專利名稱：載物臺裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及構成為能夠更穩定且精密地進行θ工作臺的轉動動作的載物臺裝置。
背景技術：
例如，在載物臺裝置中，具有沿Y方向移動的Y載物臺和沿X方向移動的X載物臺，沿著固定在平臺上的一對Y方向導軌在移動方向上導引Y載物臺，沿著裝載在Y載物臺上的X方向導軌在移動方向上導引X載物臺(例如參照特許文獻1)。
此外，在用于半導體晶片的移動的載物臺裝置中，設在Y載物臺的兩端上的滑塊由直線電動機向Y方向被并行驅動，并且在X載物臺上沿θz方向可轉動地支撐有載置晶片的θ工作臺。
在這種臺裝置中，構成為，如果輸送作為對象物的晶片而將其保持在θ工作臺上，則為了將晶片的位置高精度地定位，進行使θ工作臺向繞Z軸的θz方向轉動動作而調節晶片的位置的定位控制。
特許文獻1特開2004-317485號公報在上述以往的載物臺裝置中，在可轉動地支撐θ工作臺的支撐部中，由于都由X工作臺承受θ工作臺的負荷，所以在因導軌的變形而Y載物臺旋轉的情況下，會通過摩擦力使θ工作臺也旋轉，有難以穩定且精密地控制θ工作臺的轉動位置的問題。
發明內容
所以，本發明的目的是提供一種解決上述以往的課題的載物臺裝置。
本發明的一技術方案的載物臺裝置，具有在平臺上移動的載物臺、和可與該載物臺一起移動且可在該載物臺上轉動的θ工作臺，其特征在于，包括樞軸，在上述載物臺與上述θ工作臺之間垂直地立起；軸承，軸支撐上述樞軸與上述θ工作臺之間、或者上述載物臺與上述樞軸之間，以使上述θ工作臺可相對于上述載物臺轉動；以及θ直線電動機，從下面側旋轉驅動上述θ工作臺。
本發明的另一技術方案的載物臺裝置，具有在平臺上移動的載物臺、和可與該載物臺一起移動且可在該載物臺上轉動的θ工作臺，其特征在于，包括樞軸，從上述載物臺的上面垂直地立起；軸承，軸支撐上述樞軸與上述θ工作臺之間；以及θ直線電動機，從下面側相對于上述載物臺旋轉驅動上述θ工作臺。
此外，也可以還具備在上述θ工作臺與上述平臺之間或者在上述θ工作臺與上述載物臺之間支撐上述θ工作臺的支撐機構。
此外，上述支撐機構也可以具有多個支柱，從上述θ工作臺的下面垂直地延伸；以及多個空氣墊，被配設在上述多個支柱的各自的下端上，在上述平臺上或上述載物臺上靜壓浮起。
此外，上述支撐機構也可以具有多個支柱，從上述平臺或上述載物臺向垂直上方延伸；以及多個空氣墊，被配設在上述支柱的上端，使上述θ工作臺靜壓浮起。
此外，上述軸承也可以由交叉滾子軸承構成。
此外，也可以是，上述θ直線電動機的定子被配設在上述載物臺上，上述θ直線電動機的可動元件被配設在上述θ工作臺的下面。
此外，也可以是，上述載物臺是在上述平臺上可使該載物臺的上面沿相互正交的兩軸方向平行移動的XY載物臺，上述XY載物臺具有Y載物臺，沿Y方向移動；以及X載物臺，搭載在上述Y載物臺上，沿X方向移動，上述θ方向直線電動機的定子被搭載在上述X載物臺之上。
發明的效果根據本發明，能夠通過軸承使θ工作臺以低負荷轉動，并且θ直線電動機能夠非接觸地從下面側驅動θ工作臺，所以可起到能夠將載物臺的誤差給θ工作臺帶來的影響抑制在最小限度的特有的效果。
圖1是表示實施方式1的載物臺裝置的立體圖。
圖2是表示實施方式1的載物臺裝置的主視圖。
圖3是表示實施方式1的載物臺裝置的俯視圖。
圖4是表示從側方觀察實施方式1的載物臺裝置的載物臺及θ工作臺的側截面的圖。
圖5是表示實施方式2的載物臺裝置的主視圖。
圖6是表示實施方式2的載物臺裝置的側截面的圖。
