專利名稱：混合式等離子－冷噴涂方法和設備的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種用于使用超聲波氣流產生涂層的方法和設備。更特別是，本發明涉及一種使用等離子和冷噴涂技術的混合方法施加涂層的方法和設備。
背景技術：
等離子熱噴涂工藝已經長時間用于涂層工業中。等離子熱噴涂工藝基本上涉及將熔融或熱軟化材料噴涂在基材上以便形成涂層。通常是粉末形式的原材料噴射到高溫等離子火焰中，其中它快速加熱并且加速到高速。等離子槍容易產生超過6000度C的氣體/等離子溫度。電能轉換成熱能相當有效，其中由于氣體的溫度和潛伏期(latency)，作為廢熱出現的幾乎所有的損失從噴嘴和電極區段去除。
雖然冷噴涂的概念首先在20世紀初獲得專利，與等離子技術相比，冷噴涂技術的商業應用只是近幾年才用于工業。冷噴涂具有以最小熱輸出來產生冷涂層的優點，可以造成涂層材料接近原始材料本身鍛壓性能。冷噴涂的關鍵特性是存在于涂層內的所得壓縮應力。由于原材料的熔化或局部熔化而形成涂層的典型熱噴涂工藝在涂層冷卻和收縮時造成拉伸應力。這些拉伸應力通常造成涂層裂紋，特別是在形成厚層或將具有不類似材料的不同層相組合時。
等離子槍的最近進展使得可以實現混合工藝。例如，級聯(cascaded)的等離子槍使得等離子弧以及總體孔口長度實際延長，從而增加了槍操作電壓以及熱量傳遞到氣體的效率。這還可以將等離子的產生與氣體動力學分離。同樣，在等離子槍的噴嘴區段內結合有臺階或不連續部分以便在噴嘴底部形成電弧，使得氣體動力學與電弧本身分離。那么可以采用作為與噴嘴分離的熱源的形成來作為氣體加速的方法。另一進展是延長噴嘴的結構，使得匯聚/發散區段結合到噴嘴中，從而在氣體通過等離子電弧加熱之后，將熱氣體/等離子加熱到超聲波的速度。
等離子槍內的超聲波速度在多種現有技術結構中得以實現。但是在標準操作環境中，這些結構中的速度局限于大約馬赫1。使用需要高成本工藝變型的結構實現了更大的速度，例如在真空或使用大量氣體(例如氦)以實現更大速度的操作中。在這些現有技術情況下，氣體/顆粒溫度過高，并且通常超過材料熔化溫度。另外，采用等離子工藝以及甚至高速氧燃料(HVOF)和冷噴涂工藝，操作效率和所需硬件壽命隨著氣體速度增加而快速降低。這是由于使用傳統等離子槍與氣體加熱相結合來加速氣體的結構性質。同樣，在傳統等離子槍中，在氣體流動和壓力增加時，電弧穩定性降低，并且電弧變得更加受到限制。
因此，考慮到所述因素，在本領域中還需要一種涂層沉積工藝，該工藝實現了冷噴涂涂層的有利壓縮應力，同時與傳統冷噴涂或等離子技術相比，提供更寬操作范圍的顆粒速度和溫度。
發明內容
本發明提供一種形成致密涂層的方法和設備，該涂層具有類似于冷噴涂工藝產生的涂層的所需應力狀態，但是其工藝效率更高，并且氣體消耗更低。本發明的工藝將加熱氣體的等離子工藝以及加速氣體的冷噴涂工藝的特征相結合。該沉積方法不熔化流出流體中的原材料顆粒，而是使用匯聚/發散噴嘴來將加熱氣體加速到超聲波速度。通過噴嘴的發散區段到超聲波氣流中來實現材料供應噴射。因此，本發明提供一種更加有效的機構，從而形成具有冷噴涂涂層的所需特性的涂層，但是可以具有傳統等離子或冷噴涂沉積技術所得不到的更寬的操作范圍的顆粒速度和溫度。
在本發明的一個方面中，提供一種涂層方法，其中該涂層方法使用混合工藝，該工藝將與等離子熱噴涂工藝相關的熱能與冷噴涂工藝的動能相結合。在該方法的一個步驟中，工藝氣體在對于施加涂層來說足以離子化和加速的流量下引入等離子熱噴射槍。接著，一個或多個電弧用來離子化工藝氣體，因此將氣體加熱到超過2000度C的溫度，其中在一個或多個陰極和一個或多個陽極之間出現電弧，其具有一個不連續部以便依附電弧。在另一步驟中，通過電弧依附下游的噴嘴，加熱氣體加速到超聲波速度，噴嘴具有匯聚/發散區段，喉部位于兩者之間。該方法的最終步驟包括將原材料噴射到加速噴嘴下游的所得高速熱氣體流中。原材料可噴射到噴嘴孔口內或噴嘴出口處。
