階梯式直線加速器的制作方法

專利名稱：階梯式直線加速器的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于電子束流加速處理領域，尤其涉及一種可用于腫瘤放射治療和核 醫學放射藥物研發的階梯式直線加速器。
背景技術：
目前，腫瘤的放射治療技術已進入精確的時代，即精準的照射位置和精準的劑 量給予。如果在此基礎上能從生物學角度對照射的生物學位置和生物學劑量給予驗證 和研究，即從生物靶區(biological target volume，BTV)及分子生物學適形調強放療 (biological IMRT, BIMRT)方面研究腫瘤的放射治療，必將使腫瘤的放射治療技術上一個 新臺階。當用重離子束(如12C)、質子束流和高能X射線放療患者時，這些射線在殺死和損 傷腫瘤組織同時，還與腫瘤組織的主要組成元素碳C、氧0、氮N等進行核反應，在腫瘤靶區 會產生可發射正電子的11CZ5O^N等同位素，這些正電子發射核可在分子影像學或生物學 影像設備PET/CT(正電子發射計算機斷層顯像/計算機斷層掃描)上顯像。由于分子影 像學設備PET/CT可以提供組織和細胞的代謝、增殖、乏氧狀態等分子生物學信息，所以根 據顯像的位置和強度便可分析推斷腫瘤照射的生物學位置和相對生物學劑量，據此分子生 物學信息對治療計劃進行修改完善，從而可真正意義上實現精確的三維生物適形調強放療 (biological IMRT, BIMRT)和驗證。在德國達姆施塔特的核物理研究所GSI和日本千葉縣重離子研究所HIMAC和日本 癌癥中心NCC的研究人員用碳12C束1_6、美國波士頓的MGH的Parodi et al用質子7_9， 分別在這方面做了大量的理論和實驗研究，取得了很好的成果。當X射線能量很高時，會發 生光核反應，產生發射正電子的"C，工力/^等同位素 —⑴，有與重離子和質子一樣的效果。 但光核反應是有閾反應，只有當光子能量高于反應閾能量時，才能發生，該閾值對不同的元 素一般為12 15MeV (兆電子伏特)。然而，目前國內外各醫療單位放療使用的絕大多數直線加速器標稱加速電位不超 過18MV (兆伏)，其發射的軔致輻射光子的最大能量不超過15MeV，都低于該閾值，因此不能 引起光核反應。即使很少一部分高能加速器的標稱加速電位達18MV以上，但由于其發射的 軔致輻射光子的能量絕大部分低于光核反應閾值，僅有非常少部分光子可引起光核反應， 要對他們產生的150，"C，"N等正電子發射核進行定量分析和研究生物學位置和相對生物 學劑量是很困難的，因此在這些常規直線加速器上進行這項研究無實際意義。

實用新型內容為了解決上述問題，本實用新型的目的是提供一種階梯式直線加速器，以獲得滿 足各種不同的臨床研究所需的電子束流。為了達到上述目的，本實用新型提供一種階梯式直線加速器，包括—用于產生和發射電子束流的電子槍；一用于對來自所述電子槍的所述電子束流進行階梯式加速的直線加速器；[0009]一第一偏轉磁鐵，設置在所述直線加速器的一側，用于對所述電子束流進行偏轉 處理，并將偏轉處理過的所述電子束流發送給所述直線加速器，由所述直線加速器對所述 電子束流進行階梯加速處理；一第二偏轉磁鐵，設置在所述直線加速器的另一側，用于對經過所述直線加速器 加速處理過的所述電子束流進行偏轉處理，并將偏轉處理過的所述電子束流傳遞給所述第 一偏轉磁鐵；以及一電子束流提取裝置，用于當經過階梯式加速處理過的所述電子束流的能量達到 能量閾值時，引出所述電子束流。