形成有間隔壁和像素的基板的制造方法

            文檔序號:8198060閱讀:230來源:國知局

            專利名稱::形成有間隔壁和像素的基板的制造方法
            技術領域
            :本發明涉及例如通過噴墨記錄技術制成的形成有間隔壁和像素的基板的制造方法。
            背景技術
            :近年來,作為彩色濾光片和有機EL等光學元件的制造方法,提出了釆用噴墨記錄技術的低成本化工藝。例如,彩色濾光片的制造中,通過光刻法形成間隔壁后,通過噴墨法向作為由間隔壁分隔而成的區域的像素點(dot)內噴射或涂布R(紅)、G(綠)、B(藍)的油墨,從而形成具有著色層的像素。有機EL顯示元件的制造中,通過光刻法形成間隔壁后,通過噴墨法向作為由間隔壁分隔而成的區域的像素點內噴射或涂布空穴傳輸材料、發光材料的溶液油墨,從而形成具有空穴傳輸層、發光層等的像素。噴墨法中,必須防止相鄰的像素間的油墨發生混色。因此,間隔壁被要求具有排拒作為噴墨的涂出液的水或有機溶劑等的性質,即拒液性。另一方面,噴墨法中,必須形成油墨的膜厚均勻性良好的像素。因此,作為由間隔壁分隔而成的區域的像素點被要求具有對于油墨浸潤的性質,即親液性。專利文獻l中揭示了在基板上涂布感光性組合物,進行干燥、曝光、顯影、加熱處理而形成間隔壁的技術方案。專利文獻1:日本專利特開2005-60515號公報專利文獻2:國際公開第2004/79454號文本發明的揭示然而,如果在通過上述現有的方法形成的作為由間隔壁分隔而成的區域的像素點內以噴墨法注入油墨而形成油墨層,則油墨層的膜厚可能會不均勻。如果以這樣的材料制造彩色濾光片或有機EL顯示元件,則可能會間隔壁附近的油墨層的膜厚變薄,產生間隔壁周邊呈現白色的所謂漏白現象。尤其,為了提高間隔壁的分辨率而希望降低曝光工序的曝光量的情況下,形成以低曝光量形成的間隔壁時,像素的油墨層的膜厚不均勻性顯著。于是,本發明的課題在于提供即使曝光工序的曝光量低,也可獲得拒液性良好的間隔壁和具有膜厚均勻性良好的油墨層的像素的形成有間隔壁和像素的基板的制造方法。本發明提供一種形成有間隔壁和像素的基板的制造方法,其特征在于,經過將下述感光性組合物涂布于基板的工序[ll]、對感光性組合物的涂膜進行干燥的工序[12]、曝光工序[13]、顯影工序[14]、后曝光工序[15]在基板上形成間隔壁,經過向作為由所述間隔壁分隔而成的區域的像素點內注入油墨的工序[21]、對油墨的涂膜進行干燥的工序[22]形成將一個像素點內的油墨層的膜厚的最大值設為hl、最小值設為h2時滿足(h1-h2)./hl<0.3的膜,從而獲得像素;感光性組合物包含1分子內具有含以下述式1表示的基團或以下述式2表示的基團的側鏈和含乙烯性雙鍵的側鏈的聚合物(A)的感光性組合物;-CFXRf(1)式1中,X表示氫原子、氟原子或三氟甲基,Rf表示可具有醚性氧原子的碳數20以下且氫原子中的至少1個被氟原子取代了的垸基或者氟原子;-(SiR'R20)-SiR'R2!3(2)式2中,R1、R2獨立地表示氫原子、垸基、環垸基或芳基,13表示氫原子或碳數110的有機基團,n表示l200的整數。本發明的感光性組合物中所包含的聚合物(A)由于具有含以式1表示的基團或以式2表示的基團的側鏈,因此呈現表面遷移性,在干燥工序[12]中向涂膜表面附近遷移。因此,將感光性組合物固化而得的間隔壁的上部表面呈現對油墨的拒液性。此外,聚合物(A)由于具有含乙烯性雙鍵的側鏈,因此可以在曝光工序[13]中使其發生固化反應而固定于涂膜表面。但是,曝光工序[13]的曝光量低的情況下,可能會聚合物(A)的部分分子不發生固化反應,而且在顯影工序中無法從體系中除去而殘存于間隔壁內。現有的方法中,認為上述未反應的殘存分子在顯影工序[14]后進行的后烘烤工序[16]中從間隔壁上部表面遷移至間隔壁的側面或像素點,從而污染像素點。本發明中,顯影工序[14]后具備后曝光工序[15],因此聚合物(A)的固化反應得到充分進行,不易發生未反應的殘存分子向像素點的遷移。艮P,間隔壁上部表面對油墨的拒液性良好,間隔壁的側面或像素點對油墨的親液性良好。因此,間隔壁的側面或像素點的油墨浸潤性高,所以油墨在像素點內易于均勻地浸潤擴散,在間隔壁的側面也不會排斥油墨,因而可以獲得將所形成的油墨層的膜厚的最大值設為hl、最小值設為h2時滿足(hl-h2)/hl<0.3的膜厚均勻性高的油墨層。本發明中,間隔壁通過后曝光工序[15]充分固化,具備對于油墨中的溶劑的耐受性,因此不一定需要采用后烘烤工序[16]來進行固化。另一方面,為了提高間隔壁的耐熱性或者從間隔壁除去揮發成分,較好是在后曝光工序后采用后烘烤工序[16]。此外,本發明提供一種彩色濾光片的制造方法,其特征在于,通過上述的制造方法在基板上形成間隔壁和像素。此外,本發明提供一種有機EL元件的制造方法,其特征在于,通過上述的制造方法在基板上形成間隔壁和像素。如果采用本發明的制造方法,即使曝光工序的曝光量低,也可獲得拒液性良好的間隔壁和油墨層的膜厚均勻性良好的像素。因此,具有通過本發明的制造方法形成的間隔壁和像素的彩色濾光片和有機EL元件中,油墨的混色得到抑制,且油墨層的膜厚均勻性良好。因為不易在間隔壁內殘留未反應的殘存分子,所以器件形成后長時間內不會發生遷移,不會使器件的可靠性下降。附圖的簡單說明圖l是例l中得到的間隔壁和像素的由超景深形狀測定顯微鏡得到的表面觀察圖像。圖2是例6中得到的間隔壁和像素的由超景深形狀測定顯微鏡得到的表面觀察圖像。圖3是例4中得到的間隔壁的由掃描電子顯微鏡得到的剖面觀察圖像。符號的說明l:間隔壁,2:像素,3:油墨層的沿線a-a的剖面的膜厚分布,4:油墨層的沿線b-b的剖面的膜厚分布。實施發明的最佳方式以下,進一步詳細說明本發明。還有,本說明書中,只要沒有特別說明,%表示質量%。首先,本發明的制造方法中,經下述工序[11]工序[15]形成間隔壁(可以任意采用工序[16]),經下述工序[21]、工序[22]形成像素(可以任意采用工序[23])。將感光性組合物涂布于基板的工序[ll]首先,將本發明的感光性組合物涂布于基板的表面,形成感光性組合物的涂膜。對于本發明的感光性組合物,在后文中說明。作為感光性組合物的涂布方法,可例舉旋涂法、噴涂法、狹縫涂布法、輥涂法、棒涂法等。涂膜的厚度根據基材的材質、用途而不同,較好是0.3300pm,更好是160um。作為基板,對其材質無特別限定,可以例舉例如以下的材質各種玻璃板,聚酯(聚對苯二甲酸乙二酯等)、聚烯烴(聚乙烯、聚丙烯等)、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚砜、聚酰亞胺、聚(甲基)丙烯酸類樹脂等的熱塑性塑料片,環氧樹脂、不飽和聚酯等的熱固性樹脂的固化片等。尤其,從耐熱性的角度來看,優選使用玻璃板或耐熱性塑料。此外,有時也從未形成間隔壁的反面(基板側)進行后曝光,因此較好是透明基板。此外,也可以使用形成有金屬黑色矩陣或樹脂黑色矩陣等黑色矩陣的基板。該情況下,較好是在黑色矩陣上形成間隔壁。此外,也可以使用形成有氧化銦錫(ITO)等的透明電極或者鉻或鉬等的金屬布線的基板。對感光性組合物的涂膜進行干燥的工序[12]接著,通過對涂膜進行真空干燥或加熱干燥,從而使感光性組合物所含的稀釋劑揮發。為了在不發生涂膜外觀的不均的情況下高效地進行干燥,更好是并用真空干燥和加熱干燥。干燥條件根據感光性組合物的各成分的種類、配比等而不同,優選在如下的寬幅范圍內進行真空干燥為50010Pa、10300秒左右,加熱干燥為5012(TC、102000秒左右。曝光工序[13]接著,對涂膜的一部分進行曝光。曝光較好是隔著規定圖案的掩模進行。作為照射的光,可以例舉以下的光可見光,紫外線,遠紫外線,KrF準分子激光、ArF準分子激光、F2準分子激光、Kr2準分子激光、KrAr準分子激光、Ar2準分子激光等準分子激光,X射線,電子射線等。較好是波長100600nm的電磁波,更好是在300500nra的范圍具有分布的光線,特別好是i線(365nm)、h線(405nm)、g線(436nm)。作為照射裝置,可以使用公知的超高壓汞燈或遠紫外線燈等。曝光量較好在51000mJ/cm2的范圍內,更好為50400mJ/cm2,特別好為50100mJ/cm2。曝光量在5mJ/cm2以下的情況下,間隔壁的固化不充分,其后的顯影中發生溶解或剝離,因此是不理想的。如果曝光量超過1000mJ/cm2,則存在無法獲得高析像度的傾向。