圖7是表示實施方式2的變形例的載物臺裝置的主視圖。
圖8是表示實施方式3的載物臺裝置的主視圖。
圖9是從側方觀察實施方式3的載物臺裝置的側剖視圖。
具體實施例方式
下面，對適用了本發明的載物臺裝置的實施方式進行說明。
實施方式1圖1是表示實施方式1的載物臺裝置的立體圖。圖2是表示實施方式1的載物臺裝置的主視圖。圖3是表示實施方式1的載物臺裝置的俯視圖。
如圖1至圖3所示，載物臺裝置10A例如組裝在半導體晶片的制造工序中所使用的曝光裝置中，具有平臺20、在平臺20的平面上移動的載物臺30、裝載在載物臺30上并載置工件(未圖示)的θ工作臺40、和使載物臺30沿Y方向移動的一對Y直線電動機50。
載物臺30具有沿著突出到平臺20的平面上、在移動方向(Y方向)上延伸的一對Y方向導軌28平行移動的一對滑塊32、和通過空氣壓在平臺20的平面上靜壓浮起而移動的多個空氣墊(air pad)(也稱作“空氣軸承”)34。另外，滑塊32形成為倒U字狀，以使其與Y方向導軌28的左右側面及上面對置，在各對置面上設有通過空氣壓而成為非接觸的空氣墊(未圖示)。因此，滑塊32相對于Y方向導軌28能夠通過空氣壓靜壓浮起而非接觸地在Y方向上移動。
載物臺30具有沿Y方向移動的Y載物臺36、和沿與Y方向正交的X方向上移動的X載物臺38。Y載物臺36橫架在一對Y方向導軌28間，形成為在其兩端上結合有滑塊32的H字狀。此外，X載物臺38設在滑塊32間，在下面上設有多個空氣墊34。并且，X載物臺38設計為，與上述Y載物臺36一起沿Y方向移動，并且沿著X方向移動。
θ工作臺40如果從上方觀察則形成為四邊形狀，其上面42為工件載置面(在半導體用的曝光裝置的情況下為晶片載置面)。此外，在上面42上，設有將來自檢測θ工作臺40的Y方向位置的激光干涉計(未圖示)的激光反射的反射鏡44。
一對Y直線電動機50排列設置在平臺20的左右外側，由在Y方向上延伸形成的磁軛(定子)52、和從滑塊32的外側面向X方向延伸的線圈單元(可動元件)54構成。磁軛52如果從正面觀察則形成為コ字狀，在內壁的上下面上排列設置有多個永久磁鐵。此外，磁軛52被支撐部件56支撐在滑塊32移動的高度位置。
并且，線圈單元54在Y方向上連結有多個線圈，從側方插入到磁軛52的磁鐵間。因此，線圈單元54如果對線圈通電則形成對永久磁鐵的磁束，能夠得到對永久磁鐵的Y方向的推力。此外，線圈單元54結合在滑塊32的側面上。為此，線圈單元54得到的Y方向推力被施加給滑塊32，驅動Y載物臺36。
進而，在載物臺裝置10A中，是具備從θ工作臺40的下面垂直地(即從θ工作臺40的下面垂直朝下)延伸的4根支柱60、和設在各支柱60的下端上、通過空氣壓而在平臺20的平面上靜壓浮起并移動的多個空氣墊(也稱作“空氣軸承”)70的結構。為此，支柱60及空氣墊70能夠一邊直接支撐θ工作臺40一邊在平臺20上移動。由此，θ工作臺40并不限于具有比X載物臺38大的面積，而能夠通過配置在比X載物臺38的輪廓靠外側的4根支柱60及4個空氣墊70由空氣壓而在平臺20的上面靜壓浮起并移動，并且能夠在維持著上面42的平面精度(水平精度)的狀態下與載物臺30一起移動。
此外，θ工作臺40由于受4根支柱60及4個空氣墊70支撐4角，所以能夠防止轉動時以樞軸80為支點擺動，能夠維持上面42的水平精度。