優選的，所述階梯式直線加速器還包括第一注入磁鐵和第二注入磁鐵，分別位于 所述電子槍的兩側，用于對所述電子束進行偏轉處理，然后將偏轉處理后的所述電子束流 送入到所述直線加速器中進行階梯式加速處理。優選的，所述直線加速器和所述第一偏轉磁鐵之間依次設置有第一四極聚焦磁 鐵、第二四極聚焦磁鐵、第一平移磁鐵、第二平移磁鐵和第一軸校正磁鐵。優選的，所述第一注入磁鐵和所述第二偏轉磁鐵之間依次設置有第三四極聚焦 磁鐵和第二軸校正磁鐵。優選的，所述階梯式直線加速器還包括一橢圓形軌道，設置在所述第一偏轉磁鐵 和所述第二偏轉磁鐵之間。優選的，其特征在于，所述直線加速器為駐波型電子直線加速器，加速能量為3 10兆電子伏特。由上述技術方案可知，通過采用直線加速、磁鐵偏轉和橢圓跑道式運動軌跡，可對 電子槍產生的電子束流進行多次階梯加速處理，因此可獲得多個能量檔的電子束流，并且 每個能量檔的電子束流可單獨引出，而一般醫用直線加速器最多只能獲得2 3個能量檔 的電子束流，因此本實施例中的階梯式電子束流加速可滿足各種不同的臨床需要，可廣泛 應用于放射治療學、核醫學和核物理學研究等領域。

圖1為本實用新型的實施例中階梯式直線加速器的示意圖；圖2為本實用新型的實施例中階梯式直線加速器的具體結構圖；圖3為本實用新型的實施例中四極聚焦磁鐵的工作原理示意圖；圖4為本實用新型的實施例中第一偏轉磁鐵和第二偏轉磁鐵的工作原理圖。
具體實施方式
為了使本實用新型實施例的目的、技術方案和優點更加清楚明白，下面結合實施 例和附圖，對本實用新型實施例做進一步詳細地說明。在此，本實用新型的示意性實施例及 說明用于解釋本實用新型，但并不作為對本實用新型的限定。參見圖1，為本實用新型的實施例中階梯式直線加速器的結構圖，該階梯式直線加 速器包括一用于產生和發射電子束流的電子槍(圖中未示出)；在本實施例中，電子槍可選用熱陰極型電子槍，燈絲電流為3 5A，槍電壓為27 31kV，發射的電子束流能量約為30keV，當然也并不限于此。該電子槍與直線加速器的 束流軸線方向約90度。一用于對電子束流進行階梯式加速的直線加速器11 ；在本實施例中，直線加速器可選用駐波型電子直線加速器，加速能量為3 10兆 電子伏特，當然也并不限于此。一第一偏轉磁鐵12，設置在直線加速器11的一側，用于對電子束流進行偏轉處 理，并將偏轉處理過的電子束流發送給所述直線加速器11，由所述直線加速器11對所述電 子束流進行階梯加速處理；一第二偏轉磁鐵13，設置在直線加速器11的另一側，用于對電子束流進行偏轉處 理，并將偏轉處理過的電子束流傳遞給第一偏轉磁鐵12 ；以及一電子束流提取裝置14，用于當經過階梯式加速處理過的電子束流的能量大于能 量閾值時，引出電子束流。通過設置能量閾值，可從該階梯式直線加速器中引出不同能量檔的電子束流，從 而可滿足各種不同的臨床研究所需的電子束流。例如當能量閾值設置為15MeV時，若直線 加速器的加速能量為5MeV時，經過步驟101 103后則可將步驟103獲得的15MeV電子束 流通過引出通道引出。