顯影工序[14]曝光工序后,通過顯影液顯影,除去未曝光部分。作為顯影液,例如可以使用由如下的堿類形成的堿水溶液氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、硅酸鈉、偏硅酸鈉、氨水等無機堿類,乙胺、正丙胺等伯胺類,二乙胺、二正丙胺等仲胺類,三乙胺、甲基二乙基胺、N-甲基吡咯烷酮等叔胺類,二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺類,氫氧化四甲銨、氫氧化四乙銨、膽堿等季銨鹽,吡咯、哌啶等環狀胺類。此外,也可以使用卜.沐堿水溶液中適量添加甲醇或乙醇等水溶性有機溶劑、表面活性劑等而得的水溶液作為顯影液。顯影時間(與顯影液接觸的時間)較好是5180秒。此外,顯影方法可以是液浸法(日語液盛D法)、浸漬法、噴淋法等中的任一種。顯影后,進行高壓水洗或流水洗滌,通過以壓縮空氣或壓縮氮氣使其風干,從而可以除去基板上的水分。后曝光工序[15]接著,再次進行曝光。后曝光較好是對基板整面進行。后曝光可以從形成有間隔壁的正面或未形成間隔壁的反面(基板側)中的任一側進行。此外,也可以從正反兩面進行曝光。在形成有黑色矩陣的基板上形成間隔壁的情況下,較好是從正面進行曝光。優選的曝光量為50mJ/cra2以上,較好是200mJ/cn^以上,更好是1000mJ/cn^以上,特別好是2000mJ/cn^以上。曝光量較好是在3000mJ/ci^以下。作為照射的光,較好是紫外線,光源較好是使用超高壓汞燈或高壓汞燈。這些光源發射促使間隔壁固化的600nm以下的光,而且引起間隔壁的氧化分解的200nm以下的光的發射少,因此優選使用。另外,汞燈所用的石英管玻璃較好是具有屏蔽200nm以下的光的光學濾光片功能。此外,光源也可以使用低壓汞燈。但是,低壓汞燈的200nm以下的波長的發光強度高,因生成臭氧而容易發生間隔壁的氧化分解,因此不適宜進行高劑量的曝光。曝光量較好是在500mJ/cm2以下,更好是在300mJ/cm2以下。對間隔壁進行加熱處理的后烘烤工序[16]然后,較好是對間隔壁進行加熱處理。可以通過加熱板、加熱爐等加熱裝置進行優選為15025(TC、590分鐘的加熱處理。加熱溫度更好是在18(TC以上。通過對間隔壁進行加熱處理,間隔壁的耐化學性提高,可以防止間隔壁因涂布的油墨所含的溶劑而溶脹或油墨滲漏。通過經由如上所述的光刻工序,可獲得間隔壁。本發明的感光性組合物包含黑色著色劑的情況下,所形成的間隔壁被賦予作為黑色矩陣的功能。所得的間隔壁的寬度的平均值較好是在100"m以下,更好是在40um以下,特別好是在20um以下。間隔壁的寬度的平均值較好是在10ym以上。此外,間隔壁的高度的平均值較好是0.0550ym,更好是0.210"m,特別好是O.53um。所得的間隔壁的形狀沒有特別限定,可以是倒錐形、矩形、正錐形中的任一種形狀。僅間隔壁的上部表面顯示拒液性,間隔壁的側面顯示親液性,因此不會受到間隔壁的形狀的影響,油墨層可以獲得良好的均勻性。此外,間隔壁的側壁和間隔壁的底面所形成的圓錐角的優選范圍為30°150°。圓錐角過小或過大時,對比度都會下降,因此不理想。此外,作為由間隔壁分隔而成的區域的像素點的寬度的平均值較好是在300um以下,更好是在100um以下。單個像素點的尺寸(面積)較好是5000um2150000um2,更好是IOOOOum2120000um2,特別好是15000pm2100000um2。如果像素點從尺寸過小,則難以使油墨噴入所需的像素點,因此不理想。另一方面,如果像素點的尺寸過大,則噴入的油墨不易均勻地浸潤擴散,因此不理想。下面,對形成像素的方法進行說明。向作為由間隔壁分隔而成的區域的像素點內注入油墨的工序[21]作為注入油墨的涂布方法,可以例舉等噴墨法、噴涂法、絲網印刷法、旋涂法、狹縫涂布法、輥涂法或棒涂法等。其中,噴墨法、噴涂法或絲網印刷法由于可較容易地涂布于大面積的基板而優選,特別優選還可同時涂布多種油墨的噴墨法。作為噴墨裝置,根據油墨吐出方式,可以例舉壓電方式和熱發泡方式,較好是使用壓電方式的裝置。這是因為熱發泡方式的情況下,由于吐出油墨時進行加熱,因此油墨可能會因該熱量而變性,但壓電方式的情況下,油墨不被加熱。所吐出的液體的液滴較好是5500pL。如果液滴過小,則可能會發生溶劑在油墨飛行途中蒸發或噴射精度受到微小氣流的影響而下降的情況。如果液滴過大,則可能會難以獲得微小的像素。對油墨的涂膜進行干燥的工序[22]接著,通過對油墨的涂膜進行真空干燥或加熱干燥而使溶劑揮發。此外,為了在不發生涂膜外觀的不均的情況下高效地進行干燥,更好是并用真空干燥和加熱干燥。干燥條件根據各成分的種類、配比等而不同,優選在如下的寬幅范圍內進行真空干燥為10500Pa(絕對壓力)、10300秒左右,加熱干燥為5012(TC、102000秒左右。所用的油墨的溶劑的沸點低的情況下,不一定進行真空干燥或加熱干燥,在室溫下靜置102000秒左右即可。對油墨層進行加熱處理的工序[23]然后,可以通過加熱板、加熱爐等加熱裝置進行優選為15025(TC、590分鐘的加熱處理。通過進行加熱處理,油墨包含熱固性的成分時,可以促進其固化反應,賦予油墨層實際使用所需的耐化學性和耐熱性。單個像素的尺寸(面積)較好是5000um2150000um2,更好是IOOOOum2120000ixra2,特別好是15000ura2100000ixm2。下面,對本發明的彩色濾光片的制造方法進行說明。使用本發明的制造方法制造彩色濾光片的情況下,為了賦予間隔壁作為黑色矩陣的功能,感光性組合物較好是包含黑色著色劑。該情況下,通過上述間隔壁的形成工序,形成具有作為黑色矩陣的功能的間隔壁后,經過向由間隔壁分隔而成的區域內通過噴墨法注入藍色、綠色、紅色的彩色油墨的涂布工序、干燥工序、加熱處理工序而形成像素。此外,也可以使用預先形成有黑色矩陣的基板。該情況下,通過上述間隔壁的形成方法,在黑色矩陣上形成間隔壁后,經過向作為由間隔壁分隔而成的區域的像素點內較好是通過噴墨法分別注入藍色、綠色、紅色的彩色油墨的涂布工序[21]、對油墨的涂膜進行干燥的工序[22]、對油墨層進行加熱處理的工序[23]而形成像素。所形成的像素的形狀可以采用條紋型、馬賽克型、三角型、4像素配置型等公知的任一種排列。藍色、綠色、紅色的彩色油墨主要包含著色成分、粘合劑樹脂成分和溶劑。作為著色成分,優選使用耐熱性、耐光性等良好的顏料或染料。作為粘合劑樹脂成分,優選透明且耐熱性良好的樹脂,可例舉丙烯酸樹脂、三聚氰胺樹脂、聚氨酯樹脂等,但并不限定于此。油墨為水性的情況下,溶劑由水及根據需要使用的水溶性有機溶劑形成,作為粘合劑樹脂成分含有水溶性樹脂或水分散性樹脂,根據需要含有各種助劑。油墨為油性的情況下,溶劑為有機溶劑,作為粘合劑樹脂成分含有可溶于有機溶劑的樹脂,根據需要含有各種助劑。較好是在形成像素后形成保護膜層。形成保護膜層可以提高表面平坦性,并阻斷來自間隔壁或像素的油墨的溶出物到達液晶層。形成保護膜層時,最好事先除去間隔壁的拒液性。未除去拒液性的情況下,可能會排斥保護涂層用涂布液而無法獲得均一的膜厚。作為除去間隔壁的拒液性的方法,可例舉等離子灰化處理和光灰化處理等。另外,為了實現用彩色濾光片制造的液晶面板的高品質化,較好是根據需要在在黑色矩陣上形成感光性間隔物(photo-spacer)。將彩色濾光片用于液晶面板的情況下,要求亮度和色純度都高。但是,如果像素內的彩色油墨層的膜厚均勻性低,則與理想的平坦膜相比,亮度容易受膜厚大的部分的影響而下降,色純度容易受膜厚小的部分的影響而下降。因此,為了確保液晶面板的品質,理想的是彩色濾光片的一個彩色油墨層的最厚的部分的膜厚設為hl、最薄的部分的膜厚設為h2時滿足(hl-h2)/hl<0.3。如果使用本發明的制造方法制造彩色濾光片,則可獲得具有(hl-h2)/hK0.3的膜厚均勻性的彩色油墨層,因此優選。更好是獲得具有(hl-h2)/hK0.2的膜厚均勻性的彩色油墨層。下面,對本發明的有機EL顯示元件的制造方法進行說明。首先,在玻璃等的透明基材上通過濺射法等制成氧化銦錫(ITO)等的透明電極的膜,根據需要將透明電極蝕刻成所需的圖案。接著,通過本發明的制造方法形成間隔壁。然后,使用噴墨法在間隔壁間的像素點依次涂布空穴傳輸材料、發光材料的溶液,干燥,形成空穴傳輸層、發光層。作為空穴傳輸材料,可以使用例如噻吩類導電性高分子(PEDOT/PSS)的涂布液。此外,作為發光材料,可以使用"共軛聚合物類發光材料和含染料的聚合物類發光材料。