在本發明的另一方面中，提供一種施加涂層的設備，該設備包括產生電弧的一個或多個陰極，其中每個陰極具有其本身的調節電流源。陰極位于周圍腔室的中央，適用于離子化的氣體引入腔室中，使得氣體穿過陰極和所得電弧。該設備包括電中性但可以在點火過程中支持電弧部分通過以便可以產生較長電弧并且增加陰極和陽極之間的電壓電位的孔口區段。該設備還包括陽極區段，該陽極區段可以作為噴嘴一部分或者作為分離區段，分離區段包括用來座置電弧的另一端并且穩定電弧長度而與氣體動力學無關的臺階或邊緣。噴嘴也包括在該設備內。噴嘴具有其中帶有喉部的匯聚/發散區段。匯聚/發散區段的幾何形狀可以產生至少馬赫1.2的加熱氣體速度。最后，該設備包括位于匯聚/發散區段的下游的噴嘴孔口內的一個或多個原材料噴射器，可以在噴嘴出口處，或者穿過噴嘴出口。
本發明的另外的方面和優點將在下面的描述中提出，并且從說明中部分得以明白，或者通過本發明的實施來了解。本發明的方面和優點可通過此后特別提出的手段和組合來實現和獲得。
用來提供本發明進一步理解并且結合于此并構成此說明書一部分的
本發明的實施例，并且和說明書一起解釋本發明的原理。
附圖中圖1是按照本發明調整的傳統等離子噴射槍的示意圖；圖2是按照本發明的三重電弧級聯等離子槍的截面示意圖；圖3是按照本發明的實施例使用混合工藝施加涂層的方法的流程圖；圖4是等離子羽流中沖擊鉆和沒有來自于噴射顆粒的輝光的碳化鎢注釋法的材料噴射的視圖；圖5是表示高程度碳化物的涂層結構的微觀視圖，說明輸入該過程中的熱量很低。
具體實施例方式
現在詳細參考本發明的優選實施例，其實例結合附圖進行描述。
圖1表示按照本發明的混合槍的一個實施例。雖然圖1的混合槍針對現有技術的等離子槍的改造進行描述，所描述的特征還可用于原始工廠設備。在附圖中，電極19通常保持等離子槍以及位于槍后部的氣體噴射入口20。噴嘴30拉長以便包括臺階40和匯聚/發散區段50。匯聚/發散超聲波噴嘴區段50還可與噴嘴30的陽極區段80電隔離，以有助于防止電弧進入超聲波噴嘴區段50。對于硬件壽命來說，需要噴嘴孔口壁的適當的材料構造經得起熱量和摩擦。例如，例如鑭化和釷化鎢的材料適用于這種應用。另外，本發明的槍操作功率將低于其氣體溫度通常低于9000度K的典型等離子槍的操作功率。粉末噴射可以在孔口內部，如粉末噴射孔口60內所示，或者穿過噴嘴出口，如粉末噴射孔口70內所示。
在某些實施例中，在對應于噴嘴喉部區域處，除了氣流根據需要增加以便形成超聲波氣流之外，混合槍可以等離子槍的典型方式操作。由于等離子的高溫(相對于冷噴涂工藝)，所需實際氣體量與典型冷噴射槍相比是其一小部分，而顆粒速度顯著高于傳統等離子槍所能實現的速度。對于壓縮流體使用典型等熵流動，在氣體速度直接與氣體溫度的平方根成正比時，與通過關鍵孔口的實際壓力和流量相比，可以看出高氣體溫度更加有助于速度。
將熱能傳遞到顆粒受到限制，這是由于以下原因(a)在沖擊基材之前熱氣體/等離子中的非常短的時間周期(潛伏期)，(b)在原材料噴射之前熱氣體在噴嘴發散部分中膨脹時出現的溫度降，以及(c)使用大于15μm的顆粒尺寸。在某些實施例中，應該使用大于大約15μm顆粒尺寸，并且在其它實施例中使用大約30μm-75μm顆粒范圍。