在本實施例中并不限定能量閾值的具體數值，該能量閾值可根據具 體情況進行設置。在本實施例中，所述階梯式直線加速器還包括第一注入磁鐵和第二注入磁鐵，分 別位于所述電子槍的兩側，用于對所述電子槍產生的電子束進行偏轉處理，然后將偏轉處 理后的所述電子束流送入到所述直線加速器中進行階梯式加速處理。在本實施例中，直線加速器11和所述第一偏轉磁鐵12之間依次設置有第一四極 聚焦磁鐵、第二四極聚焦磁鐵、第一平移磁鐵、第二平移磁鐵和第一軸校正磁鐵，在經過第 一階梯加速后，所述電子束流依次通過所述第一四極聚焦磁鐵、所述第二四極聚焦磁鐵、所 述第一平移磁鐵、所述第二平移磁鐵和所述第一軸校正磁鐵，再通過所述第一偏轉磁12鐵 進行偏轉處理，之后再依次經過所述第一軸校正磁鐵、所述第二平移磁鐵和所述第一平移 磁鐵，之后所述電子束流進入到所述直線加速器11進行階梯式加速處理。在本實施例中，第一注入磁鐵和所述第二偏轉磁鐵沈之間依次設置有第三四 極聚焦磁鐵和第二軸校正磁鐵，經過第二階梯加速后，所述電子束流依次經過第二注入磁 鐵、所述第一注入磁鐵、所述第三四極聚焦磁鐵和所述第二軸校正磁鐵，再進入到所述第二 偏轉磁鐵沈進行偏轉處理，偏轉處理后再經過第一調整磁鐵和第二調整磁鐵進行運行軌 跡的校正，之后進入到所述第一偏轉磁鐵25進行偏轉處理，偏轉處理后再依次經所述第一 軸校正磁鐵，所述第二平移磁鐵和所述第一平移磁鐵，之后進入到所述直線加速器M進行 階梯式加速處理。在本實施例中，所述階梯式直線加速器還包括一橢圓形軌道，設置在所述第一偏 轉磁鐵25和所述第二偏轉磁鐵沈之間。所述第一偏轉磁鐵25和第二偏轉磁鐵沈分別對 所述電子束流進行180度偏轉，使得所述電子束流在所述橢圓形軌道中進行階梯式加速處理。在本實施例中，所述直線加速器11為駐波型電子直線加速器，加速能量為3 10 兆電子伏特。[0037]由此可知，本實施例中的階梯式電子束流加速方法可獲得多個能量檔次的電子束 流，而且該電子束流的能量最高可到45MeV，而由于一般醫用的直線加速器最多可獲得2 3個能量檔次的電子束流，因此本實施例中的階梯式電子束流加速方法可滿足各種不同的 臨床需求，可廣泛應用于放射治療學、核醫學和核物理學研究等領域。參見圖2，為本實施例中階梯式直線加速器的具體結構圖，圖中第一注入磁鐵21、 第二注入磁鐵22分別位于電子槍23兩側。其中第二注入磁鐵22用于將電子槍23產生的 電子束流經其偏轉(約90度)進入直線加速器M，其電流值大小為0. 45 0. 49A，當電子 束流加速到IOMeV及以上能量時，每個階梯加速后都必須再次經過第二注入磁鐵22，第一 注入磁鐵21電流值與第二注入磁鐵22接近，電流方向相反。第一偏轉磁鐵25和第二偏轉磁鐵沈可分別位于直線加速器M的左右兩側，作用 是將電子束流進行半圓形軌道偏轉彎曲，彎曲的軌道半徑r、磁場強度B和電子束流能量E 的關系如下r E/(eXcXB)，其中e是電子的電荷量，c是光束。參見圖3，為本實施例中第一偏轉磁鐵25和第二偏轉磁鐵沈的工作原理圖。圖 中ri、r2為彎曲的軌道半徑，磁場強度為B，E1和E2為電子束流能量。繼續參見圖2，直線加速器M和第一偏轉磁鐵25之間依次設置有第一四極聚焦 磁鐵27、第二四極聚焦磁鐵觀、第一平移磁鐵四、第二平移磁鐵30和第一軸校正磁鐵31。