一種高耐磨的手機貼膜的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種高耐磨的手機貼膜。
【背景技術】
[0002]免跳線主板在CMOS里設置的CPU頻率不對，也可能會引發不顯示故障，對此，只要清除CMOS即可予以解決。清除CMOS的跳線一般在主板的鋰電池附近，其默認位置一般為
1、2短路，只要將其改跳為2、3短路幾秒種即可解決問題，對于以前的老主板如若用戶找不到該跳線，只要將電池取下，待開機顯示進入CMOS設置后再關機，將電池重新安裝亦可達到CMOS放電之目的。主板無法識別內存、內存損壞或者內存不匹配也會導致開機無顯示的故障。某些老的主板比較挑剔內存，一旦插上主板無法識別的內存，主板就無法啟動，甚至某些主板不給你任何故障提示(鳴叫)。當然也有的時候為了擴充內存以提高系統性能，結果插上不同品牌、類型的內存同樣會導致此類故障的出現，因此在檢修時，應多加注意。對于主板B1S被破壞的故障，我們可以插上ISA顯卡看有無顯示(如有提示，可按提示步驟操作即可)，倘若沒有開機畫面，你可以自己做一張自動更新B1S的軟盤，重新刷新B10S，但有的主板B1S被破壞后，軟驅根本就不工作，此時，可嘗試用熱插拔法加以解決(曾有人嘗試，只要B1S相同，在同級別的主板中都可以成功燒錄。)。但采用熱插拔除需要相同的B1S外還可能會導致主板部分元件損壞，所以可靠的方法是用寫碼器將B1S更新文件寫Λ B1S里面(可找有此服務的電腦商解決比較安全)。
【發明內容】
[0003]本發明的目的在于提供一種高耐磨的手機貼膜，具有很好的耐磨性、使用壽命長，同時彈性和粘附性較好，粘結力強較強等特點。
[0004]本發明的技術方案是:一種高耐磨的手機貼膜，所述高耐磨的手機貼膜包括最上層的防輻射層、中間層的石墨層和最下層的基材層組合而成，所述防輻射層為光學玻璃，所述的防輻射層占高耐磨的手機貼膜總體分量的41%_43%，所述的石墨層占高耐磨的手機貼膜總體分量的31%-34%，所述的基材層占高耐磨的手機貼膜總體分量的22%-27%。
[0005]在本發明一個較佳實施例中，所述基材層為聚乙烯塑料薄膜。
[0006]在本發明一個較佳實施例中，所述的反光層占高耐磨的手機貼膜總體分量的52%，所述的粘膠層占高耐磨的手機貼膜總體分量的24%，所述的基材層占高耐磨的手機貼膜總體分量的24%。
[0007]本發明的一種高耐磨的手機貼膜，具有很好的耐磨性、使用壽命長，同時彈性和粘附性較好，粘結力強較強等特點。
【具體實施方式】
[0008]下面結合對本發明的較佳實施例進行詳細闡述，以使本發明的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本發明的保護范圍做出更為清楚明確的界定。
[0009]在一實施例中，所述高耐磨的手機貼膜包括最上層的防福射層、中間層的石墨層和最下層的基材層組合而成，所述防輻射層為光學玻璃，所述的防輻射層占高耐磨的手機貼膜總體分量的41%-43%，所述的石墨層占高耐磨的手機貼膜總體分量的31%-34%，所述的基材層占高耐磨的手機貼膜總體分量的22%-27%。
[0010]進一步說明，所述基材層為聚乙烯塑料薄膜，所述的反光層占高耐磨的手機貼膜總體分量的52%，所述的粘膠層占高耐磨的手機貼膜總體分量的24%，所述的基材層占高耐磨的手機貼膜總體分量的24%。
