚四氟乙烯內襯蓋子旋緊，裝入干凈無污染的高壓反應爸中,將反應爸活塞旋緊；[0055]d、將步驟c中的高壓反應釜放置在恒溫箱內，以溫度30°C /h的升溫速率升至150°C，恒溫5天，自然冷卻至室溫；
[0056]e、打開高壓反應釜，將含有晶體的溶液過濾，即可得到一水合羥基硼酸鍶透明晶體。
[0057]實施例3:
[0058]以化學反應式SrCl2+H3B03+0F+H20 — Sr2B5O9(OH).Η20+Η20+01 制備晶體: [0059]a、將SrCl2加入到體積為50mL的高壓反應釜的聚四氟乙烯內襯中，加入B2O3,再加入去離子水20mL，使其充分混合均勻，其中SrCl2與B2O3的摩爾比為1:1;
[0060]b、將步驟a中的溶液加入乙二胺調節pH值11 ;
[0061]C、將步驟b中混合溶液所在的聚四氟乙烯內襯蓋子旋緊，裝入干凈無污染的高壓反應爸中,將反應爸活塞旋緊；
[0062]d、將步驟c中的高壓反應釜放置在恒溫箱內，以溫度35°C /h的升溫速率升至140°C，恒溫8天，再以溫度15°C /h的降溫速率冷卻至室溫；
[0063]e、打開高壓反應釜，將含有晶體的溶液過濾，即可得到一水合羥基硼酸鍶透明晶體。
[0064]實施例4:
[0065]以化學反應式Sr (ClO4) 2+Η3Β03+0Η>Η20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20+C104_ 制備晶體:
[0066]a、將Sr(ClO4)2加入到體積為65mL的高壓反應釜的聚四氟乙烯內襯中，加入H3BO3，再加入去離子水30mL，使其充分混合均勻，其中Sr(ClO4)2與B2O3的摩爾比為1:2;
[0067]b、將步驟a中的溶液，加入乙二胺調節pH值9.5 ;
[0068]C、將步驟b中混合溶液所在的聚四氟乙烯內襯蓋子旋緊，裝入干凈無污染的高壓反應爸中,將反應爸活塞旋緊；
[0069]d、將步驟c中的高壓反應釜放置在恒溫箱內，以溫度20_60°C /h的升溫速率升至120-200°C，恒溫1-15天，再以溫度4-50°C /h的降溫速率或自然冷卻至室溫；
[0070]e、打開高壓反應釜，將含有晶體的溶液過濾，即可得到一水合羥基硼酸鍶透明晶體。
[0071]實施例5:
[0072]以化學反應式SrC03+H3B03+0F+H20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20+C0廣制備晶體:
[0073]a、將SrCO3加入到體積為75mL的高壓反應釜的聚四氟乙烯內襯中，加入H3BO3，再加入去離子水40mL，使其充分混合均勻，其中SrCO3與H3BO3的摩爾比為1:3;
[0074]b、將步驟a中的溶液,加入乙二胺調節pH值9 ;
[0075]C、將步驟b中混合溶液所在的聚四氟乙烯內襯蓋子旋緊，裝入干凈無污染的高壓反應爸中,將反應爸活塞旋緊；
[0076]d、將步驟c中的高壓反應釜放置在恒溫箱內，以溫度50°C /h的升溫速率升至180°C，恒溫10天，自然冷卻至室溫；
[0077]e、打開高壓反應釜，將含有晶體的溶液過濾，即可得到一水合羥基硼酸鍶透明晶體。
[0078]實施例6:
[0079]以化學反應式SrS04+H3B03+0F+H20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20+S0廣制備晶體:[0080]a、將SrSO4加入到體積為85mL的高壓反應釜的聚四氟乙烯內襯中，加入B2O3,再加入去離子水45mL，使其充分混合均勻，其中SrSO4與B2O3的摩爾比為1:4;
[0081]b、將步驟a中的溶液，加入乙二胺調節pH值10 ；
[0082]C、將步驟b中混合溶液所在的聚四氟乙烯內襯蓋子旋緊，裝入干凈無污染的高壓反應爸中,將反應爸活塞旋緊；
[0083]d、將步驟c中的高壓反應釜放置在恒溫箱內，以溫度50°C /h的升溫速率升至170°C，恒溫12天，再以溫度45°C /h的降溫速率冷卻至室溫；
[0084]e、打開高壓反應釜，將含有晶體的溶液過濾，即可得到一水合羥基硼酸鍶透明晶體。
[0085]實施例7:
[0086]以化學反應式Sr (OH) 2.8Η20+Η3Β03+0Η>Η20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20+S0廣制備晶體:
[0087]a、將Sr(OH)2.8H20加入到體積為IOOmL的高壓反應釜的聚四氟乙烯內襯中，加入H3BO3,再加入去離子水50mL，使其充分混合均勻，其中Sr (OH) 2.8Η20與H3BO3的摩爾比為1:5;
