小件產品等離子用旋轉籠處理裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及小件產品等離子用旋轉籠處理裝置，包括真空艙體、電極、旋轉籠和傳動軸。所述傳動軸的一端通過磁流體密封裝置伸入真空艙體內部，傳動軸的內端設置有安裝法蘭和旋轉籠裝卡系統，通過固定螺栓固定并一體化安裝法蘭和旋轉籠裝卡系統后，連接并固定旋轉籠；傳動軸的外端與減速機和電機聯接，使電機能夠帶動旋轉籠轉動，同時隨著旋轉籠的轉動，小件產品在旋轉籠內翻滾，從而使各個樣品以及樣品的各個表面輪流暴露出來處在等離子的轟擊之下，使得各個樣品及其各表面得到充分和均勻的處理。
【專利說明】
小件產品等離子用旋轉籠處理裝置
技術領域
[0001]本實用新型涉及一種旋轉籠處理裝置，特別是涉及一種對小件多表面產品進行等離子處理時使用的小件產品等離子用旋轉籠處理裝置。【背景技術】
[0002]等離子表面處理是一種新興的高科技表面處理方法，通過處理可以使材料表面實現親水、疏水等特殊功能，以便大幅度增強表面的粘合、焊接、涂鍍或者是防水防腐蝕等能力。這一處理手段目前被廣泛地應用于電子、芯片、航空航天、兵器、汽車等領域，而且隨著科技的發展此技術的應用也越來越廣泛。
[0003]現有通常的等離子表面處理技術是，在真空艙體內，導入射頻或高頻電源，連接到并聯的、水平布置(或垂直)的一個或者數個電極板上。電極板之間有一定的間隙，可以在間隙處放入水平托盤，需要處理的樣品就放置在托盤上。進行處理時，樣品放入托盤并把托盤置入艙體，用真空栗把艙體內的真空度抽到0.1?0.6mbar左右，通入處理氣體并接通射頻電源。因為接入的射頻電源一般電壓在1000V至1600V之間，艙體內的電極板被接通射頻電源后會擊穿艙體內通入的處理氣體，將氣體分子電離產生等離子，電極板和艙體之間存在電位差，等離子在電位差的作用下從電極板向艙體或者接地的陰極運動，并轟擊放置在托盤上的樣品，從而使樣品得到處理。
[0004]但是，如果使用上述傳統的使用等離子設備處理小件多表面塑料、金屬、或其他材料產品時，存在一些問題:一、由于是采用托盤擺放，擺放在托盤上產品至少會有一部分是與托盤接觸的，不能暴露在粒子轟擊之下，也就得不到處理。二、同時，由于等離子從上向下運動轟擊產品，產品向上的表面的到的處理效果要優于側面，使得產品各個表面處理效果不均勻。要想得到各表面均勻的處理就需要在完成一次處理后，取出托盤和樣品，將樣品逐一翻面再重新擺放在托盤上，進行再次處理。如果需要處理的表面多的話就需要多次翻面。 三、為了使樣品的需要處理的表面暴露在面對電極，需要工人用手把樣品逐一擺放在托盤上，并且不能有重疊，否則被遮擋的表面不能得到處理。小件樣品的數量一般都非常大，處理量在每天幾萬乃至上百萬件，如果這么大數量的樣品要逐一擺放在托盤上的話，工人的工作量是非常大的，而且效率很低，同時如果擺放有重疊的時候有的樣品表面就不能得到充分處理，從而在下一工序產生廢品。
【發明內容】
[0005]為了解決以上問題，本實用新型采用了旋轉籠技術。該裝置不僅能使樣品的各個表面得到均勻的處理，而且能大大地提高處理效率，增加產能、減少人工。
[0006]為了達到上述目的，本實用新型實現所采用的技術方案是:小件產品等離子用旋轉籠處理裝置，包括真空艙體、電極、旋轉籠和傳動軸。
[0007]可選地，在傳統的等離子清洗機的基礎上，從所述真空艙體后部通一根傳動軸進入真空艙體內部，所述傳動軸通過專用的磁流體密封裝置深入所述真空艙體內部。
[0008]可選地，所述傳動軸在真空艙體外部的一端連接電機和減速機，所述電機的輸出軸連接減速機的輸入軸，所述減速機的輸出軸連接所述傳動軸而提供旋轉動力;所述傳動軸在真空艙體內的一端設有安裝法蘭和旋轉籠裝卡系統，并連為一體，所述安裝法蘭和旋轉籠裝卡系統通過固定螺栓固定。
[0009]可選地，所述旋轉籠設置在所述真空艙體的內部，其底部向內，卡接固定于所述旋轉籠裝卡系統，從而使旋轉籠為懸臂結構，電機啟動時，旋轉就會通過減速機-傳動軸-旋轉籠裝卡系統傳遞至旋轉籠，并以旋轉籠軸為中心旋轉。[〇〇1〇] 可選地，所述旋轉籠轉速為0.1?lOOrpm。
[0011]可選地，所述旋轉籠為圓柱形籠，籠上有通孔，孔的大小以保證產品不會泄露出來為準，優選為孔徑1?500mm;待測樣品裝入旋轉籠后，加封籠蓋。
[0012]可選地，所述電極設置在所述真空艙體內部下端，固定在絕緣柱。[〇〇13]可選地，所述電極為弧形電極，與旋轉籠同心，以使電極離產品更近，從而處理效果更好。
[0014]可選地，所述電極作為陽極，真空艙體作為陰極。
[0015]可選地，所述傳動軸的上側設置有真空栗接口，下側設置有高頻電源入口。