此外，載物臺30受配置在X載物臺38的下面上的4個空氣墊34支撐，以使其在空氣壓的作用下在平臺20的各上面上靜壓浮起并移動。為此，X載物臺38與θ工作臺40能夠相互不干涉地移動，θ工作臺40能夠在維持著上面42的平面精度的狀態下與X載物臺38一起一體地移動。進而，空氣墊34、70由于在空氣壓的作用下相對于平臺20的平面靜壓浮起，所以能夠非接觸地移動，使X載物臺38及θ工作臺40移動時的摩擦變得很小，相應地移動時的推力也較小就夠了。
圖4是表示載物臺30及θ工作臺40的側截面的圖。如圖4所示，從X載物臺38的上面垂直立起有樞軸80。該樞軸80通過用未圖示的螺釘螺合緊固在X載物臺38上而固定。
在該樞軸80的上端安裝有軸承82，通過該軸承82軸支撐θ工作臺40和樞軸80，使θ工作臺40能夠沿θz方向轉動。另外，θ工作臺40能夠轉動的角度為例如1/3600度。
該軸承82設置為使其外輪與設在θ工作臺40的下面中央的凹部40a嵌合，內輪與樞軸80的上端外周嵌合。
此外，由于軸承82例如由在90°的V槽的滾動面上經由擋板(retainer)交替地正交排列有圓筒滾動襯墊的交叉滾子軸承構成，所以是即使受到徑向負荷(半徑方向負荷)、軸向負荷(軸方向負荷)、轉矩負荷(俯仰、滾動、偏轉的負荷)等的所有方向的負荷也能夠進行平滑的旋轉的結構。
因而，θ工作臺40受由樞軸80和軸承82構成的樞軸軸承構造以穩定的狀態支撐。此外，軸承82設在θ工作臺40的下面中心，樞軸80的軸心與θ工作臺40的旋轉中心一致。并且，驅動載物臺30的Y直線電動機50及后述的X直線電動機的推力也經由樞軸80及軸承82傳遞給θ工作臺40。
另外，以上對樞軸80的上端與θ工作臺40被軸承82軸支撐的形態進行了說明，但軸承82的安裝部位并不限于這樣的部位。例如，也可以將樞軸80通過螺合緊固等固接在θ工作臺40的下面中心上，并且將軸承82設在X載物臺38的上面側，通過用軸承82軸支撐樞軸80的下端與X載物臺38，能夠使θ工作臺40相對于X載物臺38轉動。
進而，在X載物臺38與θ工作臺40之間，設有使θ工作臺40向θz方向轉動的一對θ直線電動機84。該θ直線電動機84配置在樞軸80的附近，由固定在X載物臺38的上面的磁軛(定子)86、和固定在θ工作臺40的下面的線圈單元(可動元件)88構成。磁軛86的截面形狀形成為倒U字狀，在其對置的內面安裝有永久磁鐵。并且線圈單元88非接觸地插入在磁軛86的永久磁鐵間。
此外，一對θ直線電動機84平行地設置，并且設置在從上方觀察為以樞軸80為中心對稱的位置上。為此，一對θ直線電動機84通過對線圈單元88通電而產生以樞軸80為中心的力偶，使θ工作臺40從下面側向θz方向轉動。
此時，θ工作臺40由于在來自配置在樞軸80附近的一對θ直線電動機84的推力的作用下繞樞軸80(θz方向)轉動，所以能夠通過軸承82以低摩擦、低振動而轉動。此外，由于θ直線電動機84是非接觸構造的驅動機構，所以在使θ工作臺40轉動時能夠不受傳遞路徑的驅動力的損失及變動的影響而使θ工作臺40轉動，能夠穩定且精密地控制θ工作臺40的轉動動作。
因而，在載物臺裝置10A中，能夠通過軸承82以低負荷使θ工作臺40轉動，并且θ直線電動機84能夠非接觸地從下面側驅動θ工作臺40，所以能夠將載物臺30的誤差對θ工作臺40的影響抑制在最小限度。
進而，由于θ工作臺40受設在上述支柱60的下端的空氣墊70支撐，以使其在空氣壓的作用下在平臺20上靜壓浮起而移動，所以如果被施加來自一對θ直線電動機84的旋轉力，則能夠以只有軸承82的旋轉阻力為負荷的低摩擦狀態向θz方向轉動。另外，θ直線電動機84構成為，由于對應于θ工作臺40的轉動角度而使磁軛86與線圈單元88的θz方向的相對位置變化，所以在磁軛86與線圈單元88之間形成對應于最大轉動角度的間隙，以使磁軛86與線圈單元88不會干涉。