在經過第一階梯加速處理后，電子束流依次通過第一四極聚焦磁鐵27、第二四極 聚焦磁鐵觀、第一平移磁鐵四、第二平移磁鐵30和第一軸校正磁鐵31，再通過第一偏轉磁 鐵25進行偏轉處理，之后再依次經過第一軸校正磁鐵31、第二平移磁鐵30和第一平移磁鐵 四，之后電子束流進入到直線加速器M進行第二階梯加速。上述第一平移磁鐵27和第二平移磁鐵28分別位于第一偏轉磁鐵25和直線加速 器24之間，其中第二平移磁鐵28靠近第一偏轉磁鐵25，第一平移磁鐵27靠近直線加速器 M，第一平移磁鐵27和第二平移磁鐵用于對電子束流進行控制和調整。當5MeV電子束流 由直線加速器M向第一偏轉磁鐵25運動時，第一平移磁鐵27和第二平移磁鐵觀分別使 電子束流向左或右側平移偏轉而進入相應軌道。經第一偏轉磁鐵25進行180度偏轉后，再 次經過第一平移磁鐵27和第二平移磁鐵28的平移控制而進入直線加速器M中。上述第一軸校正磁鐵31位于第一偏轉磁鐵25旁，第一軸校正磁鐵31有兩個作 用，一個是改變電子束流經第一階梯加速(能量為5MeV)和經第一偏轉磁鐵25后的運動軌 跡，以便使電子束流以正確的相位返回到直線加速器M中；另一個作用是對IOMeV以上的 電子束流進行束流作用。在本實施例中，第一注入磁鐵21和第二偏轉磁鐵沈之間依次設置有第三四極聚 焦磁鐵33和第二軸校正磁鐵32。第二軸校正磁鐵32位于第二偏轉磁鐵沈旁，用于校正電 子束流經第一注入磁鐵21后引起的角度誤差。經過第二階梯加速處理后，電子束流依次經過第二注入磁鐵22、第一注入磁鐵 21、第三四極聚焦磁鐵33和第二軸校正磁鐵32，再進入到第二偏轉磁鐵沈進行偏轉處理， 偏轉處理后再經過第一調整磁鐵34和第二調整磁鐵35進行運行軌跡的校正，之后進入到 第一偏轉磁鐵25進行偏轉處理，偏轉處理后再依次經第一軸校正磁鐵31，第二平移磁鐵觀 和第一平移磁鐵27，之后進入到直線加速器M進行下一階梯的加速處理。[0048]在后續的階梯加速處理中，當電子束流加速到IOMeV及以上能量時，每個階梯加 速后都可再經過第二注入磁鐵22，盡管此時第二注入磁鐵22的作用很小(其作用對象是 30keV的電子束流)，但仍可采用其對電子束流進行校正，這種校正可由第一注入磁鐵21完 成，其電流值與第二注入磁鐵22接近，但電流方向相反。上述第一調整磁鐵34位于多個能量軌道上(例如位于9個能量軌道上)，用于在 電子束流垂直方向上進行控制調整，第二調整磁鐵35位于第一調整磁鐵34的一側(靠近 第一偏轉磁鐵25)，用于在電子束流水平方向上進行控制調整。在本實施例中，第一偏轉磁鐵25和第二偏轉磁鐵沈分別用于對電子束流進行180 度偏轉，使得電子束流在橢圓形軌道36中運行，橢圓形軌道36設置在所述第一偏轉磁鐵25 和所述第二偏轉磁鐵26之間。該橢圓形軌道36為真空狀態，真空度不低于4X 10_6托。在本實施例中，在第一偏轉磁鐵25和第二偏轉磁鐵沈的內側，還可設置磁屏蔽 37，該磁屏蔽37用于屏蔽第一偏轉磁鐵25和第二偏轉磁鐵沈對其內側各校正磁鐵和電子 束流的影響。在本實施例中，該階梯式直線加速器還包括引出校正X向磁鐵和引出校正Y向磁 鐵，可分別與第二調整磁鐵35和第一調整磁鐵34 —起在電子束流提取裝置38的水平、垂 直方向上控制電子束流。