[0088]b、將步驟a中的溶液，加入乙二胺調節pH值12 ；
[0089]C、將步驟b中混合溶液所在的聚四氟乙烯內襯蓋子旋緊，裝入干凈無污染的高壓反應爸中,將反應爸活塞旋緊；
[0090]d、將步驟c中的高壓反應釜放置在恒溫箱內，以溫度60°C /h的升溫速率升至200°C，恒溫15天，再以溫度50°C /h的降溫速率冷卻至室溫；
[0091]e、打開高壓反應釜，將含有晶體的溶液過濾，即可得到一水合羥基硼酸鍶透明晶體。
[0092]實施例8:
[0093]以化學反應式SrS04+B203+0F+H20 — Sr2B5O9(OH).H20+H20+S042 制備晶體:
[0094]a、將SrSO4加入到體積為50mL的高壓反應釜的聚四氟乙烯內襯中，加入B2O3,再加入去離子水30mL，使其充分混合均勻，其中SrSO4與B2O3的摩爾比為1: 0.1 ;
[0095]b、將步驟a中的溶液,加入乙二胺調節pH值11 ；
[0096]C、將步驟b中混合溶液所在的聚四氟乙烯內襯蓋子旋緊，裝入干凈無污染的高壓反應爸中,將反應爸活塞旋緊；
[0097]d、將步驟c中的高壓反應釜放置在恒溫箱內，以溫度25°C /h的升溫速率升至120°C，恒溫3天，再以溫度4°C /h的降溫速率冷卻至室溫；
[0098]e、打開高壓反應釜，將含有晶體的溶液過濾，即可得到一水合羥基硼酸鍶透明晶體。
[0099]實施例9:
[0100]以反應式SrC03+B203+0F+H20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20+C0廣制備晶體:
[0101]a、將SrCO3加入到體積為25mL的高壓反應釜的聚四氟乙烯內襯中，加入B2O3，再加入去離子水10mL，使其充分混合均勻，其中SrCO3與B2O3的摩爾比為1:1;
[0102]b、將步驟a中的溶液,加入乙二胺調節pH值9 ;
[0103]C、將步驟b中混合溶液所在的聚四氟乙烯內襯蓋子旋緊，裝入干凈無污染的高壓反應爸中,將反應爸活塞旋緊；
[0104]d、將步驟c中的高壓反應釜放置在恒溫箱內，以溫度35°C /h的升溫速率升至150°C，恒溫6天，自然冷卻至室溫；
[0105]e、打開高壓反應釜，將含有晶體的溶液過濾，即可得到一水合羥基硼酸鍶透明晶體。
[0106]實施例10
[0107]以化學反應式SrCl2+B203+0F++H20 — Sr2B5O9(OH).Η20+Η20+0 制備晶體:
[0108]a、將SrCl2加入到體積為75mL的高壓反應釜的聚四氟乙烯內襯中，加入B2O3，再加入去離子水40mL，使其充分混合均勻，其中SrCl2與B2O3的摩爾比為1: 1.5;
[0109]b、將步驟a中的溶液,加入乙二胺調節pH值10 ;
[0110]C、將步驟b中混合溶液所在的聚四氟乙烯內襯蓋子旋緊，裝入干凈無污染的高壓反應爸中,將反應爸活塞旋緊；
[0111]d、將步驟c中的高壓反應釜放置在恒溫箱內，以溫度5°C /h的升溫速率升至150°C，恒溫10天，再以溫度50°C /h的降溫速率冷卻至室溫；
[0112]e、打開高壓反應釜，將含有晶體的溶液過濾，即可得到一水合羥基硼酸鍶透明晶體。
[0113]實施例11
[0114]以反應式Sr (ClO4) 2+B203+0r+H20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H20+C104_ 制備晶體:
[0115]a、將Sr (ClO4) 2加入到體積為80mL的高壓反應釜的聚四氟乙烯內襯中，加入B2O3，再加入去離子水50mL，使其充分混合均勻，其中Sr(ClO4)2與B2O3的摩爾比為I: 2.5 ；
[0116]b、將步驟a中的溶液，加入乙二胺調節pH值12 ；
[0117]C、將步驟b中混合溶液所在的聚四氟乙烯內襯蓋子旋緊，裝入干凈無污染的高壓反應爸中,將反應爸活塞旋緊；
[0118]d、將步驟c中的高壓反應釜放置在恒溫箱內，以溫度55°C /h的升溫速率升至200°C，恒溫15天，然后以溫度25°C /h的降溫速率冷卻到室溫；
[0119]e、打開高壓反應釜，將含有晶體的溶液過濾，即可得到一水合羥基硼酸鍶透明晶體。
[0120]實施例12
[0121 ]以反應式 Sr (CH3COO) 2.Η20+Β203+0Η>Η20 — Sr2B5O9 (OH).H20+H2(HCH3COCT 制備晶體:
[0122]a、將Sr(CH3COO)2.H2O加入到體積為IOOmL的高壓反應釜的聚四氟乙烯內襯中，加入B2O3，再加入去離子水40mL，使其充分混合均勻，其中Sr(CH3COO)2.H2O與B2O3的摩爾比為1:1;