在X載物臺38的內部中，形成有插通Y載物臺36的空間120，在該空間120中設有向X方向驅動X載物臺38的X直線電動機124。Y載物臺36在兩端上設有滑塊32，被沿著導引部28導引而移動，所以與X載物臺38的內壁非接觸地移動。
此外，Y載物臺36具有支撐對置于X載物臺38的內壁的空氣墊122的垂直部36a、和安裝X直線電動機124的平面部36b。空氣墊122構成為，由于經由空氣壓力對置于空間120的Y方向的內壁，所以在使X載物臺38向X方向移動時，空間120的內壁能夠與空氣墊122非接觸地移動。此外，在使Y載物臺36向Y方向移動時，經由來自空氣墊122的空氣壓將空間120的Y方向內壁向移動方向推壓而使X載物臺38向Y方向移動。
X直線電動機124由在X方向上延伸形成的磁軛(定子)126和線圈單元(可動元件)128構成。磁軛126從側面觀察形成為コ字狀，在內壁的上下面上排列設置有多個永久磁鐵。此外，磁軛126固定在Y載物臺36的平面部36b上，線圈單元128支撐在固定于X載物臺38的內壁上的托架130上。
并且，線圈單元128在X方向上配設有多個線圈，從前方插入到磁軛126的磁鐵間。因此，線圈單元128如果對線圈通電則形成磁束，能夠得到對永久磁鐵的X方向的推力。此外，由于線圈單元128經由托架130與X載物臺38結合，所以線圈單元128得到的X方向推力被施加給X載物臺38。
因而，X載物臺38被來自X直線電動機124的推力向X方向驅動。并且，裝載在X載物臺38上的θ工作臺40由于經由樞軸80及軸承82被傳遞了X直線電動機124的X方向推力，所以與X載物臺38一起向X方向移動。
此外，在支撐θ工作臺40的支柱60上，設有能夠進行高度調節的調平機構62。該調平機構62分別設在4根支柱60上，獨立地進行高度調節，以維持θ工作臺40的水平精度。
此外，在X載物臺38向X方向及Y方向移動時，經由樞軸80及軸承82支撐在X載物臺38上的θ工作臺40也向X方向及Y方向移動，并且設在支柱60的下端的空氣墊70在空氣壓的作用下在平臺20上靜壓浮起并移動，來維持θ工作臺40的水平精度。
因而，在載物臺裝置10A中，由于使θ工作臺40以樞軸80的軸心為中心向θz方向轉動，所以即使在X載物臺38的X方向及Y方向的移動位置中發生了誤差的情況下，也能夠通過θ工作臺40的轉動位置防止誤差增大。因此，即使在將載物臺30向Y方向移動后使θ工作臺40向θz方向轉動的情況下，設在θ工作臺40的上面42上的反射鏡44也不會從來自激光干涉計的激光的照射位置偏移，能夠通過激光干涉計防止位置檢測精度降低。此外，在載物臺裝置10A中，例如在用于曝光裝置的情況下，能夠防止工件(晶片等)相對于光學系統的位置因θ工作臺40的轉動位置而偏移動。
實施方式2圖5是表示實施方式2的載物臺裝置的主視圖。圖6是表示實施方式2的載物臺裝置的側截面的圖。另外，在圖5及圖6中，對于與實施方式1相同的要素賦予相同的標號而省略其說明。
如圖5及圖6所示，實施方式2的載物臺裝置10B具備從θ工作臺40的下面向垂下方向延伸的4根支柱60、和設在支柱60的下端并通過空氣壓而在X載物臺38上靜壓浮起并移動的多個空氣墊70。為此，支柱60及空氣墊70能夠一邊直接支撐θ工作臺40一邊在X載物臺38上移動。由此，θ工作臺40能夠通過4根支柱60及4個空氣墊70由空氣壓而在X載物臺38的上面靜壓浮起并移動，并且能夠在維持上面42的平面精度(水平精度)的狀態下與載物臺30一起移動。