作為3T共軛聚合物類發光材料,可以例舉聚芴(PF)電介質(紅色、綠色、藍色)、螺旋聚合物(Poly-Spiro)電介質(紅色、綠色、藍色)、對聚苯電介質或聚噻吩電介質等。作為含染料的聚合物類發光材料,作為在聚乙烯咔唑(PVK)中分散磷光或熒光的低分子染料而得的發光材料的染料分散PVK(紅色、綠色、藍色)等。作為溶劑,空穴傳輸材料的溶劑較好是使用水等高極性的溶劑,發光材料的溶劑較好是使用二甲苯等低極性的溶劑。然后,通過蒸鍍法等形成鋁等的電極,從而得到有機EL顯示元件的像素。空穴傳輸層和發光層的膜厚在像素內不均勻的情況下,電場集中于膜厚小的部分,存在材料的劣化被促進的傾向。因此,為了確保有機EL面板的品質,理想的是空穴傳輸層和發光層的最厚的部分的膜厚設為hl、最薄的部分的膜厚設為h2時滿足(h1-h2)/hl<0.3。如果使用本發明制造有機EL元件,則可獲得具有(hl-h2)/hK0.3的膜厚均勻性的空穴傳輸層和發光層,因此優選。更好是獲得具有(hl-h2)/hK0.2的膜厚均勻性的空穴傳輸層和發光層。下面,對本發明的作為間隔壁形成材料的感光性組合物進行說明。還有,以下的具體的化合物名稱中,(甲基)丙烯酰基作為表示丙烯酰基和甲基丙烯酰基這兩者的統稱使用。(甲基)丙烯酸酯作為表示丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯這兩者的統稱使用。(甲基)丙烯酸作為表示丙烯酸和甲基丙烯酸這兩者的統稱使用。(甲基)丙烯酰胺作為表示丙烯酰胺和甲基丙烯酰胺這兩者的統稱使用。本說明書中,將以式l表示的基團稱為基團(l)。其他基團也同樣。本說明書中,將以式(ll)表示的單體稱為單體(ll)。其他單體也同樣。本發明的聚合物(A)具有含基團(1)或基團(2)的側鏈和含乙烯性雙鍵的側鏈。-CFXRf(1)式1中,X表示氫原子、氟原子或三氟甲基,Rf表示可具有醚性氧原子的碳數20以下且氫原子中的至少1個被氟原子取代了的烷基或者氟原子。-(SiWR2-0)n-SiR11^3(2)式2中,R1、R2獨立地表示氫原子、烷基、環垸基或芳基,13表示氫原子或碳數110的有機基團,n表示l200的整數。含基團(l)或基團(2)的側鏈可以通過聚合反應直接形成,也可以通過聚合反應后的化學轉化而形成。此外,含乙烯性雙鍵的側鏈可以通過聚合反應后的化學轉化而形成。上述式l中的Rf為可具有醚性氧原子的碳數20以下且氫原子中的至少l個被氟原子取代了的烷基時,所述垸基中的氫原子可以被除氟原子以外的其他鹵素原子取代。作為其他鹵素原子,較好是氯原子。此外,醚性氧原子可以存在于該垸基的碳-碳鍵之間,也可以存在于該烷基的末端。此外,該垸基的結構可以例舉直鏈結構、分支結構、環結構或部分具有環的結構,較好是直鏈結構。作為以上述式l表示的基團的具體例子,可例舉以下的例子-CF:i、-CF2CF3、-CF2CHF2、-(CF2)2CF3、-(CF2)3CF3、-(CF2)4CF3、-(CF2)5CF:i、—(CF2)6CF3、—(CF2)7CF3、-(CF2)8CF3、—(CF2)9CF3、—(CF2)CF3、_(CF2)15CF3、-CF(CF3)0(CF2)5CF3、-CF20(CF2CF20)PCF3(p為18的整數)、-CF(CF3)0(CF2CF(CF3)0)qC6F13(q為14的整數)、-CF(CF3)0(CF2CF(CF3)0)rC3F7(r為15的整數)。作為上述基團(l),較好是全氟烷基或含l個氫原子的多氟垸基,特別好是全氟垸基,其中,所述垸基包括具有醚性氧原子的烷基。藉此,由感光性組合物形成的間隔壁的拒液性變得良好。此外,上述基團(l)的總碳數較好是46。該情況下,不僅可以賦予間隔壁足夠的拒液性,而且聚合物(A)和構成感光性組合物的其他成分的相容性良好,涂布感光性組合物而形成涂膜時聚合物(A)不會相互凝集,可以形成外觀良好的間隔壁。上述式2中,各硅氧垸單元中的R1、R2可以相同或不同。因為由感光性組合物形成的間隔壁表現出良好的油墨墜落性,所以R1、R2較好是氫原子、碳數110的烷基、環烷基或芳基,更好是氫原子、甲基或苯基,特別好是所有的硅氧垸單元的R1、R2都為甲基。此外,R3為有機基團時,可以包含氮原子、氧原子等,R3較好是氫原子或碳數l5的烴基。n較好是l100的整數,更好是280的整數。作為乙烯性雙鍵,可以例舉例如(甲基)丙烯酰基、烯丙基、乙烯基、乙烯基醚基等加成聚合性的不飽和基團等。這些基團的氫原子可以部分或全部可被烴基取代。作為烴基,較好是甲基。聚合物(A)可以如下制造將包括具有基團(l)的單體(al)或具有基團(2)的單體(a2)和具有反應性基團的單體(a3)的2種以上的單體共聚,再使所得的共聚物和具有可與所述反應性基團結合的官能團及乙烯性雙鍵的化合物(zl)反應。作為具有基團(1)的單體(al),較好是以下述式ll表示的單體。CH2=CR4C00-Y—CFXRf式(11)式11中,R4表示氫原子、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、甲基或三氟甲基,Y表示單鍵或者碳數l6的不含氟原子的2價有機基團,Rf表示可具有醚性氧原子的碳數20以下且氫原子中的至少1個被氟原子取代了的烷基或者氟原子。單體(ll)中,-CFXRf的優選形式與關于基團(l)說明了的形式相同。單體(11)中,從獲得的難易程度考慮,Y較好是碳數24的亞烷基。作為單體(ll)的例子,可以例舉以下的單體CH2=CR4C00R5CFXRfCH2=CR4C00R5NR6S02CFXRfCH2=CR4C00R5NR6C0CFXRfCH2=CR4C00CH2CH(OH)R7CFXRf在這里,14表示氫原子、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、甲基或三氟甲基,R5表示碳數l6的亞烷基,R6表示氫原子或甲基,17表示單鍵或者碳數14的亞烷基,Rf表示與上述相同的含義。作為R5的具體例子,可以例舉-CH廠、-CH2CH2-、-CH(CH》-、-CH2CH2CH2一、—C(CH3)2—、—CH(CH2CH3)—、—CH2CH2CH2CH2—、—CH(CH2CH2CH3)—、—CH2(CH2)3CH2-、—CH(CH2CH(CH3)2)-等。作為R7的具體例子,可以例舉-CH2-、-CH2CH2、-CH(CH》-、-CH2CH2CH2—、—C(CH3)2—、—CH(CH2CH3)—、—CH2CH2CH2CH2—、一CH(CH2CH2CH3)—等。作為單體(ll)的具體例子,可以例舉(甲基)丙烯酸-2-(全氟己基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(全氟丁基)乙酯等。單體(ll)可以使用l種,也可以并用2種以上。作為具有基團(2)的單體(a2),較好是下述單體(21)。CH2=CR8C00-Z-(SiR!R20)n-SiRW(21)式21中,R8表示氫原子或甲基,Z表示單鍵或碳數l6的2價有機基團,R1、R2獨立地表示氫原子、烷基、環烷基或芳基,R3表示氫原子或碳數l10的有機基團,n表示l200的整數。單體(a21)中,R1、R2、R3、n的優選形式與關于上述基團(2)說明了的形式相同。Z較好是碳數l6的2價烴基。作為具體例子,可以例舉下述基團—CH2—、—CH2CH2—、—CH(CH3)—、—CH2CH2CH2—、—CH(CH3)2—、—CH(CH2CH3)-、—CH2CH2CH2CH2—、—CH(CH2CH2CH3)-、—CH2(CH2)3CH2—、—CH(CH2CH(CH3)2)-等。上述單體(21)可以使用1種,也可以并用2種以上。作為具有反應性基團的單體(a3),可以例舉具有羥基的單體、具有乙烯性雙鍵的酸酐單體、具有羧基的單體、具有環氧基的單體等。還有,單體(a3)較好是實質上不含基團(1)和基團(2)。共聚后的單體(a3)所具有的反應性基團通過和具有可與該反應性基團結合的官能團及乙烯性雙鍵的化合物(zl)反應,形成具有含乙烯性雙鍵的側鏈的聚合物(A)。