[0011]進一步說明，光學玻璃具有高度的透明性、化學及物理學(結構和性能)上的高度均勻性，具有特定和精確的光學常數。它可分為硅酸鹽、硼酸鹽、磷酸鹽、氟化物和硫系化合物系列。品種繁多，主要按他們在折射率(nD)_阿貝值(VD)圖中的位置來分類。傳統上nD>l.60，VD>50和nD〈l.60，VD>55的各類玻璃定為冕(K)玻璃，其余各類玻璃定為火石(F)玻璃。冕玻璃一般作凸透鏡，火石玻璃作凹透鏡。通常冕玻璃屬于含堿硼娃酸鹽體系，輕冕玻璃屬于鋁硅酸鹽體系，重冕玻璃及鋇火石玻璃屬于無堿硼硅酸鹽體系，絕大部分的火石玻璃屬于鉛鉀硅酸鹽體系。隨著光學玻璃的應用領域不斷拓寬，其品種在不斷擴大，其組成中幾乎包括周期表中的所有元素。通過折射、反射、透過方式傳遞光線或通過吸收改變光的強度或光譜分布的一種無機玻璃態材料。具有穩定的光學性質和高度光學均勻性。光學玻璃以二氧化硅為主要成分，具有耐高溫、膨脹系數低、機械強度高、化學性能好等特點，用于制造對各種波段透過有特殊要求的棱鏡、透鏡、窗口和反射鏡等。此外，還有用于大規模集成電路制造的光掩膜板、液晶顯示器面板、影像光盤盤基薄板玻璃；光沿著磁力線方向通過玻璃時偏振面發生旋轉的磁光玻璃；光按一定方向通過傳輸超聲波的玻璃時，發生光的衍射、反射、匯聚或光頻移的聲光玻璃等。
[0012]在進一步說明，聚乙烯塑料薄膜是耐腐蝕性，電絕緣性(尤其高頻絕緣性)優良，可以氯化，輻照改性，可用玻璃纖維增強.低壓聚乙烯的熔點，剛性，硬度和強度較高，吸水性小，有良好的電性能和耐輻射性；高壓聚乙烯的柔軟性，伸長率，沖擊強度和滲透性較好；超高分子量聚乙烯沖擊強度高，耐疲勞，耐磨.低壓聚乙烯適于制作耐腐蝕零件和絕緣零件；高壓聚乙烯適于制作薄膜等。本發明提供一種高耐磨的手機貼膜，具有很好的耐磨性、使用壽命長，同時彈性和粘附性較好，粘結力強較強等特點。
[0013]本發明的【具體實施方式】，但本發明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本領域的技術人員在本發明所揭露的技術范圍內，可不經過創造性勞動想到的變化或替換，都應涵蓋在本發明的保護范圍之內。因此，本發明的保護范圍應該以權利要求書所限定的保護范圍為準。
【主權項】
1.一種高耐磨的手機貼膜，其特征在于:所述高耐磨的手機貼膜包括最上層的防輻射層、中間層的石墨層和最下層的基材層組合而成，所述防輻射層為光學玻璃，所述的防輻射層占高耐磨的手機貼膜總體分量的41%-43%，所述的石墨層占高耐磨的手機貼膜總體分量的31%-34%，所述的基材層占高耐磨的手機貼膜總體分量的22%-27%。2.根據權利要求1所述的高耐磨的手機貼膜，其特征在于:所述基材層為聚乙烯塑料薄膜。3.根據權利要求1所述的高耐磨的手機貼膜，其特征在于:所述的反光層占高耐磨的手機貼膜總體分量的52%，所述的粘膠層占高耐磨的手機貼膜總體分量的24%，所述的基材層占高耐磨的手機貼膜總體分量的24%。
【專利摘要】本發明公開一種高耐磨的手機貼膜，所述高耐磨的手機貼膜包括最上層的防輻射層、中間層的石墨層和最下層的基材層組合而成，所述防輻射層為光學玻璃，所述的防輻射層占高耐磨的手機貼膜總體分量的41%-43%，所述的石墨層占高耐磨的手機貼膜總體分量的31%-34%，所述的基材層占高耐磨的手機貼膜總體分量的22%-27%，本發明提供一種高耐磨的手機貼膜，具有很好的耐磨性、使用壽命長，同時彈性和粘附性較好，粘結力強等特點。
【IPC分類】B32B9/04, H04M1/02
【公開號】CN105357345
【申請號】CN201510773803
【發明人】陸希悅
【申請人】蘇州天擎電子通訊有限公司
【公開日】2016年2月24日
【申請日】2015年11月13日