此外，由于θ工作臺40受4根支柱60及4個空氣墊70支撐4角，所以能夠防止在轉動時以樞軸80為支點擺動，能夠維持上面42的水平精度。
根據本實施方式的載物臺裝置，由于能夠將支柱60的全長(高度方向的長度)縮短，所以能夠提高使X載物臺38移動時的θ工作臺40的穩定性。
圖7是表示本實施方式的變形例的載物臺裝置的主視圖。該變形例的載物臺裝置與圖5所示的載物臺裝置的支柱60和空氣墊70的位置關系上下顛倒。具體而言，4根支柱60固接在X載物臺38上，從該X載物臺38的上面垂直地立起。此外，空氣墊70分別配設在各支柱60的上端，使θ工作臺40靜壓浮起。這樣，即使是將支柱60安裝在X載物臺38側、通過配設在其上端的空氣墊70使θ工作臺40靜壓浮起的結構，也與圖5及圖6所示的載物臺裝置同樣，能夠防止在θ工作臺40轉動時以樞軸80為支點擺動，能夠維持其上面42的水平精度。
實施方式3圖8是表示實施方式3的載物臺裝置的主視圖。圖9是表示實施方式3的載物臺裝置的側截面的圖。另外，在圖8及圖9中，對于與上述實施方式1、2相同的要素賦予相同的標號而省略其說明。
如圖8所示，本實施方式的載物臺裝置10C與上述實施方式1同樣，在從平臺20向左右側方離開的位置上設有一對Y直線電動機50。Y直線電動機50將線圈單元54從側方插入到磁軛52的磁鐵間，該線圈單元54從滑塊32的側面向水平方向延伸而安裝。此外，磁軛52由支撐部件56支撐在對置于滑塊32的側面的高度位置上。
因而，在載物臺裝置10C中，Y直線電動機50的反作用力經由支撐部件56被傳遞給地面。為此，構成為，Y直線電動機50的反作用力不會傳遞給Y載物臺36及X載物臺38，防止了相應的載物臺30的位置控制的誤差，能夠穩定且精密地控制載物臺30的轉動位置。
進而，在載物臺裝置10C中，與上述的實施方式1同樣，是設在各支柱60的下端上的多個空氣墊70在X載物臺38上靜壓浮起并移動的結構。為此，支柱60及空氣墊70通過一邊支撐θ工作臺40一邊在X載物臺38上移動，由此在維持著θ工作臺40的平面精度(水平精度)的狀態下與載物臺30一起移動。
此外，一對θ直線電動機84與上述實施方式1同樣，設在θ工作臺40的下方。并且，構成θ直線電動機84的磁軛86受立起在X載物臺38上的支撐部90支撐。此外，線圈單元88從X載物臺38的下面向下方突出。另外，θ直線電動機84設置為從向后述的滑塊32的側方離開的底面上立起，構成為，使θ直線電動機84不會受使滑塊32移動時的振動的影響。
此外，一對θ直線電動機84平行地設置在從上方觀察以樞軸80為中心對稱的位置上，所以通過對線圈單元88通電而產生以樞軸80為中心的力偶，使θ工作臺40從側面向θz方向轉動。
如圖8所示，在載物臺裝置10C中，與上述實施方式1同樣，是設在支柱60的下端的多個空氣墊70在X載物臺38上靜壓浮起而移動的結構。為此，支柱60及空氣墊70通過一邊直接支撐θ工作臺40一邊在X載物臺38上移動，由此在維持著θ工作臺40的平面精度(水平精度)的狀態下與載物臺30一起移動。
如圖8所示，在θ工作臺40與X載物臺38之間設有高度調節機構200。該高度調節機構200具備具有樞軸80的支撐框架210、和調節支撐框架210的高度位置的一對調平單元220。
支撐框架210在上面中央一體地立起有樞軸80，并且在上面4角上設有與θ工作臺40的下面對置的空氣墊212。因此，θ工作臺40如果被施加來自一對θ直線電動機74的旋轉力(力偶)，則能夠以樞軸80的軸心為旋轉中心向θz方向穩定地轉動。