作為具有羥基的單體的具體例子,可以例舉(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸-3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸-5-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸-6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸-4-羥基環己酯、單(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、(甲基)丙烯酸-3-氯-2-羥基丙酯、單(甲基)丙烯酸丙三醇酯、2-羥基乙基乙烯基醚、4-羥基丁基乙烯基醚、環己二醇單乙烯基醚、2-羥基乙基烯丙基醚、N-羥甲基(甲基)丙烯酰胺、N,N-雙(羥甲基)(甲基)丙烯酰胺等。另外,作為具有羥基的單體,可以是具有末端為羥基的聚氧化烯鏈的單體。例如,可以例舉CH^CH0CH2CJUCH20(C晶0)kH(在這里,k為l100的整數,下同)、CH2=CH0C4H80(C2H40)kH、CH2=CHC00C2H40(C2H40)kH、CH2=C(CH3)C00C2H40(C2H40)kH、CH2=CHCOOC2H40(C2H40)m(C3H60)」H(在這里,m為0IOO的整數,j為l100的整數,m+j為l100,下同)、CH2=C(CH3)COOC2H40(C2H40)m(C3H60)jH等。作為具有乙烯性雙鍵的酸酐單體的具體例子,可以例舉馬來酸酐、衣康酸酐、檸康酸酐、甲基-5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐、3,4,5,6-四氫鄰苯二酸酐、順-1,2,3,6-四氫鄰苯二酸酐、2-丁烯-1-基琥珀酸酐等。作為具有羧基的單體的具體例子,可以例舉丙烯酸、甲基丙烯酸、乙烯基乙酸、丁烯酸、衣康酸、馬來酸、富馬酸、肉桂酸或它們的鹽。作為具有環氧基的單體的具體例子,可以例舉(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸-3,4-環氧環己基甲酯。聚合物(A)較好是還具有含酸性基團的側鏈。曝光工序中未發生固化反應的聚合物(A)的部分分子由于具有含酸性基團的側鏈,因而在顯影工序中被從間隔壁表面洗脫,間隔壁內不易殘留未固定化的殘存分子。可以在后曝光工序前的階段進一步減少可能遷移至間隔壁間的像素點的分子,能夠進一步提高像素點的親液性。作為酸性基團,較好是選自羧基、酚性羥基及磺酸基的l種以上的酸性基團。含酸性基團的側鏈可通過具有酸性基團的單體(a4)的聚合反應形成,也可通過聚合反應后的化學轉換形成。作為具有酸性基團的單體(a4),可以例舉具有羧基的單體,具有酚性羥基的單體、具有磺酸基的單體等。具有酸性基團的單體(a4)采用具有羧基的單體且上述具有反應性基團的單體(a3)也采用具有羧基的單體時,將最終未引入乙烯性雙鍵而作為羧基殘留的單體視作單體(a4)。作為具有酚性羥基的單體,可以例舉鄰羥基苯乙烯、間羥基苯乙烯、對羥基苯乙烯等。此外,可以例舉它們的苯環的l個以上的氫原子被以下的基團取代而得的單體甲基、乙基、正丁基等垸基,甲氧基、乙氧基、正丁氧基等烷氧基,鹵素原子,垸基的l個以上的氫原子被鹵素原子取代而得的鹵代垸基,硝基,氰基,酰胺基等。作為具有磺酸基的單體,可以例舉乙烯磺酸、苯乙烯磺酸、(甲基)烯丙基磺酸、2-羥基-3-(甲基)烯丙氧基丙磺酸、(甲基)丙烯酸-2-磺基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-磺基丙酯、2-羥基-3-(甲基)丙烯酰氧基丙磺酸、2-(甲基)丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸。本發明中的用于聚合的單體可以包含除具有基團(l)的單體(al)、具有基團(2)的單體(a2)、具有反應性基團的單體(a3)和具有酸性基團的單體(a4)以外的其他單體(a5)。作為其他單體(a5),可以例舉烴系烯烴類、乙烯基醚類、異丙烯基醚類、烯丙基醚類、乙烯基酯類、烯丙基酯類、(甲基)丙烯酸酯類、(甲基)丙烯酰胺類、芳族乙烯基化合物、氯代烯烴類、共軛二烯類。這些化合物中可以包含官能團,官能團可以例舉例如羰基、烷氧基等。由于間隔壁的耐熱性良好,因此特別優選(甲基)丙烯酸酯類或(甲基)丙烯酰胺類。聚合物(A)例如可以通過以下的方法合成。首先,將單體溶解于溶劑并加熱,加入聚合引發劑使其共聚。共聚反應中,較好是根據需要使鏈轉移劑存在。單體、聚合引發劑、溶劑和鏈轉移劑可以連續地添加。作為所述溶劑,可以例舉例如乙醇、l-丙醇、2-丙醇、l-丁醇、乙二醇等醇類,丙酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮類,2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇等溶纖劑類,2-(2-甲氧基乙氧基)乙醇、2-(2-乙氧基乙氧基)乙醇、2-(2-丁氧基乙氧基)乙醇等卡必醇類,乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乳酸乙酯、乳酸正丁酯、乙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇二乙酸酯、丙三醇三乙酸酯等酯類,二甘醇二甲醚、二甘醇甲基乙基醚等。作為聚合引發劑,可以例舉公知的有機過氧化物、無機過氧化物、偶氮化合物等。有機過氧化物、無機過氧化物也可以與還原劑組合作為氧化還原類催化劑使用。作為有機過氧化物,可以例舉過氧化苯甲酰、過氧化月桂酰、過氧化異丁酰、過氧化氫叔丁基、過氧化叔丁基-a-異丙苯等。作為無機過氧化物,可以例舉過硫酸銨、過硫酸鈉、過硫酸鉀、過氧化氫、過碳酸鹽等。作為偶氮化合物,可以例舉2,2,-偶氮二異丁腈、1,1,-偶氮二(環己-1-腈)、2,2,-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮二(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、2,2,-偶氮二異丁酸二甲酯、2,2'-偶氮二(2-脒基丙垸)二鹽酸鹽等。作為鏈轉移劑,可以例舉正丁硫醇、正十二垸硫醇、叔丁硫醇、巰基乙醇酸乙酯、巰基乙醇酸-2-乙基己酯、2-巰基乙醇等硫醇類,氯仿、四氯化碳、四溴化碳等鹵代垸。通過使如上所述得到的共聚物和具有可與反應性基團結合的官能團及乙烯性雙鍵的化合物(zl)反應,可以得到聚合物(A)。作為對應于反應性基團的和具有可與該反應性基團結合的官能團及乙烯性雙鍵的化合物(zl)的組合,例如可例舉以下的組合。(1)對于羥基,具有乙烯性雙鍵的酸酐;(2)對于羥基,具有異氰酸酯基及乙烯性雙鍵的化合物;(3)對于羥基,具有酰氯基及乙烯性雙鍵的化合物;(4)對于酸酐,具有羥基及乙烯性雙鍵的化合物;(5)對于羧基,具有環氧基及乙烯性雙鍵的化合物;(6)對于環氧基,具有羧基及乙烯性雙鍵的化合物。作為具有乙烯性雙鍵的酸酐的具體例子,可以例舉前述的例子。作為具有異氰酸酯基及乙烯性雙鍵的化合物的具體例子,可以例舉2-(甲基)丙烯酰氧基乙基異氰酸酯、1,1-雙((甲基)丙烯酰氧基甲基)乙基異氰酸酯。作為具有酰氯基及乙烯性雙鍵的化合物的具體例子,可以例舉(甲基)丙烯酰氯。作為具有羥基及乙烯性雙鍵的化合物的具體例子,可以例舉前述的具有羥基的單體的例子。作為具有環氧基及乙烯性雙鍵的化合物的具體例子,可以例舉前述的具有環氧基的單體的例子。作為具有羧基及乙烯性雙鍵的化合物的具體例子,可以例舉前述的具有羧基的單體的例子。作為上述的組合,特別好是對于羥基,使用l,l-雙((甲基)丙烯酰氧基甲基)乙基異氰酸酯。這是因為聚合物(A)具有每1條側鏈中含2個以上的乙烯性雙鍵的側鏈,聚合物(A)向間隔壁表面的固定化良好。使共聚物和具有可與反應性基團結合的官能團及乙烯性雙鍵的化合物(zl)反應時,反應中使用的溶劑可以使用上述共聚物的合成中示例的溶劑。此外,較好是摻入聚合抑制劑。作為聚合抑制劑,可以例舉例如2,6-二叔丁基對甲酚。此外,可以加入催化劑和中和劑。例如,使具有羥基的共聚物與具有異氰酸酯基和乙烯性雙鍵的化合物反應的情況下,可以使用錫化合物。使具有羥基的共聚物與具有酰氯基和乙烯性雙鍵的化合物反應的情況下,可以使用堿性催化劑。相對于進行共聚的單體的總質量的各單體的優選比例如下所述。使用具有基團(l)的單體(al)時,其比例較好為2080質量%,更好為3060質量%。使用具有基團(2)的單體(a2)時,其比例較好為0.0120質量%,更好為0.0510質量%。