將顆粒溫度控制在材料本身熔點之下可受到所使用噴射距離、噴嘴的發散部分的長度和膨脹角度、材料噴射的位置以及噴射類型的影響。而顆粒溫度十分關鍵，使用液體懸浮物(其中熱能的一部分在將液體沸騰時消耗)可以用來通過進一步限制所得顆粒溫度，從而增進該過程。液體基原材料可以是帶有懸浮顆粒的液體、液體前體、含有分解鹽的液體溶液和類似形式。
雖然傳統等離子槍的變型將形成可接受的結果，通過按照本發明的實施例的混合工藝來優化等離子槍可以獲得更好的結果。原因在于限制典型等離子槍使其不能對于高速來說實現理想操作的局限性，即低溫(相對于等離子噴射來說)。這種局限性來自于在等離子槍的孔口內形成并保持穩定電弧使得電流密度在高壓下足夠低并且電弧長度恒定的需要。
圖2表示按照本發明適合使用的三重電弧級聯等離子槍的一個實施例的截面圖。后部槍腔室91包括三個陰極和氣體噴射環(出于清楚原因沒有示出)。第一中性極部段92具有適當的弧形幾何形狀，以便形成短的初始電弧長度，而其它的中性極部段93用來在氣體流動增加時提供較長的電弧路徑。陽極部段99用作噴嘴，并且具有坐置電弧的臺階94以及加速氣體的超聲波匯聚/發散噴嘴區段95。穿過噴嘴區段95的出口孔口的是粉末噴射器97。所示的噴嘴區段95用于低馬赫數，并且根據總氣體流量和槍功率，可以形成400-1000米/秒的氣體速度。具有較高馬赫數以及較高氣體速度的噴嘴也可以適用于此結構。
級聯等離子槍內電弧的延伸長度以及使用三個不同的電弧對于整個氣體加熱來說造成更高的操作電壓以及更加均勻的能量密度。較高的電壓允許較低的電流密度，延長硬件壽命，彌補高壓狀態中出現的電弧收縮。在噴嘴喉部之前以軸向噴射的形式噴射粉末形式的原材料也是可以的。但是，此配置提供高顆粒溫度和局部熔化，這將造成與來自于高速氧燃料(HVOF)工藝的涂層更類似的涂層，而不是與冷噴涂類似。軸向噴射還可穿過喉部完成，其結果是所希望的。
本發明的另外的實施例和/或特征可包括(a)使用與這里特別披露的數量不同的數量的電弧；(b)結合有電弧依附臺階的陽極區段與噴嘴區段隔離，或者甚至結合有三個陽極周向部段，一個部段對應于每個電弧；(c)將熱氣體/等離子進一步成形為細長羽流，類似于矩形或帶細槽的冷噴涂噴嘴；(d)噴嘴幾何形狀、噴嘴長度和氣流的變型，以便增加或減小氣體的馬赫數和所得顆粒速度；和/或(e)將后部氣體腔室的直徑增加到電弧依附到噴嘴的點，并且改變陰極的放置，從而減小電弧區域內的氣體速度，改變熱能與氣體的傳遞。
本發明的其它特征可包括(f)在從大氣壓到大于50mBar的環境壓力狀態下進行本發明的涂層工藝；(g)在惰性氣體環件下進行本發明的涂層工藝；(h)使用包含氣體/顆粒流的防護氣體以便成形等離子羽流以及到噴嘴的延伸部；(i)使用任何適當的工藝氣體進行離子化，包括一種或多種空氣、氬、氮、氦、氫、氧；(1)使得一個或多個電弧具有足夠長度，以便產生超過40伏DC的電壓電位，并且在某些實施例中超過80伏的電壓；(m)使用具有大約5μm-100μm以上的顆粒尺寸的粉末形式的原材料，優選范圍為30-75μm；和/或(n)使用帶有懸浮顆粒的液體的原材料，顆粒具有大約1μm-100μm以上的顆粒尺寸，優選范圍為5-75μm。
對具有圖2所示的幾何形狀的三重電弧級聯等離子槍進行計算機流體動態(CFD)建模。模型在高達220psi的背壓下操作，其中固定的氣體加熱源提供3000度K的等離子電弧，并且氬作為工藝氣體。指明氣體速度超過2400米/秒(通常對于冷噴涂工藝來說)，而出口溫度接近293度K的環境情況。等熵等式確認該結果。將氣體/等離子溫度進一步增加到6000度K，將背壓增加到300psi，并且使用超過5000米/秒的氬和氦產生氣體的組合。根據大約30％的從氣體傳遞到顆粒的速度百分比，可以實現超過1500米/秒的顆粒速度。典型的高能等離子槍產生超過9000度K的等離子溫度，并且使用高馬赫超聲波噴嘴的轉換將實現并可能超過2000米/秒的顆粒速度。另外，由于更多的能量輸入到該過程中，出口溫度進一步降低到周圍環境之下，對于在低溫下容易延展的例如銅或鋅的材料來說，形成真正的冷噴涂狀態。