[0123]b、將步驟a中的溶液，加入乙二胺調節pH值10 ；
[0124]C、將步驟b中混合溶液所在的聚四氟乙烯內襯蓋子旋緊，裝入干凈無污染的高壓反應爸中,將反應爸活塞旋緊；
[0125]d、將步驟c中的高壓反應釜放置在恒溫箱內，以溫度35°C /h的升溫速率升至150°C，恒溫8天，自然冷卻至室溫；
[0126]e、打開高壓反應釜，將含有晶體的溶液過濾，即可得到一水合羥基硼酸鍶透明晶體。
[0127]實施例13
[0128]以化學反應式Sr (NO3) 2+Β203+0Η>Η20 — Sr2B5O9 (OH).Η20+Η20+Ν03_ 制備晶體,具體操作步驟如下:
[0129]a、將Sr(NO3)2加入到體積為25mL的高壓反應釜的聚四氟乙烯內襯中，加入B2O3,再加入去離子水5mL，使其充分混合均勻，其中Sr(NO3)2與B2O3摩爾比為1: 0.5 ;
[0130]b、將步驟a中的溶液加入乙二胺調節pH = 8 ;
[0131]C、將步驟b中混合溶液所在的聚四氟乙烯內襯蓋子旋緊，裝入干凈無污染的高壓反應爸中,將反應爸活塞旋緊；
[0132]d、將步驟c中的高壓反應釜放置在恒溫箱內，以溫度60°C /h的升溫速率升至180°C，恒溫I天，再以溫度4°C /h的降溫速率冷卻至室溫；
[0133]e、打開高壓反應釜，將含有晶體的溶液過濾，即可得到一水合羥基硼酸鍶透明晶體。
[0134]將實施例1-13中所得的任意一種晶體，按附圖2所示安置在3的位置上，在室溫下，用調Q Nd = YAG激光器的1064nm輸出作光源，觀察到明顯的532nm倍頻綠光輸出，輸出強度約為同等條件KDP的3倍；
[0135]圖2所示為，由調Q Nd = YAG激光器I發出波長為1064nm的紅外光束經全聚透鏡2射入一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體，產生波長為532nm的綠色倍頻光，出射光束4含有波長為1064nm的紅外光和532nm的綠光，經濾波片5濾去后得到波長為532nm的倍頻光。
【權利要求】
1.一種化合物一水合羥基硼酸鍶，其特征在于該化合物的化學式為Sr2[B5O9(OH)]H2O,分子量為408.31222，采用水熱法制備，所得產物為晶體。
2.一種化合物一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體，其特征在于該晶體的分子式為Sr2 [B5O9 (OH)] H2O,分子量為408.31222，屬于三斜晶系，空間群為P1，單胞參數為3 = 6.4991 Lb=Q.5059 A,C= 11.3175 A, α = 88.458。，β = 86.019。，Υ =61.351。，Z = 2。
3.根據權利要求2所述的化合物一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體的制備方法，其特征在于采用水熱法制備晶體，具體操作按下列步驟進行: a、將含鍶化合物為Sr (OH)2.8H20、Sr (NO3)2、SrCl2, SrSO4, Sr (ClO4)2、SrCO3 或Sr(CH3COO)2.H2O加入到體積為25_100mL的高壓反應釜的聚四氟乙烯內襯中，加入含硼化合物為H3BO3或B2O3,再加入去離子水5-50mL，使其充分混合均勻； b、將步驟a中的溶液加入乙-胺調節pH值范圍為8-12； C、將步驟b中混合溶液裝在的聚四氟乙烯內襯蓋子旋緊，裝入相應的高壓反應釜中，將反應爸活塞旋緊； d、將步驟c中的高壓反應釜放置在恒溫箱內，以溫度20-60°C/h的升溫速率升至120-200°C，恒溫1-15天，再以溫度4-50°C /h的降溫速率或自然冷卻至室溫； e、打開高壓反應釜，將含有晶體的溶液過濾，即可得到一水合羥基硼酸鍶透明晶體。
4.根據權利要求2所述的方法，其特征在于步驟a中含鍶化合物中Sr2+和含硼化合物中BO廣的摩爾比為:1: 0.2-5或含鍶化合物中Sr2+和含硼化合物中B2O3的摩爾比為:I: 0.1-2.5。
5.根據權利要求2所述的方法，其特征在于步驟c中將溶液放在干凈無污染的高壓反應釜。
6.根據權利要求1所述的一水合羥基硼酸鍶非線性光學晶體的用途，其特征在于該晶體在制備倍頻發生器、上或下頻率轉換器或光參量振蕩器。
【文檔編號】C30B7/10GK103696006SQ201210367829
【公開日】2014年4月2日 申請日期:2012年9月28日 優先權日:2012年9月28日
【發明者】潘世烈, 張方方, 張芳袁 申請人:中國科學院新疆理化技術研究所