基團(1)或基團(2)該比例越高,則本發明的聚合物(A)的降低由所形成的涂膜固化物構成的間隔壁的表面張力的效果越好,賦予間隔壁高拒液性。另一方面,如果該比例過高,則間隔壁和基板的密合性可能會下降。具有反應性基團的單體"3)的比例較好為2070質量%,更好為3050質量%。如果在該范圍內,則聚合物(A)向間隔壁的固定化及顯影性趨好。具有酸性基團的單體(a4)的比例較好為220質量X,更好為412質量%。如果在該范圍內,則曝光工序中未被固定化的殘存分子在顯影工序中易被從間隔壁洗脫。其他單體(a5)的比例較好為70質量X以下,更好為50質量%以下。如果在該范圍內,則堿溶性和顯影性良好。共聚物和化合物(zl)按照[化合物(zl)的官能團]/[共聚物的反應性基團]的當量比值達到0.52.0的條件加料。當量比越高,則聚合物(A)向間隔壁的固定化越好。另一方面,如果當量比過高,則作為未反應的化合物(zl)的雜質增加,涂膜外觀劣化。更好是0.81.5。還有,作為具有反應性基團的單體(a3)和具有酸性基團的單體(a4)都使用具有羧基的單體時,調節共聚物和化合物(zl)的加料量而使聚合物(A)的酸值達到規定值即可。聚合物(A)具有基團(1)時,聚合物(A)的氟原子的含有率較好是535質量%。含有率越高,則聚合物(A)的降低間隔壁的表面張力的效果越好,賦予間隔壁高拒液性。另一方面,如果含有率過高,則間隔壁和基板的密合性可能會下降。聚合物(A)中的氟原子含有率的下限更好是10質量X,上限更好是30質量%。聚合物(A)具有基團(2)時,聚合物(A)的硅原子的含有率較好是O.530質量%。含有率越高,則聚合物(A)的降低間隔壁的表面張力的效果和提高油墨墜落性的效果越好。另一方面,如果含有率過高,則間隔壁和基板的密合性可能會下降。聚合物(A)中的硅原子含有率的下限更好是0.5質量%,上限更好是10質量%。聚合物(A)優選分子內具有2100個的乙烯性雙鍵。更好是650個。如果在該范圍內,則聚合物(A)向間隔壁的固定化及顯影性趨好。聚合物(A)的酸值較好是在100(mgKOH/g)以下,更好是1050(mgK0H/g)。如果在該范圍內,則曝光工序中未被固定化的殘存分子在顯影工序中易被從間隔壁洗脫。還有,酸值是指中和lg樹脂所需的氫氧化鉀的質量(單位mg),本說明書中單位記為mgKOH/g。聚合物(A)的重均分子量較好為500以上且不足15000,更好為1000以上且不足IOOOO。如果在該范圍內,則堿溶性和顯影性良好。本發明中,感光性組合物的全部固體成分中的聚合物(A)的比例較好為0.130質量%。如果該比例高,則降低所形成的間隔壁的表面張力的效果良好,賦予間隔壁高拒液性。另一方面,如果該比例過高,則間隔壁和基板的密合性可能會下降。組合物的全部固體成分中的聚合物(A)的比例的下限更好是O.15質量%,上限更好是20質量%。本發明的聚合物(A)可以1分子內同時具有含基團(1)的側鏈和含基團(2)的側鏈。此外,本發明的感光性樹脂組合物可以同時包含具有含基團(l)的側鏈的聚合物(A)和具有含基團(2)的側鏈的聚合物(A)。這些情況下,感光性樹脂組合物特別是可以同時發揮高拒液性和高油墨墜落性。本發明的感光性組合物較好是包含堿溶性感光樹脂(B)。堿溶性感光樹脂(B)較好是在1分子內具有酸性基團和乙烯性雙鍵。堿溶性感光樹脂(B)因為具有酸性基團,所以未曝光部分可被堿性顯影液除去。此外,由于具有乙烯性雙鍵,所以曝光部分不會被堿性顯影液除去。因此可形成間隔壁。堿溶性感光樹脂(B)較好是實質上不含基團(1)或基團(2)。作為酸性基團,可以是選自羧基、酚性羥基、磺酸基及磷酸基的l種以上的酸性基團。作為乙烯性雙鍵,可以例舉例如(甲基)丙烯酰基、烯丙基、乙烯基、乙烯基醚基等加成聚合性的不飽和基團等。這些基團的氫原子可以部分或全部可被烴基取代。作為烴基,較好是甲基。作為堿溶性感光樹脂(B),可以例舉例如作為具有乙烯性雙鍵的單體的共聚物的具備具有酸性基團的側鏈和具有乙烯性雙鍵的側鏈的聚合物(B-1)、在環氧樹脂中引入乙烯性雙鍵和酸性基團而得的樹脂(B-2)。上述聚合物(B-l)除了不使用具有基團(1)的單體(al)和具有基團(2)的單體(a2)以外,可以通過與上述聚合物(A)同樣的方法制成。作為具有磷酸基的乙烯性不飽和單體,可例舉2-(甲基)丙烯酰氧基乙垸磷酸。作為上述樹脂(B-2),較好是使多元羧酸或其酸酐與環氧樹脂和具有羧基及乙烯性雙鍵的化合物的反應產物進一步反應而得的化合物。作為可用于上述樹脂(B-2)的制造的環氧樹脂,可例舉雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、三苯酚甲烷型環氧樹脂、具有萘骨架的環氧樹脂、以下述式(B-21)表示的具有聯苯骨架的環氧樹脂(其中,s表示l50,較好是210)、以下述式(B-22)表示的環氧樹脂(其中,R7、R8、R9、R"獨立地表示氫原子、氯原子或碳數15的垸基中的任一種,t表示010)。CH2—CH—CH2—0、00-CH2—CH_CH20(B-21)CH2-CH-CH2-0'、/0■0_CH2-SH_CH2_0'R10■0-CH2-CH-CH2、0'(B-22)通過使具有羧基及乙烯性雙鍵的化合物與環氧樹脂反應,從而在環氧樹脂中引入乙烯性雙鍵。接著,通過使多元羧酸或其酸酐與其反應,從而可以引入作為酸性基團的羧基。特別是使具有羧基及乙烯性雙鍵的化合物與以上述式(B-22)表示的環氧樹脂反應后使多元羧酸酐與之反應的情況下,最好使二羧酸酐及四羧酸二酐的混合物與其反應。這是因為可以通過改變二羧酸酐和四羧酸二酐的比例來控制分子量。作為在環氧樹脂中引入乙烯性雙鍵和酸性基團而得的樹脂(B-2)的市售品,可以例舉KAYARADPCR-1069、K-48C、CCR-1105、CCR-1115、CCR-ll63H、CCR-1166H、CCR-1159H、TCR-1025、TCR-1064H、TCR-1286H、ZAR-1535H、ZFR-1122H、ZFR-1124H、ZFR-1185H、ZFR-1492H、ZCR-1571H、ZCR1569H、ZCR-1580H、ZCR1581H、ZCR1588H(以上由日本化藥株式會社(日本化薬社)制)等。堿溶性感光樹脂(B)的酸值較好是10300mgK0H/g,更好是30150mgKOH/g。如果在該范圍內,則感光性組合物的堿溶性和顯影性良好。堿溶性感光樹脂(B)較好是1分子內具有3個以上的乙烯性雙鍵,更好是1分子內具有6個以上的乙烯性雙鍵。這是因為曝光部分和未曝光部分的堿溶解度易產生差別,能夠以更少的曝光量形成微細的圖案。堿溶性感光樹脂(B)的重均分子量較好為500以上且不足20000,更好為2000以上且不足15000。如果在該范圍內,則感光性組合物的堿溶性和顯影性良好。堿溶性感光樹脂(B)較好是還具有作為可進行交聯反應的基團的羧基或羥基。這是因為本發明的感光性組合物還包含作為具有2個以上可與羧基或羥基反應的基團的化合物的熱固化劑(E)的情況下,通過顯影后的加熱處理與堿溶性感光樹脂(B)進行交聯反應,間隔壁的交聯密度增大,耐熱性提高。作為酸性基團的羧基、酚性羥基也是可進行交聯反應的基團。堿溶性感光樹脂(B)具有作為酸性基團的磺酸基、磷酸基的情況下,作為可進行交聯反應的基團,較好是具有羧基、酚性羥基、醇性羥基中的任l種以上。感光性組合物的全部固體成分中的堿溶性感光樹脂(B)的比例較好是580質量%,更好是1060質量%。如果在該范圍內,則感光性組合物的堿顯影性良好。本發明的感光性組合物較好是包含光聚合引發劑(C)。光聚合引發劑(C)較好是由通過光產生自由基的化合物形成。