使用如上所述的結構特征(例如，級聯等離子槍羽噴嘴區段內的臺階或不連續部分和延長噴嘴相結合)，來操作近年來開發的三重電弧級聯等離子槍。由于等離子槍的操作壓力和電流增加，注意到在噴嘴出口處槍前部出現的實際等離子羽流開始收縮。對于等離子槍來說，這似乎與正常物理原理相沖突，其中在氣體流量和能量輸入(電流)增加時，等離子羽流變大，與能量輸入的增加相一致。在這些高能量參數下施加涂層形成具有壓縮應力的涂層，以較冷涂層來表示。另外，所得基材溫度顯著低于通過等離子噴射涂層所需的溫度。調查分析指出等離子槍實際上在用于例如HVOF以及可能是冷噴涂的工藝的操作環境下操作。
那么存在的可能性是增加等離子槍的操作，使得操作窗口延伸到混合式等離子槍實際上用來產生“冷”涂層的點，與傳統概念不同。因此，混合式等離子槍使用遠遠少于傳統冷噴射裝置的氣體，并且基材前部的弓形激波效應顯著減小，造成較少的熱量傳遞到基材上，以及顆粒較少的偏轉。
這里限定的本發明的實施例使用與等離子熱噴射槍產生類似的等離子電弧來加熱工藝氣體的供應源。工藝氣體可以是任何惰性或非反應氣體，該氣體容易通過電弧離子化。等離子電弧出現在槍的后部分，使得氣體在到達噴嘴之前通過電弧加熱。噴嘴在匯聚/發散區段之后結合有用于依附電弧的不連續部分，將熱氣體/等離子加速到超聲波速度。原材料噴射到下游的等離子/熱氣體流中或者穿過發散噴嘴區段，并且隨后通過氣體加速到超聲波速度。
在本發明的一個實施例中，典型的等離子熱噴射槍可以變型，以便結合如下特征(1)使得槍增強以便應付高背壓，這種高背壓足以支持通過槍內的可以高達100psi的超聲波噴嘴的高氣體速度；(2)噴嘴可以變化以便結合有臺階，從而在噴嘴的匯聚區段的開始處坐置等離子電弧；以及(3)噴嘴長度延長，并且在噴嘴端部處結合匯聚/發散區段。
作為選擇，設備可制造成特別包括如同原始工廠設備那樣的所述特征。
圖3提供使用按照本發明的實施例的混合工藝施加涂層的方法300的流程圖，該工藝將與等離子熱噴射工藝相關的熱能與冷噴射工藝的動能相結合。在步驟S310中，工藝氣體(或多種氣體)在對于施加涂層來說足以離子化和加速的流量下引入熱噴射槍。在步驟S320中，使用一個或多個電弧使得工藝氣體離子化，以便將氣體加熱到超過2000度C的溫度，其中在一個或多個陰極和一個或多個陽極之間出現電弧。在步驟S330中，離子化等離子氣體通過電弧依附下游的噴嘴加速到超聲波速度，噴嘴具有匯聚/發散區段，喉部位于兩者之間。在步驟S340中，原材料噴射到加速噴嘴喉部下游的所得高速熱氣體/等離子流中，可以在噴嘴孔口內部，或者在噴嘴出口處。最后，在步驟S350中，原材料通過高速熱氣體/等離子流加速，以便實現從600-2000米/秒的速度。
試驗結果三重電弧級聯等離子槍進行變型，以便包括帶有位于噴嘴中的臺階的細長噴嘴以及類似于圖2的匯聚分離區段。噴嘴的喉部的直徑為5毫米，而發散直徑是9毫米。等離子槍事先進行變型，以便應付槍內的較高背壓，其中包括氣體噴射方法的變化，以及多余的槍密封件。槍設置在等離子控制器上，該控制器進行變型，以允許高壓典型等離子槍的附加氣體流量和壓力，以及來自于電源的較高電弧電壓。使用徑向布置的三個噴射器穿過噴嘴的出口點進行原材料噴射。