在本實施例中，在直流加速器的兩側和引出管道的出口處可分別設置束流監測器 (共三個)，用于監測電子束流的大小，監測參數為電流I皿、Ibk和IEX，其中，電流I皿和Ibk為 直流加速器的兩側電子束流的電流值，電流Iex引出管道出口處電子束流的電流值。該束流 監測器可通過電流感應變壓器來實現。下面介紹下本實用新型的實施例中階梯式電子束流加速的方法，具體步驟如下步驟101、將電子束流送入到直線加速器中進行第一階梯加速處理；在本步驟中，可將電子槍產生的電子束流經第二注入磁鐵偏轉后，再進入到直線 加速器中進行第一階梯加速處理。在本實施例中，該直線加速器可選用駐波型電子直線加速器，并采用微波加速， 加速能量可設置為3 lOMeV。若直線加速器的標稱加速電位為5MV時，經過第一階梯加速 處理后，可得到能量為5MeV的電子束流。上述第二注入磁鐵的作用是將電子槍產生的電子束流經偏轉(約90度)后，再進 入到直線加速器中，第二注入磁鐵的電流值大小為0. 45 0. 49A。在本實施例中，電子槍可選用熱陰極型電子槍，燈絲電流為3 5A (安培)，槍電壓 為27 31kV (千伏)，發射的電子束流能量約為30keV (千電子伏特)。該電子槍與直線加 速器的束流軸線方向約為90度。步驟102、第一階梯加速處理后，第一偏轉磁鐵對經過第一階梯加速后的電子束流 進行偏轉處理，偏轉處理后的電子束流再進入到直線加速器中進行第二階梯加速處理；本步驟中，在經過第一階梯加速后，電子束流可依次通過第一四極聚焦磁鐵、第 二四極聚焦磁鐵、第一平移磁鐵、第二平移磁鐵和第一軸校正磁鐵后，再通過第一偏轉磁鐵 進行偏轉處理(約偏轉180度)，之后再依次經過第一軸校正磁鐵、第二平移磁鐵和第一平 移磁鐵，之后電子束流進入到直線加速器進行第二階梯加速。若直線加速器的加速能量為 5MeV時，經過步驟102后可得到能量達到IOMeV的電子束流。[0062]步驟103、第二階梯加速處理后，第二偏轉磁鐵對經過第二階梯加速后的電子束 流進行偏轉處理，偏轉處理后的電子束流再次進入到第一偏轉磁鐵，由第一偏轉磁鐵對電 子束流進行偏轉處理，偏轉處理后的電子束流再進入到直線加速器中進行第三階梯加速處 理；本步驟中，經過第二階梯加速處理后，電子束流可依次經過第二注入磁鐵、第一注 入磁鐵(第一注入磁鐵和第二注入磁鐵對電子槍產生的電子束流進行偏轉處理)、第三四 極聚焦磁鐵和第二軸校正磁鐵后，再進入到第二偏轉磁鐵進行偏轉處理，偏轉處理后再經 過第一調整磁鐵和第二調整磁鐵進行運行軌跡的校正，之后進入到第一偏轉磁鐵進行偏轉 處理，偏轉處理后再依次經過第一軸校正磁鐵、第一平移磁鐵和第二平移磁鐵校正，之后進 入到直線加速器進行第三階梯加速處理。若直線加速器的加速能量為5MeV時，經過步驟 103后，可得到能量達到15MeV的電子束流。經過步驟103中的偏轉處理后，電子束流相當于在橢圓形軌道中運動，運動一 次進行一次階梯加速，該橢圓形軌道可以是真空狀態，例如該橢圓形軌道的真空度不低于 4X101。在本實施例中，第一四極聚焦磁鐵、第二四極聚焦磁鐵和第三四極聚焦磁鐵用于 聚焦電子束流在直線加速器的軸向上，其聚焦作用如圖4所示。步驟104、重復執行步驟103，當經過多次階梯式加速處理的電子束流的能量達到 能量閾值時，引出該電子束流。通過設置能量閾值，可從該階梯式直線加速器中引出不同能量檔的電子束流，從 而可滿足各種不同的臨床研究所需的電子束流。