如上所述，θ直線電動機84由于垂直地設置，所以設置為，線圈單元88能夠相對于磁軛86向Y方向及上方(Z方向)相對移動。為此，設置為，在通過高度調節機構200使θ工作臺40升降時，θ直線電動機84的磁軛86與線圈單元88不會干涉，θ直線電動機84不會妨礙θ工作臺40的升降動作。
如圖9所示，調平單元220由支撐在空氣墊70上的下部塊230、在支撐框架210的下面所吊下的上部塊240、和設在下部塊230和上部塊240之間的驅動器250構成。下部塊230以向Y方向延伸的朝向設置，在下面上配置有在X載物臺38上靜壓浮起并移動的多個空氣墊70。
進而，在下部塊230的上部設有一對傾斜部232、和凹部234。一對傾斜部232分別具有相對于水平面相同方向且相同角度的傾斜面，在圖9中在左側較低、右側較高那樣的傾斜方向上形成。
此外，在上部塊240的上部，設有相對于支撐框架210的下面以低摩擦滑動的滑動部件260。該滑動部件260只要是高剛性、耐磨損性高、低摩擦的部件就可以，例如由不銹鋼或對表面實施了特氟綸加工的硬度較高的金屬構成。進而，在上部塊240的下部，設有一對傾斜部242和凹部244。一對傾斜部242分別具有相對于水平面相同方向且相同角度的傾斜面，并且向與上述傾斜部232平行的傾斜方向傾斜。
此外，在上部塊240的各傾斜部242的內部，形成有沿上下方向(Z方向)貫通的貫通孔246，在該各貫通孔246的內部分別插通有從傾斜部232向上方立起的支柱270。并且，支柱270的橫截面形狀形成為長方形(相對于圖中Z軸方向的截面形狀是Y軸方向上比X軸方向長的長方形)，并且其上端與支撐框架210的下面對置但離開。此外，各貫通孔246的開口形狀形成為在X軸方向上較短、在Y軸方向上較長的長方形狀，插通在該貫通孔246中的支柱270可相對于貫通孔246僅在Y軸方向上能夠相對移動地構成。這里，支柱270連接在下部塊230上，另一方面，貫通孔246形成在上部塊240上。上部塊240由于相對于下部塊230能夠沿Y軸方向移動，所以實際上成為貫通孔246相對于支柱270沿Y軸方向移動。對于該移動原理在后面敘述。
配置在凹部234與凹部244之間的驅動器250由例如通過用電動機驅動滾珠螺桿機構而產生Y方向的驅動力地構成的驅動機構等構成，左端支板252結合在上部塊240上，右端支板254結合在下部塊230上。
進而，在傾斜部232與傾斜部242之間，夾裝有減輕滑動阻力的低摩擦部件280。該低摩擦部件280也可以由與擺動部件260相同的材質構成，只要是高剛性、耐磨損性高、低摩擦的部件就可以。例如由不銹鋼或對表面實施了特氟綸加工的硬度較高的金屬構成。
例如，在驅動器250的驅動力將左端支板252與右端支板254向相互接近的方向作用的情況下，上部塊240的傾斜部242相對于下部塊230的傾斜部232向右方移動。因此，上部塊240對應于傾斜部232、242的傾斜角度而相對于下部塊230上升，使支撐框架210及θ工作臺40上升。
此外，在驅動器250的驅動力將左端支板252與右端支板254向相互離開的方向作用的情況下，上部塊240的傾斜部242相對于下部塊230的傾斜部232向左方移動。因此，上部塊240對應于傾斜部232、242的傾斜角度而相對于下部塊230下降，使支撐框架210及θ工作臺40下降。