作為光聚合引發劑(C),可例舉苯偶酰、丁二酮、甲基苯基乙醛酸酯、9,10-菲醌等a-二酮類,苯偶姻等偶姻類,苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚等偶姻醚類,噻噸酮、2-氯噻噸酮、2-甲基噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、異丙基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二氯噻噸酮、2,4-二異丙基噻噸酮、噻噸酮-4-磺酸等噻噸酮類,二苯酮、4,4,-雙(二甲氨基)二苯酮、4,4,-雙(二乙氨基)二苯酮等二苯酮類,乙酰苯、2-(4-甲苯磺酰氧基)-2-苯基乙酰苯、對二甲氨基乙酰苯、2,2,-二甲氧基-2-苯基乙酰苯、對甲氧基乙酰苯、2-甲基-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基-l-丙酮、2-芐基-2-二甲氨基-l-(4-嗎啉基苯基)-丁-1-酮等乙酰苯類,蒽醌、2-乙基蒽醌、樟腦醌、1,4-萘醌等醌類,2-二甲氨基苯甲酸乙酯、4-二甲氨基苯甲酸乙酯、4-二甲氨基苯甲酸(正丁氧基)乙酯、4-二甲氨基苯甲酸異戊酯、4-二甲氨基苯甲酸2-乙基己酯等氨基苯甲酸類,苯甲酰甲基氯、三鹵代甲基苯基砜等鹵素化合物,酰基氧化膦類,過氧化二叔丁基等過氧化物,1,2-辛二酮,1-[4-(苯基硫代)-,2-(0-苯甲酰肟)]、乙酮l-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-l-(0-乙酰肟)等肟酯類等。這些光聚合引發劑可以使用l種,也可以2種以上組合使用。尤其,上述氨基苯甲酸類、上述二苯酮類等有時可與其它光自由基發生劑一起使用,發揮敏化效果。此外,三乙醇胺、甲基二乙醇胺、三異丙醇胺、正丁胺、N-甲基二乙醇胺、甲基丙烯酸二乙氨基乙酯等脂肪族胺類也同樣,有時可與其它光自由基發生劑一起使用,發揮敏化效果。感光性組合物的全部固體成分中的光聚合引發劑(C)的比例較好是0.150質量%,更好是O.530質量%。如果在該范圍內,則感光性組合物的靈敏度良好。感光性組合物較好是包含具有2個以上的乙烯性雙鍵且不具有酸性基團的自由基交聯劑(D)。藉此,感光性組合物的光固化性進一步提高,可以低曝光量促進間隔壁的形成。作為自由基交聯劑(D)的具體例子,可以例舉二(甲基)丙烯酸二甘醇酯、二(甲基)丙烯酸四甘醇酯、二(甲基)丙烯酸三丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸l,9-壬二醇酯、三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙垸酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸二(三羥甲基)丙烷酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、氨酯丙烯酸酯等。它們可以使用l種,也可以并用2種以上。感光性組合物的全部固體成分中的自由基交聯劑(D)的比例較好是1060質量%,更好是1550質量%。如果在該范圍內,則感光性組合物的堿顯影性良好。感光性組合物較好是根據需要包含熱固化劑(E)。這是因為可以提高間隔壁的耐熱性、耐透水性。作為熱固化劑(E),可以例舉例如氨基樹脂、具有2個以上的環氧基的化合物、具有2個以上的肼基的化合物、聚碳二亞胺化合物、具有2個以上的噁唑啉基的化合物、具有2個以上的氮丙啶基的化合物、多價金屬類、具有2個以上的巰基的化合物、多異氰酸酯化合物等。上述的熱固化劑(E)中,特別好是氨基樹脂、具有2個以上的環氧基的化合物或具有2個以上的嚼唑啉基的化合物。這是因為可提高所形成的間隔壁的耐化學性。感光性組合物的全部固體成分中的熱固化劑(E)的比例較好是150質量%,更好是530質量%。如果在該范圍內,則感光性組合物的堿顯影性良好。感光性組合物較好是根據需要包含硅垸偶聯劑(F)。由此,可以提高間隔壁對基板的密合性。作為硅烷偶聯劑的具體例子,可以例舉四乙氧基硅垸、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅垸、乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基硅垸、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-巰基丙基三甲氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅垸、十七氟辛基乙基三甲氧基硅垸、含聚氧化烯鏈的三乙氧基硅垸、咪唑硅烷等。它們可以使用l種,也可以并用2種以上。另外,感光性組合物中可以根據需要使用著色劑(G)。藉此,可以對間隔壁進行著色。為了制成用于形成作為黑色矩陣的間隔壁的黑色感光性組合物,可以使用例如炭黑、苯胺黑、蒽醌類黑色顏料、茈類黑色顏料,具體有C.I.顏料黑l、6、7、12、20、31等。此外,也可以使用紅色顏料、藍色顏料、綠色顏料等有機顏料或無機顏料的混合物。作為黑色顏料,從價格、遮光性的強弱來看,較好是炭黑,炭黑可以通過樹脂等進行表面處理。此外,為了調整色調,可以并用藍色顏料或紫色顏料。作為炭黑,較好是基于BET法的比表面積為50200m7g的炭黑。使用比表面積不足50m7g的炭黑時,間隔壁(黑色矩陣)的著色能力容易下降,為了獲得所需的遮蔽性,必須摻入大量的炭黑;使用比表面積大于200mVg的炭黑時,分散助劑過度吸附于炭黑,存在為了發揮各物性而必須慘入大量的分散助劑的傾向。此外,作為炭黑,從對光的靈敏度的角度來看,較好是鄰苯二甲酸二丁酯的吸油量在120cc/100g以下的炭黑,吸油量越少越好。另外,炭黑的由激光衍射光散射法測得的平均粒徑較好是下限為40nm以上,上限為200mn以下。如果平均粒徑過小,則可能會難以使其以高濃度分散,不易獲得經時穩定性良好的感光性組合物。如果平均粒徑過大,則可能會導致圖案的線性劣化。感光性組合物的全部固體成分中的著色劑(G)的比例較好是1550質量%,更好是3040質量%。含量過少時無法獲得所需的遮光性,含量過多時可能會導致靈敏度和析像度的下降,因此較好是在該范圍內。感光性組合物中,可以根據需要使用固化促進劑、增粘劑、增塑劑、作為稀釋劑,可以使用聚合物(A)的說明中例示的各種單體作為反應性稀釋劑。此外,可以使用合成聚合物(A)時所用的溶劑的說明中例示的溶劑。除此之外,還可以例舉正丁垸、正己垸等鏈烴,環己垸等飽和環垸烴,甲苯、二甲苯、芐醇等芳烴等。它們可以使用l種,也可以并用2種以上。本發明的感光性組合物可用于形成間隔壁的寬度的平均值較好在ioo^m以下、更好是在20um以下的圖案。此外,可用于形成像素點的寬度的平均值較好在300ura以下、更好是在100um以下的圖案。此外,還可以用于形成間隔壁的高度的平均值優選為O.0550ym、較好為O.210pm、特別好為0.53"m的圖案。由感光性組合物形成的間隔壁的拒液性根據與水及二甲苯的接觸角來估計,與水的接觸角較好為90度以上,更好為95度以上。此外,與二甲苯的接觸角較好為35度以上,更好為40度以上。實施例以下,示例合成例和實施例,對本發明進行具體說明,但本發明并不受其限定。還有,下文中,只要沒有特別說明,份和%為質量基準。重均分子量為通過凝膠滲透色譜法以聚苯乙烯為標準物質測定的值。含氟聚合物(A)所含的氟原子的含有率通過以下的方法測定。使得到的含氟樹脂在120(TC完全燃燒分解,將產生的氣體吸收于50g水中。對得到的水溶液的氟化物離子量進行定量,算出含氟聚合物(A〉所含的氟原子的含有率。酸值(mgKOH/g)和l分子中的乙烯性雙鍵的數量為根據作為原料的單體的配比算出的理論值。以下的各例中使用的化合物的縮寫如下所示。C6FMA:CH2=C(CH3)COOCH2CH2(CF2)6F,DMS:含二甲基硅氧烷鏈的甲基丙烯酸酯(信越化學工業株式會社(信越化學工業社)制,商品名X-22-174DX),MAA:甲基丙烯酸,2HEMA:甲基丙烯酸-2-羥基乙酯,AA:丙烯酸,麗A:甲基丙烯酸甲酯,IBMA:甲基丙烯酸異冰片酯,2ME:2-巰基乙醇,V70:2,2,-偶氮二(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)(和光純藥工業株式會社(和光純薬社)制,商品名V-70),MOI:2-甲基丙烯酰氧基乙基異氰酸酯,BEI:1,l-二((甲基)丙烯酰氧基甲基)乙基異氰酸酯,DBTDL:二月桂酸二丁錫,BHT:2,6-二叔丁基對甲酚,IR907:自由基引發劑(汽巴精化公司(于,只^、乂亇少亍<亇S力少X、社)制,商品名IRGACURE-907),IR369:自由基引發劑(汽巴精化公司制,商品名IRGACURE-369),0XE01:l,2-辛二酮,1-[4-(苯基硫代)-,2-(0-苯甲酰膀)](汽巴精化公司制,商品名OXEOl),0XE02:乙酮1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-1-(0-乙酰肟)(