專利名稱：冷卻裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型是關于一種冷卻裝置，特別是關于一種用于冷卻蒸鍍基板的冷卻裝置。
背景技術：
二十世紀由于真空技術、電腦和控制技術及材料技術的進步，使得多層膜的制做成為可行的事實。光學薄膜的應用在日常生活中所占比重較大，例如反射膜主要的制品有照相機、眼鏡及光學設備(如傳真機、鐳射印表機、鐳射唱片、影碟機等)。
光學鍍膜技術有很多種，但大體可分為利用液態及蒸汽成膜兩種方法，前者大多涉及化學變化，后者有些是利用化學作用，有些則屬于物理作用。
至于鍍膜制程，多層光學薄膜在真空中以物理氣相沉積法最為方便，實際鍍膜方式大致可分為濺鍍及蒸鍍兩種。蒸鍍是以熱阻絲加熱鍍材使其熔化蒸發(或直接升華)，然后沉積在基板(通稱為基板，如透鏡、棱鏡或平板等)；或用電子槍將電子束直接打在材料上，使鍍膜材料蒸發而鍍于元件基板上。
傳統的蒸鍍法，因沉積的膜質常不夠結實，膜層不均勻，堆積的厚度不夠，因而對光學特性的穩定性產生不良影響，目前較新發展技術有離子束助鍍蒸鍍等。
一般離子束輔助的真空蒸鍍器是由一個用以執行真空蒸鍍的蒸鍍室，及一組用以提供蒸鍍所需的真空度的真空系統所組合而成。在蒸鍍室內，固態的沉積材料，稱為蒸鍍源，被放置在一只由高溫材料所制成的坩堝內，電子以熱離子的形式離開加熱的燈絲，自下方一端陽極、一端陰極的射管加速射出。在外加磁場的作用下，電子束回旋270度，撞擊在上方坩堝里的蒸鍍源上，對蒸鍍源加熱，蒸鍍源原子即可被蒸發。利用這些被蒸發出來的蒸鍍源原子，在離蒸鍍源上方不遠處的基板表面上，即可進行薄膜的沉積。各種式樣的基板不斷被開發，如旋轉圓盤狀及傘狀等。
當蒸鍍過程結束后，被鍍物被放置在真空中冷卻等待被取出，因其在真空中，熱只能靠輻射傳遞，速度慢，故此階段費時。
發明內容本實用新型的目的在于提供一種能將蒸鍍基板上的熱量有效導出，快速使基板冷卻的裝置。
本實用新型的目的是通過下列技術方案實現的本實用新型冷卻裝置包括一蒸鍍室及一位于蒸鍍室外的散熱體，該蒸鍍室內設有一基板載體及至少一可將基板載體的熱量傳導至蒸鍍室外散熱體的熱管組，該熱管組包括均勻分布在基板載體周圍的至少兩根熱管。
本實用新型冷卻裝置中，該熱管組可在基板載體與散熱體之間移動，當熱管組移動時，散熱體固定在蒸鍍室外，熱管組移動的同時與散熱體接觸，熱量通過熱管傳到散熱體上再經散熱體散發到空氣中。另外，基板載體的下方還設有一擋板，避免熱管受到蒸鍍物的污染。
由于該冷卻裝置中應用熱管將基板熱量快速導出，再經散熱體散發到空氣中，較傳統裝置中基板的冷卻僅靠真空中的輻射完成可加快冷卻速率，有效縮短冷卻過程的時間。因此，本實用新型冷卻裝置可有效解決蒸鍍過程中，被鍍物的冷卻問題，加快冷卻速率、縮短此階段冷卻時間，使整個制程的效率提高。
下面參照附圖，結合實施例對本實用新型作進一步的描述。
圖1是本實用新型冷卻裝置的平面示意圖。
圖2是本實用新型冷卻裝置的熱管分布示意圖。
具體實施方式請同時參閱圖1及圖2，本實用新型冷卻裝置包括一蒸鍍室100及一設在蒸鍍室100外的散熱體30，該蒸鍍室100內包括一基板載體10及一熱管組20。該基板載體10上承載有一蒸鍍基板12，該熱管組20包括均勻分布在基板載體10周圍的四根熱管22，每根熱管22包括一吸熱端26及一放熱端28。該散熱體30包括散熱鰭片32與風扇34。
本實用新型冷卻裝置中，熱管組20借助一升降裝置(圖未示)可在基板載體10與散熱體30之間移動，熱管組20移動的同時放熱端28與散熱鰭片32接觸，熱管組20移動過程中與散熱鰭片32接觸面積變小。如圖2所示，熱管組20均勻分布在基板載體10的四周。當熱管20的吸熱端26與基板載體10接觸時，吸收基板載體10上的熱量，熱管20的放熱端28與散熱體30接觸，將熱量傳導至散熱體30。
為快速冷卻基板載體10，先將熱管組20的吸熱端26與基板載體10接觸，吸收基板載體10的熱量并傳至熱管組20的放熱端28，熱管組20的放熱端28將熱量傳到散熱鰭片32上，利用散熱鰭片32將熱量向外散發，風扇34加快熱量與空氣之間的熱交換速度，將熱量快速散發到環境中去。本實用新型冷卻裝置可根據基板載體10的熱量多少選擇熱管組20中熱管22的數量，熱管22均勻分布在基板載體10周圍，可保證基板載體10熱量均勻分布。由于冷卻速度過快會導致蒸鍍膜上熱應力的產生，為避免此種情況發生，可設立多組熱管組，根據不同制程的需要，選擇相應散熱能力的熱管組進行組合，以便在最短時間內將熱量帶走，使熱應力降到最低。另外，基板載體10的下方還設有一擋板40，可避免熱管組20受到蒸鍍物的污染。
由于該冷卻裝置中引入熱管組20及散熱體30，使基板載體10的熱量散發不僅依靠真空中的輻射方式，更多通過熱管組20將基板載體10的熱量導出，經過散熱體30將熱量傳到環境中，較先前僅依靠真空輻射散熱速度增大，能快速有效冷卻基板載體10，節省時間，從而提高整個蒸鍍制程的效率。
權利要求1.一種冷卻裝置，包括一蒸鍍室及一位于蒸鍍室外的散熱體，該蒸鍍室內設有一基板載體，其特征在于該蒸鍍室內設有至少一可將基板載體的熱量傳導至蒸鍍室外散熱體的熱管組，該熱管組包括均勻分布在基板載體周圍的至少兩根熱管。
2.如權利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于所述熱管位于基板載體與散熱體之間。
3.如權利要求2所述的冷卻裝置，其特征在于所述熱管可在基板載體與散熱體之間移動。
4.如權利要求3所述的冷卻裝置，其特征在于所述熱管移動的同時一端與散熱體接觸。
5.如權利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于所述散熱體設有散熱鰭片及風扇。
6.如權利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于基板載體下方還設有一擋板。
專利摘要一種冷卻裝置，包括一蒸鍍室及一位于蒸鍍室外的散熱體，該蒸鍍室內設有一基板載體及至少一可將基板載體的熱量傳導至蒸鍍室外散熱體的熱管組，該熱管組包括均勻分布在基板載體周圍的至少兩根熱管。該熱管組可在基板載體與散熱體之間移動，使熱量通過熱管傳到散熱體上再經散熱體散發到空氣中。
文檔編號G12B15/00GK2694439SQ20042004438
公開日2005年4月20日 申請日期2004年3月30日 優先權日2004年3月30日
發明者翁維襄 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司