因而，在載物臺裝置10C中，能夠通過來自一對θ直線電動機84的旋轉力(力偶)使θ工作臺40向θz方向轉動，并且能夠通過高度調節機構200的驅動器250的驅動方向使θ工作臺40上升或下降，來調節高度位置。
在上述實施方式中，舉出通過用軸承82支撐樞軸80的上端外周來可轉動地支撐θ工作臺40的結構為例進行了說明，但并不限于此，例如也可以將樞軸80的上端的形狀形成為圓錐形狀或半球形狀、并設置對應于這些前端形狀的軸承。
以上，對本發明的例示的實施方式的載物臺裝置進行了說明，但本發明并不限于具體公開的實施方式，可以在不脫離權利要求的范圍內進行各種變形及變更。
工業實用性本發明的載物臺裝置能夠在液晶面板及半導體元件等的制造工序中使用。
權利要求
1.一種載物臺裝置，具有在平臺上移動的載物臺、和可與該載物臺一起移動且可在該載物臺上轉動的θ工作臺，其特征在于，包括樞軸，在上述載物臺與上述θ工作臺之間垂直地立起；軸承，軸支撐上述樞軸與上述θ工作臺之間、或者上述載物臺與上述樞軸之間，以使上述θ工作臺可相對于上述載物臺轉動；以及θ直線電動機，從下面側旋轉驅動上述θ工作臺。
2.一種載物臺裝置，具有在平臺上移動的載物臺、和可與該載物臺一起移動且可在該載物臺上轉動的θ工作臺，其特征在于，包括樞軸，從上述載物臺的上面垂直地立起；軸承，軸支撐上述樞軸與上述θ工作臺之間；以及θ直線電動機，從下面側相對于上述載物臺旋轉驅動上述θ工作臺。
3.如權利要求1或2所述的載物臺裝置，其特征在于，還具備在上述θ工作臺與上述平臺之間或者在上述θ工作臺與上述載物臺之間支撐上述θ工作臺的支撐機構。
4.如權利要求3所述的載物臺裝置，其特征在于，上述支撐機構具有多個支柱，從上述θ工作臺的下面垂直地延伸；以及多個空氣墊，被配設在上述多個支柱的各自的下端上，在上述平臺上或上述載物臺上靜壓浮起。
5.如權利要求3所述的載物臺裝置，其特征在于，上述支撐機構具有多個支柱，從上述平臺或上述載物臺向垂直上方延伸；以及多個空氣墊，被配設在上述支柱的上端，使上述θ工作臺靜壓浮起。
6.如權利要求1或2所述的載物臺裝置，其特征在于，上述軸承由交叉滾子軸承構成。
7.如權利要求1或2所述的載物臺裝置，其特征在于，上述θ直線電動機的定子被配設在上述載物臺上，上述θ直線電動機的可動元件被配設在上述θ工作臺的下面。
8.如權利要求7所述的載物臺裝置，其特征在于，上述載物臺是在上述平臺上可使該載物臺的上面沿相互正交的兩軸方向平行移動的XY載物臺，上述XY載物臺具有Y載物臺，沿Y方向移動；以及X載物臺，搭載在上述Y載物臺上，沿X方向移動，上述θ方向直線電動機的定子被搭載在上述X載物臺之上。
全文摘要
本發明的目的是能夠穩定且精密地控制θ工作臺的轉動動作。載物臺裝置(10A)具有在平臺(20)上移動的載物臺(30)、和載置在載物臺(30)上的θ工作臺(40)。載物臺(30)具有沿Y方向移動的Y載物臺(36)、和沿與Y方向正交的X方向移動的X載物臺(38)。從X載物臺(38)的上面垂直立起有樞軸(80)。該樞軸(80)由未圖示的螺釘螺合緊固在X載物臺(38)上。在該樞軸(80)的上端安裝有軸承(82)，通過該軸承(82)軸支撐θ工作臺(40)和樞軸(80)，使θ工作臺(40)能夠向θz方向轉動。此外，具備從θ工作臺(40)的下面向垂下方向延伸的4根支柱(60)、和設在各支柱(60)的下端的空氣墊(70)。
文檔編號G12B5/00GK101030551SQ200710084468
公開日2007年9月5日 申請日期2007年3月2日 優先權日2006年3月2日
發明者南康夫, 日置一彌 申請人:住友重機械工業株式會社