汽巴精化公司制,商品名0XE02),DEAB:4,4,-雙(二乙氨基)二苯酮,DETX-S:異丙基噻噸酮(日本化藥株式會社制,商品名DETX-S),D310:五丙烯酸二季戊四醇酯(日本化藥株式會社制,商品名KAYARADD-310),CCR1115:甲酚酚醛清漆型環氧丙烯酸酯(日本化藥株式會社制,商品名CCR-1115,固體成分60質量%),ZFR1492H:雙酚F型環氧丙烯酸酯(日本化藥株式會社制,商品名ZFR-1492H,固體成分65質量%),D310:五丙烯酸二季戊四醇酯(日本化藥株式會社制,商品名KAYARADD-310),157S65:雙酚A酚醛清漆型(日本環氧樹脂株式會社(i^卞八°乂工求年〉k^y社)制,商品名EPIKOTE157S65),KBM403:3-環氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化學工業株式會社制,商品名KBM-403),DEGDM:二甘醇二甲醚,CB:炭黑(平均二次粒徑420ntn,丙二醇單甲醚乙酸酯溶液,CB成分20質量%,固體成分25質量%),有機顏料混合有機顏料分散液(平均粒徑二80nm,丙二醇單甲醚乙酸酯溶液,有機顏料成分20質量%,固體成分25質量%)。〈聚合物(A1)(A5)、(Rl)的合成〉[合成例l](聚合反應)在具備攪拌機的內容積1L的高壓釜中加入丙酮(556.Og)、C6FMA(96.Og)、MAA(4.8g)、2-HEMA(96.Og)、MMA(43.2g)、鏈轉移劑2-ME(6.2g)和聚合引發劑V-70(4.5g),在氮氣氣氛下攪拌的同時,使其在4(TC聚合18小時,獲得共聚物l的溶液。該共聚物1的重均分子量為5600。向得到的共聚物l的丙酮溶液中加水進行再沉淀純化,再通過石油醚進行再沉淀純化,真空干燥,獲得237g共聚物l。(乙烯性雙鍵的引入)在具備溫度計、攪拌機、加熱裝置的內容量500mL的玻璃制燒瓶中加入共聚物l(100g)、M0I(47.7g)、DBTDL(O.19g)、BHT(2.4g)和丙酮(100g),攪拌的同時使其在3(TC聚合18小時,獲得含氟聚合物(A1)的溶液。向得到的含氟聚合物(Al)的丙酮溶液中加水進行再沉淀精制,再通過石油醚進行再沉淀精制,真空干燥,獲得135g聚合物(Al)。重均分子量為8800。[合成例26]通過除了在共聚物l的合成中按照表l改變原料的配比(單位g)之外同樣的聚合反應,獲得共聚物26。接著,通過除了在聚合物(A1)的合成中按照表2改變原料的配比(單位g)之外同樣的反應,獲得具備具有乙烯性雙鍵的側鏈的聚合物(A2)(A5)、不具備具有乙烯性雙鍵的側鏈的聚合物(Rl)。得到的聚合物的重均分子量、聚合物中的氟原子的含有率、l分子中的乙烯性雙鍵(OC)的數量、酸值(mgK0H/g)示于表2。[表l]<table>tableseeoriginaldocumentpage28</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage28</column></row><table>〈堿溶性感光樹脂(Bl)的合成〉[合成例7]在具備攪拌機的內容積1L的高壓釜中加入丙酮(555.Og)、AA(96.Og)、2-HEMA(96.Og)、IBMA(48.Og)、鏈轉移劑DSH(9.7g)和聚合引發劑V-70(7.1g),在氮氣氣氛下攪袢的同時,使其在4(TC聚合18小時,獲得聚合物7的溶液。該聚合物7的重均分子量為9800。向得到的聚合物7的丙酮溶液中加水進行再沉淀純化,再通過石油醚進行再沉淀純化,真空干燥,獲得240g聚合物7。然后,在具備溫度計、攪拌機、加熱裝置的內容量300mL的玻璃制燒瓶中加入聚合物7(100g)、M0I(48.3g)、DBTDL(O.19g)、BHT(2.4g)和丙酮(100g),攪拌的同時使其在3(TC聚合18小時,獲得堿溶性感光樹脂(B1)的溶液。向得到的堿溶性感光樹脂(B1)的丙酮溶液中加水進行再沉淀純化,再通過石油醚進行再沉淀純化,真空干燥,獲得148g堿溶性感光樹脂(Bl)。堿溶性感光樹脂(Bl)的重均分子量為13200。〈感光性組合物的制備〉將具備具有乙烯性雙鍵的側鏈的含氟聚合物(Al)(A5)、不具備具有乙烯性雙鍵的側鏈的含氟聚合物(R1)、堿溶性感光樹脂(B1)、光聚合引發劑(C)和其他成分以表3所示的比例(質量份)摻合,制成感光性組合物17。<table>tableseeoriginaldocumentpage29</column></row><table>〈間隔壁和像素的形成〉使用上述制成的感光性組合物,通過以下的例1例8所示的方法,在基板上形成間隔壁和像素。[例l]在玻璃基板上用旋涂機涂布感光性組合物l后,在10(TC于加熱板上干燥2分鐘。在涂膜的上方,以30um的間隔設置形成格子圖案的掩模(線二20nm,格子尺寸^00timX200uni),以100mJ/cm2照射超高壓汞燈。接著,將基材用加入了表面活性劑的O.1質量X氫氧化四甲銨水溶液在25"C進行顯影處理40秒,用水清洗,使其干燥,從而形成間隔壁。接著,通過超高壓汞燈從間隔壁形成面側(正面側)以2000mJ/cm2照射,再在20(TC進行1小時的加熱處理,獲得形成了平均膜厚2.0ixm的間隔壁的基板。向由間隔壁分隔而成的100umX200um的區域內,使用噴墨裝置注入含綠色顏料的固體成分25%的熱固型油墨后,在100'C于加熱板上干燥5分鐘。油墨的加熱固化后的體積為40pL。然后,在20(TC進行30分鐘的加熱處理,從而形成像素。在玻璃基板上用旋涂機涂布感光性組合物2后,在10(TC于加熱板上干燥2分鐘。在涂膜的上方,以30pm的間隔設置形成格子圖案的掩模(線二20ym,格子尺寸^00umX200um),以200mJ/cm2照射超高壓汞燈。接著,將基材用加入了表面活性劑的O.l質量。/。氫氧化四甲銨水溶液在25"C進行顯影處理40秒,用水清洗,使其干燥,從而形成間隔壁。接著,通過超高壓汞燈從間隔壁形成面側(反面側)以3000mJ/cm照射,再在20(TC進行1小時的加熱處理,獲得形成了平均膜厚2.0ym的間隔壁的基板。與例l同樣地進行操作,向由間隔壁分隔而成的區域內注入油墨,形成油墨層,從而形成像素。[例3]在玻璃基板上用旋涂機涂布感光性組合物3后,在10(TC于加熱板上干燥2分鐘。在涂膜的上方,以30um的間隔設置形成格子圖案的掩模(線二20ura,格子尺寸^00pmX200"m),以200mJ/cm2照射超高壓汞燈。接著,將基材用加入了表面活性劑的O.1質量X氫氧化四甲銨水溶液在25'C進行顯影處理40秒,用水清洗,使其干燥,從而形成間隔壁。接著,通過超高壓汞燈從間隔壁形成面側(正面側)以3000mJ/cm2照射,再在20(TC進行1小時的加熱處理,獲得形成了平均膜厚2.0um的間隔壁的基板。與例l同樣地進行操作,向由間隔壁分隔而成的區域內注入油墨,形成油墨層,從而形成像素。在玻璃基板上用旋涂機涂布感光性組合物4后,在10(TC于加熱板上干燥2分鐘。在涂膜的上方,以30um的間隔設置形成格子圖案的掩模(線二20um,格子尺寸400umX200um),以100mJ/cm2照射超高壓汞燈。接著,將基材用加入了表面活性劑的O.1質量X氫氧化四甲銨水溶液在25'C進行顯影處理40秒,用水清洗,使其干燥,從而形成間隔壁。接著,通過超高壓汞燈從間隔壁形成面側(正面側)以200mJ/cm2照射,再在20(TC進行1小時的加熱處理,獲得形成了平均膜厚2.0"m的間隔壁的基板。與例l同樣地進行操作,向由間隔壁分隔而成的區域內注入油墨,形成油墨層,從而形成像素。[例5]在形成有鉻黑色矩陣的玻璃基板上用旋涂機涂布感光性組合物5后,在10(TC于加熱板上干燥2分鐘。在涂膜的上方,以30um的間隔設置形成格子圖案的掩模(線20ura,格子尺寸^00umX200!im),以100mJ/cm"照射超高壓汞燈。接著,將基材用加入了表面活性劑的O.1質量%氫氧化四甲銨水溶液在25'C進行顯影處理40秒,用水清洗,使其干燥,從而形成間隔壁。接著,通過超高壓滎燈從間隔壁形成面側(正面側)照射4000mJ/cm2,獲得形成了平均膜厚2.Oum的間隔壁的基板。與例l同樣地進行操作,向由間隔壁分隔而成的區域內注入油墨,形成油墨層,從而形成像素。在玻璃基板上用旋涂機涂布感光性組合物l后,在10(TC于加熱板上干燥2分鐘。