例如當能量閾值設置為15MeV時，若直線 加速器的加速能量為5MeV時，經過步驟101 103后則可將步驟103獲得的15MeV電子束 流通過引出通道引出。在本實施例中并不限定能量閾值的具體數值，該能量閾值可根據具 體情況進行設置。當然，也可按照步驟103中的過程進行第四階梯加速，獲得能量達到20MeV的電子 束流。或者依次類推，對電子束流進行多次階梯的加速，例如進行9次階梯加速，從而可獲 得能量達到45MeV的電子束流。然后再通過步驟104將獲得的電子束流通過引出通道引
出ο下面以階梯式直線加速器對電子束流進行6階梯加速處理和9階梯加速處理，分 別來介紹本實用新型的階梯式電子束流加速的實施例。實施例一 6階梯加速處理，此時直線加速器的加速能量為4MeV，電子束流運行軌 跡為橢圓形軌道或圓形軌道。工作過程如下 步驟1、由電子槍產生的電子束流經第二注入磁鐵偏轉進入直線加速器中，直線加 速器的加速能量為4MeV，進行第一階梯加速，電子束流能量達4MeV。步驟2、第一階梯加速后的5MeV電子束流，先通過第一四極聚焦磁鐵、第二四極聚 焦磁鐵、第一平移磁鐵、第二平移磁鐵、第一軸校正磁鐵后，經第一偏轉磁鐵約180度偏轉、 再經第一軸校正磁鐵、第二平移磁鐵、第一平移磁鐵校正控制后沿軸線進入直線加速器中， 進行第二階梯加速，電子束流的能量達8MeV。步驟3、第二階梯加速后的SMeV電子束流，再經第二注入磁鐵、第一注入磁鐵、第 三四極聚焦磁鐵和第二軸校正磁鐵后進入第二偏轉磁鐵進行約180度偏轉，再經第一調整磁鐵、第二調整磁鐵微調校正運行軌跡后，進入第一偏轉磁鐵約180度偏轉。之后，或經第 一軸校正磁鐵、第一平移磁鐵、第二平移磁鐵偏轉校正和控制，沿軸線再次準確進入直線加 速器，進行第三階梯加速，能量達12MeV ；或經引出校正X向磁鐵和引出校正Y向磁鐵控制 (與第二調整磁鐵共同作用)將SMeV的電子束流引出。步驟4、由步驟3獲得的12MeV電子束流，或經步驟3同樣過程進行第四階梯加速， 能量達6MeV;或經引出校正X向磁鐵和引出校正Y向磁鐵控制將12MeV的電子束流引出。 依次類推，直到完成6次階梯的加速處理，電子束流能量達24MeV。實施例二，直線加速器的加速能量為5MeV，進行9階梯加速處理。工作過程如下步驟1、由電子槍產生的電子束流經第二注入磁鐵偏轉進入直線加速器，直線加速 器加速能量為5MeV，進行第一階梯加速，電子束流能量達5MeV。步驟2、第一階梯加速后的5MeV電子束流，先通過第一四極聚焦磁鐵、第二四極 聚焦磁鐵和第一平移磁鐵、第二平移磁鐵、第一軸校正磁鐵后，經第一偏轉磁鐵約180度偏 轉、再經第一軸校正磁鐵、第一平移磁鐵和第二平移磁鐵校正控制后沿軸線準確進入直線 加速器，進行第二階梯加速，能量達lOMeV。步驟3、第二階梯加速后的IOMeV電子束流，再經第二注入磁鐵、第一注入磁鐵微 調控制、第三四極聚焦磁鐵和第二軸校正磁鐵后進入第二偏轉磁鐵進行約180度偏轉，再 經第一調整磁鐵、第二調整磁鐵微調校正運行軌跡后，進入第一偏轉磁鐵約180度偏轉。之 后，或經第一軸校正磁鐵、第一平移磁鐵和第二平移磁鐵偏轉校正和控制，沿軸線再次準確 進入直線加速器，進行第三階梯加速，能量達15MeV ；或經引出校正X向磁鐵和引出校正Y 向磁鐵控制將IOMeV的電子束流引出。