槍開始以純氬操作，并且流體流量接著調節到100NLPM的氬、200NLPM的氦以及10NLPM的氮。電流設置在450安并且電壓為192VDC。槍處測量的背壓是大約80psi。短等離子羽流的觀察指出存在至少4個沖擊鉆400(如圖4所示)。具有5μm-31μm尺寸分布的碳化鎢材料的原材料在75g/min速度下噴射到熱氣體/等離子流中。測量的顆粒速度超過700米/秒，并且顆粒溫度低于設備讀取值，用來測量低至1000度C的顆粒溫度。視覺觀察表示到顆粒的非常少的輝光，相對于典型熱噴涂并且特別是典型等離子噴射工藝來說，表明非常低的溫度。使用該參數噴射一組涂層樣品，并獲得如下結果1.剛好在噴射之后，樣品的溫度遠遠低于典型等離子或甚至HVOF涂層的溫度，其中記錄溫度是150度C。
2.在噴射過程中視覺檢測固定在固體背襯上的薄基材，表示凸出方向上的彎曲跡象，表明涂層中的壓縮應力。
3.進行檢測的樣品具有小于1％的孔隙率，其具有理想的結構和高硬度。
圖5表示具有高程度碳化物的涂層結構的微型視圖，表示輸入到過程中的非常的的熱輸入。涂層是使用所述試驗過程形成的實際碳化鎢涂層。
在較高操作流量和壓力下，通過包括鈦的多種材料可以實現超過900米/秒的顆粒速度。所使用的最大氣體流量在400NLPM之下，遠遠小于冷噴涂方法中使用的典型氣體流量，從而實現了類似的顆粒速度。通過進一步增加氣體流量和功率大小，但是需要對于控制設備(電源和氣體控制)進行進一步改進以滿足更高需要，并且延長級聯區段以增加槍電壓，可以獲得更高的顆粒速度。觀察等離子羽流氦表明由于更多的氣體壓力和電弧功率輸入到該過程中，羽流可變得更小，并且明顯更冷，如計算機模型所示那樣。
類似地，在具有臺階和橢圓形發散出口而不是圓形發散出口的相同槍上制造和試驗加長噴嘴。這種噴嘴與前面噴嘴類似操作之處在于觀察至少四個沖擊鉆。將與所述相同的粉末噴射到火焰中產生類似于圓形噴嘴獲得的性能。
本發明的方面和其它優點將通過這里書寫的說明和所附附錄中特別指出的結構來實現和獲得。應該理解到以上總體描述和以下更加詳細的描述(附錄中所含的)是示例性和說明性的，并且用來提供隨后要求保護的本發明的進一步說明。因此，可以進行多種變型而不偏離本發明總體概念的精神或范圍。
權利要求
1.一種將涂層施加到基材上的方法，所述方法包括如下步驟在對于施加涂層來說足以離子化和加速的流量下，將工藝氣體引入熱噴射槍；使用一個或多個電弧將氣體加熱到超過2000度C的溫度，使得工藝氣體離子化，其中電弧出現在一個或多個陰極和一個或多個陽極之間；通過電弧依附下游的噴嘴，將離子化的等離子氣體加速到超聲波速度，該噴嘴具有匯聚/發散區段，其中喉部位于兩者之間；將原材料噴射到加速噴嘴喉部下游的所得高速熱氣體/等離子流中，可以在噴嘴孔口內部，或者在噴嘴出口處，以及通過高速熱氣體/等離子流加速原材料，以便實現從600-2000米/秒的顆粒速度。
2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，該方法在從大氣壓到50mBar的環境壓力情況下進行。
3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，該方法在空氣或惰性氣體環境中進行。
4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，工藝氣體是空氣、氬、氮、氦、氫、氧及其任何組合中的一種。
5.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述一個或多個電弧具有足夠的長度以便產生超過40伏DC的高電壓電位。