在涂膜的上方,以30um的間隔設置形成格子圖案的掩模(線二20um,格子尺寸^00umX200um),以100mJ/cm2照射超高壓汞燈。接著,將基材用加入了表面活性劑的O.1質量%氫氧化四甲銨水溶液在25°〇進行顯影處理40秒,用水清洗,使其干燥,從而形成間隔壁。然后,在20(TC進行1小時的加熱處理,獲得形成了平均膜厚2.0ura的間隔壁的基板。與例l同樣地進行操作,向由間隔壁分隔而成的區域內注入油墨,形成油墨層,從而形成像素。在玻璃基板上用旋涂機涂布感光性組合物6后,在10(TC于加熱板上干燥2分鐘。在涂膜的上方,以30um的間隔設置形成格子圖案的掩模(線二20yra,格子尺寸-100ymX200ym),以200mJ/cm照射超高壓汞燈。接著,將基材用加入了表面活性劑的O.1質量X氫氧化四甲銨水溶液在25'C進行顯影處理40秒,用水清洗,使其干燥,從而形成間隔壁。接著,通過超高壓汞燈從間隔壁形成面側(正面側)以3000mJ/cm2照射,再在20(TC進行1小時的加熱處理,獲得形成了平均膜厚2.0um的間隔壁的基板。與例l同樣地進行操作,向由間隔壁分隔而成的區域內注入油墨,形成油墨層,從而形成像素。[例8]在玻璃基板上用旋涂機涂布感光性組合物7后,在10(TC于加熱板上干燥2分鐘。在涂膜的上方,以30pm的間隔設置形成格子圖案的掩模(線-20iim,格子尺寸^00limX200iim),以200mJ/cm"照射超高壓汞燈。接著,將基材用加入了表面活性劑的O.1質量X氫氧化四甲銨水溶液在25。C進行顯影處理40秒,用水清洗,使其干燥,從而形成間隔壁。接著,通過超高壓汞燈從間隔壁形成面側(正面側)以3000mJ/cm2照射,再在20(TC進行1小時的加熱處理,獲得形成了平均膜厚2.0um的間隔壁的基板。與例l同樣地進行操作,向由間隔壁分隔而成的區域內注入油墨,形成油墨層,從而形成像素。[例9]在形成有鉻黑色矩陣的玻璃基板上用旋涂機涂布感光性組合物5后,在10(TC于加熱板上干燥2分鐘。在涂膜的上方,以30um的間隔設置形成格子圖案的掩模(線二20ixra,格子尺寸-100umX200"m),以4000raJ/cm照射超高壓滎燈。接著,將基材用加入了表面活性劑的O.1質量%氫氧化四甲銨水溶液在25'C進行顯影處理40秒,用水清洗,使其干燥,從而形成間隔壁。然后,在20(TC進行1小時的加熱處理,獲得形成了平均膜厚2.0nm的間隔壁的基板。由于曝光量多,因此間隔壁的線寬粗,無法通過顯影得到由間隔壁分隔而成的區域,所以未進行油墨的注入。<評價>對于形成了間隔壁和像素的基板,通過以下所示的方法測定、評價顯影性、間隔壁的形狀、間隔壁的線寬、拒水拒油性、噴墨涂布性。它們的結果匯總示于表4。(顯影性)將可以完全地顯影的記作O,存在未被顯影的部分的記作X。(間隔壁的形狀)將基板割斷,通過掃描電子顯微鏡(株式會社日立制作所(日立製作所)制)觀察間隔壁的剖面形狀。圖3表示例4得到的間隔壁的剖面形狀的觀察圖像。(間隔壁的線寬)通過超景深形狀測定顯微鏡(基恩士公司(年一工y7社)制)測定間隔壁的上底和下底(與透明基板接觸的間隔壁的線寬)的線寬。(拒液性)除了不使用掩模以外,與例19中形成間隔壁的條件同樣地進行操作,在玻璃基板上形成由感光性組合物的涂膜固化物形成的膜,評價膜表面的拒液性。具體來說,通過膜表面與水和二甲苯的接觸角(度)來評價。接觸角是指固體和液體接觸的點上的對于液體表面的切線和固體表面所形成的角,定義為包含液體的一方的角度。該角度越大,則表示膜的拒液性越好。對于與水的接觸角,將95度以上的記作0,90度以上且不足95度的記作A,不足90度的記作X。對于與二甲苯的接觸角,將40度以上的記作O,35度以上且不足40度的記作A,不足35度的記作X。(油墨層的膜厚均勻性)通過超景深形狀測定顯微鏡(基恩士公司)測定油墨層的膜厚均勻性。將膜厚的最大值設為hl、最小值設為h2,表記(hl-h2)/hl的值。圖l表示例l得到的間隔壁和像素的表面觀察圖像。圖1中的(A)表示油墨層的沿線a-a的剖面的膜厚分布,在像素中央示出了該油墨層的膜厚的最大值。圖l中的(B)表示與(A)相同的油墨層的沿線b-b的剖面的膜厚分布,在像素的圖像上部示出了該油墨層的膜厚的最小值。膜厚最大值為2.02um,膜厚最小值為1.65um,因此(hi-h2)/hl二0.18。圖2表示例6得到的間隔壁和像素的表面觀察圖像。該情況下,以箭頭表示的像素部的角的部分存在油墨未浸潤的區域,因此膜厚最小值為Owm,(hi-h2)/hl為l。<table>tableseeoriginaldocumentpage35</column></row><table>例6由于未進行后曝光,因此油墨層的膜厚均勻性差。例7由于包含不具備具有乙烯性雙鍵的側鏈的含氟聚合物,因此拒液性稍差,油墨層的膜厚均勻性差。例8由于不含本發明的聚合物(A),因此拒液性、油墨層的膜厚均勻性差。產業上利用的可能性本發明的制造方法適合用于彩色濾光片的間隔壁和像素、液晶顯示元件的ITO電極的間隔壁和像素、有機EL顯示元件的間隔壁和像素、電路布線基板的間隔壁和像素等電子器件的間隔壁和像素的制造。還有,在這里引用2007年5月30日提出申請的日本專利申請2007-143638號的說明書、權利要求書、附圖和摘要的所有內容作為本發明說明書的揭不。權利要求1.一種形成有間隔壁和像素的基板的制造方法,其特征在于,經過將下述感光性組合物涂布于基板的工序[11]、對感光性組合物的涂膜進行干燥的工序[12]、曝光工序[13]、顯影工序[14]、后曝光工序[15]在基板上形成間隔壁,經過向作為由所述間隔壁分隔而成的區域的像素點內注入油墨的工序[21]、對油墨的涂膜進行干燥的工序[22]形成將一個像素點內的油墨層的膜厚的最大值設為h1、最小值設為h2時滿足(h1-h2)/h1<0.3的膜,從而獲得像素;感光性組合物包含1分子內具有含以下述式1表示的基團或以下述式2表示的基團的側鏈和含乙烯性雙鍵的側鏈的聚合物(A)的感光性組合物;-CFXRf(1)式1中,X表示氫原子、氟原子或三氟甲基,Rf表示可具有醚性氧原子的碳數20以下且氫原子中的至少1個被氟原子取代了的烷基或者氟原子;-(SiR1R2O)n-SiR1R2R3(2)式2中,R1、R2獨立地表示氫原子、烷基、環烷基或芳基,R3表示氫原子或碳數1~10的有機基團,n表示1~200的整數。2.如權利要求l所述的制造方法,其特征在于,所述注入油墨的工序[21]通過噴墨法、噴涂法或絲網印刷法進行。3.如權利要求1或2所述的制造方法,其特征在于,在所述后曝光工序[15]之后,且在所述向像素點內注入油墨的工序[21]之前,具有對間隔壁進行加熱處理的后烘烤工序[16]。4.如權利要求13中的任一項所述的制造方法,其特征在于,在所述對油墨進行干燥的工序[22]之后,具備對油墨層進行加熱處理的工序[23]。5.如權利要求14中的任一項所述的制造方法,其特征在于,所述后曝光工序[15]中,使用超高壓汞燈或高壓汞燈進行曝光。6.如權利要求14中的任一項所述的制造方法,其特征在于,所述后曝光工序[15]中,使用低壓汞燈以500mJ/cm2以下的曝光量進行曝光。7.—種彩色濾光片的制造方法,其特征在于,通過權利要求16中的任一項所述的制造方法在基板上形成間隔壁和像素。8.—種有機EL元件的制造方法,其特征在于,通過權利要求16中的任一項所述的制造方法在基板上形成間隔壁和像素。全文摘要本發明提供可獲得拒液性良好的間隔壁和具有膜厚均勻性良好的油墨層的像素的形成有間隔壁和像素的基板的制造方法。所述形成有間隔壁和像素的基板的制造方法的特征在于,經過將包含1分子內具有含含氟原子的基團或含硅原子的基團的側鏈和含乙烯性雙鍵的側鏈的聚合物(A)的感光性組合物涂布于基板的工序[11]、對感光性組合物的涂膜進行干燥的工序[12]、曝光工序[13]、顯影工序[14]、后曝光工序[15]在基板上形成間隔壁,經過向作為由所述間隔壁分隔而成的區域的像素點內注入油墨的工序[21]、對油墨的涂膜進行干燥的工序[22]形成將一個像素點內的油墨層的膜厚的最大值設為h1、最小值設為h2時滿足(h1-h2)/h1<0.3的膜,從而獲得像素。文檔編號H05B33/22GK101680983SQ200880018059公開日2010年3月24日申請日期2008年5月29日優先權日2007年5月30日發明者石關健二,高橋秀幸申請人:旭硝子株式會社
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