步驟4、由步驟3獲得的15MeV電子束流，或經步驟3同樣過程進行第四階梯加速， 能量達20MeV ；或經引出校正X向磁鐵和引出校正Y向磁鐵控制將15MeV的電子束流引出。 依次類推，直到完成9次階梯的加速處理，電子束流能量達45MeV。以上所述僅是本實用新型的優選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技 術人員來說，在不脫離本實用新型原理的前提下，還可以作出若干改進和潤飾，這些改進和 潤飾也應視為本實用新型的保護范圍。
權利要求1.一種階梯式直線加速器，其特征在于，包括一用于產生和發射電子束流的電子槍；一用于對來自所述電子槍的所述電子束流進行階梯式加速的直線加速器；一第一偏轉磁鐵，設置在所述直線加速器的一側，用于對所述電子束流進行偏轉處理， 并將偏轉處理過的所述電子束流發送給所述直線加速器，由所述直線加速器對所述電子束 流進行階梯加速處理；一第二偏轉磁鐵，設置在所述直線加速器的另一側，用于對經過所述直線加速器加速 處理過的所述電子束流進行偏轉處理，并將偏轉處理過的所述電子束流傳遞給所述第一偏 轉磁鐵；以及一電子束流提取裝置，用于當經過階梯式加速處理過的所述電子束流的能量達到能量 閾值時，引出所述電子束流。
2.根據權利要求1所述的階梯式直線加速器，其特征在于，所述階梯式直線加速器還 包括第一注入磁鐵和第二注入磁鐵，分別位于所述電子槍的兩側，用于對所述電子束進行 偏轉處理，然后將偏轉處理后的所述電子束流送入到所述直線加速器中進行階梯式加速處 理。
3.根據權利要求2所述的階梯式直線加速器，其特征在于，所述直線加速器和所述第 一偏轉磁鐵之間依次設置有第一四極聚焦磁鐵、第二四極聚焦磁鐵、第一平移磁鐵、第二 平移磁鐵和第一軸校正磁鐵。
4.根據權利要求3所述的階梯式直線加速器，其特征在于，所述第一注入磁鐵和所述 第二偏轉磁鐵之間依次設置有第三四極聚焦磁鐵和第二軸校正磁鐵。
5.根據權利要求4所述的階梯式直線加速器，其特征在于，所述階梯式直線加速器還 包括一橢圓形軌道，設置在所述第一偏轉磁鐵和所述第二偏轉磁鐵之間。
6.根據權利要求5所述的階梯式直線加速器，其特征在于，所述直線加速器為駐波型 電子直線加速器，加速能量為3 10兆電子伏特。
專利摘要本實用新型提供一種階梯式直線加速器，包括一電子槍，用于產生和發射電子束流；一直線加速器，用于對電子束流進行階梯式加速；一第一偏轉磁鐵，設置在直線加速器的一側，用于對電子束流進行偏轉處理，并將偏轉處理過的電子束流發送給直線加速器，由直線加速器對電子束流進行階梯加速處理；一第二偏轉磁鐵，設置在直線加速器的另一側，用于對經過直線加速器加速處理過的電子束流進行偏轉處理，并將偏轉處理過的電子束流傳遞給第一偏轉磁鐵；以及一電子束流提取裝置，用于當經過階梯式加速處理過的電子束流的能量達到能量閾值時，引出電子束流，能夠獲得滿足各種不同的臨床研究所需的電子束流，可廣泛應用于放射治療學、核醫學等領域。
文檔編號H05H9/00GK201854496SQ20102060310
公開日2011年6月1日 申請日期2010年11月10日 優先權日2010年11月10日
發明者孫啟銀, 張圈世 申請人:北京大基康明醫療設備有限公司