6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述一個或多個電弧具有足夠的長度以便產生超過80伏DC的高電壓電位。
7.如權利要求1所述的方法，其特征在于，該原材料是具有大約5μm或更大的顆粒尺寸范圍。
8.如權利要求7所述的方法，其特征在于，該原材料是具有大約30μm-75μm的顆粒尺寸范圍。
9.如權利要求1所述的方法，其特征在于，該原材料是液基原材料。
10.如權利要求1所述的方法，其特征在于，原材料是帶有大約1μm-75μm范圍的懸浮顆粒的液體。
11.一種用于施加熱噴涂涂層的設備，包括用作發射器以便產生電弧的一個或多個陰極，所述陰極定位成使得適用于離子化的氣體通過陰極；孔口的一個區段，該區段電中性，但是可以支持電流在點火期間部分通過，以便延長電弧并且增加電壓；陽極區段，包括臺階或邊緣，以便坐置電弧的另一端，并且穩定電弧長度；噴嘴，包括匯聚/發散區段，喉部位于兩者之間，其中匯聚/發散區段的幾何形狀可以產生超過1的馬赫數；以及一個或多個原材料噴射器。
12.如權利要求11所述的設備，其特征在于，所述一個或多個電弧具有足夠的長度以便產生超過40伏DC的高電壓電位。
13.如權利要求12所述的設備，其特征在于，所述一個或多個電弧具有足夠的長度以便產生超過80伏DC的高電壓電位。
14.如權利要求11所述的設備，其特征在于，該原材料是具有大約5μm或更大的顆粒尺寸范圍。
15.如權利要求14所述的設備，其特征在于，該原材料是具有大約30μm-75μm的顆粒尺寸范圍。
16.如權利要求11所述的設備，其特征在于，該原材料噴射器適用于提供液基原材料。
17.如權利要求11所述的設備，其特征在于，該原材料噴射器適用于提供帶有大約1μm-75μm范圍的懸浮顆粒的液體。
18.如權利要求11所述的設備，其特征在于，每個陰極具有本身的電流源。
19.如權利要求11所述的設備，其特征在于，所述陽極區段是噴嘴的一部分。
20.如權利要求11所述的設備，其特征在于，所述陽極區段是與噴嘴分開的區段。
2 1.如權利要求11所述的設備，其特征在于，所述原材料噴射器位于喉部下游的噴嘴的孔口內。
22.如權利要求11所述的設備，其特征在于，所述原材料噴射器位于噴嘴的出口處。
23.一種混合等離子/冷噴涂系統，包括(a)槍，包括用作發射器以便產生電弧的一個或多個陰極；孔口的一個區段，該區段支持電流在點火期間部分通過，以便延長電弧并且增加電壓；陽極區段，包括臺階或邊緣，以便坐置電弧的另一端，并且穩定電弧長度；噴嘴，包括匯聚/發散區段，喉部位于兩者之間，其中匯聚/發散區段的幾何形狀可以產生超過1的馬赫數；以及一個或多個原材料噴射器；以及(b)包括空氣、氬、氮、氦、氫、氧及其任何組合中的一種以便穿過所述陰極的氣體，其中所述氣體通過穿過所述陰極而離子化，以便形成離子化等離子氣體，并且所述離子化的等離子氣體加速到超聲波速度，并且原材料噴射到所得高速離子化的等離子中并朝著基材驅動。
24.如權利要求23所述的系統，其特征在于，被驅動的原材料沖擊基材，以便形成具有壓縮應力的涂層。
全文摘要
本發明提供一種形成具有類似于冷噴涂工藝產生的涂層的所需應力狀態的致密涂層但是具有較高工藝效率和較低氣體消耗的方法和設備。本發明的工藝將氣體加熱的等離子工藝方法和加速氣體的冷噴涂工藝的特征相結合，以便將這些元素結合到單個混合工藝中。
文檔編號H05H1/32GK101016610SQ20061017244
公開日2007年8月15日 申請日期2006年12月21日 優先權日2005年12月21日
發明者R·J·莫爾茨, D·霍利, R·麥克庫洛 申請人:蘇舍美特科(美國)公司