[0016]可選地，所述真空艙體的外部上端設置有處理氣體接口。
[0017]進行等離子處理時，關閉真空艙門，真空艙體被抽真空至0.1-0.6mbar以達到等離子發生時所需要的真空度，啟動處理氣體輸入，并維持真空度保持穩定。啟動設定好了功率的射頻電源，這時與射頻電源連接的電極帶電，并電離處理氣體，產生等離子，等離子充滿整個真空艙體包括旋轉籠內部，并轟擊裸露在表面的小件樣品。小件產品在旋轉籠內翻滾， 裸露在表面的小件產品被等離子轟擊并得到處理。離子在電場的作用下會從陽極出發被加速，并向作為陰極的旋轉籠和真空艙體轟擊。小部分離子轟擊在旋轉籠體上，大部分會通過旋轉籠體上的孔洞直接轟擊產品，同時旋轉籠內本來的氣體也會被電離，產生不規則的運動并轟擊樣品，從而使產品得到處理。為了保證小件產品得到充分處理，旋轉籠內小件產品裝入量不宜超過旋轉籠容積的30%，同時處理時間要足夠長，以使處理充分。達到處理時間后，關閉電機和射頻電源，旋轉籠停止旋轉。通入空氣以使真空艙體內的真空與大氣連通， 使真空艙體1內恢復常壓。打開艙門，將旋轉籠從旋轉籠裝卡系統上取下拿出，將處理后的小件產品倒出，完成處理。
[0018]本實用新型的有益效果是，因為旋轉籠在電機和減速機的帶動下旋轉，裝在旋轉籠內的樣品會不停地翻滾，使各個樣品以及樣品的各個表面輪流暴露出來處在等離子的轟擊之下，從而使得各個樣品及其各表面得到充分和均勻的處理，避免個別產品或個別表面因為得不到有效處理而產生的廢品；同時省卻了大量用于擺放樣品的工作量，大幅提升了生產效率;裝置使用的零件均可現成采購，易于實現。【附圖說明】
[0019]圖1是本實用新型的旋轉籠處理裝置的結構示意圖；
[0020]圖中:1、真空艙體(陰極)，2、電極(陽極)，3、旋轉籠，4、籠蓋，5、傳動軸，6、旋轉籠裝卡系統，7、磁流體密封裝置，8、真空栗接口，9、絕緣柱，10、高頻電源入口，11、處理氣體接口，12、安裝法蘭。【具體實施方式】[0021 ]下面結合附圖對本實用新型進一步說明。[〇〇22]如圖1所示，小件產品等離子用旋轉籠處理裝置，包括真空艙體1、電極2、旋轉籠3 和傳動軸5。
[0023]具體地，所述傳動軸5在真空艙體1外的一端聯接電機和減速機，所述電機的輸出軸連接減速機的輸入軸，所述減速機的輸出軸連接所述傳動軸5,所述傳動軸5在真空艙體1 內部一端設有安裝法蘭12和旋轉籠裝卡系統6,旋轉籠裝卡系統6通過固定螺栓被固定在安裝法蘭上12,并連為一體。
[0024]所述旋轉籠3設置在所述真空艙體1的內部，其底部向內，卡接固定于所述旋轉籠裝卡系統6,從而使旋轉籠3為懸臂結構，并以旋轉籠3軸為中心旋轉，電機啟動時，旋轉就會通過減速機-傳動軸5-旋轉籠裝卡系統6傳遞至旋轉籠3;所述旋轉籠3可取下。[〇〇25] 所述旋轉籠3轉速為0.1?lOOrpm。
[0026]所述所述旋轉籠3為圓柱形籠，籠上有通孔，孔的大小以保證產品不會泄露出來為準，優選為孔徑1?500mm;待測樣品裝入旋轉籠后，加封籠蓋4。
[0027]所述電極2設置在所述真空艙體1內部下端，固定在絕緣柱9。
[0028]所述電極2為弧形電極，與旋轉籠3同心，以使電極2離產品更近，從而處理效果更好。
[0029]所述電極2作為陽極，真空艙體1作為陰極。
[0030]所述傳動軸5的上側設置有真空栗接口 8,下側設置有高頻電源入口 10。[〇〇31]所述真空艙體1的外部上端設置有處理氣體接口 11。[0〇32]在進行等離子處理時，關閉真空艙門，真空艙體被抽真空至0.1?0.6mbar以達到等離子發生時所需要的真空度，啟動處理氣體輸入，并維持真空度保持穩定。啟動設定好了功率的射頻電源，這時與射頻電源連接的電極帶電，并電離處理氣體，產生等離子，等離子充滿整個真空艙體1包括旋轉籠3內部，并轟擊裸露在表面的小件樣品。啟動電機，旋轉籠3 開始旋轉，小件產品在旋轉籠內翻滾，裸露在表面的小件產品被等離子轟擊并得到處理。小部分離子轟擊在旋轉籠3體上，大部分會通過旋轉籠3體上的孔洞直接轟擊產品，同時旋轉籠3內本來的氣體也會被電離，產生不規則的運動并轟擊樣品，從而使產品得到處理。為了保證小件產品得到充分處理，旋轉籠3內小件產品裝入量不宜超過旋轉籠3容積的30%，同時處理時間要足夠長，以使處理充分。達到處理時間后，關閉電機和射頻電源，旋轉籠3停止旋轉。通入空氣以使真空艙體1內的真空與大氣連通，使真空艙體1內恢復常壓。打開艙門， 將旋轉籠3從旋轉籠裝卡系統6上取下拿出，將處理后的小件產品倒出，完成處理。
[0033]本實用新型的有益效果是，因為旋轉籠在電機和減速機的帶動下旋轉，裝在旋轉籠內的樣品會不停地翻滾，使各個樣品以及樣品的各個表面輪流暴露出來處在等離子的轟擊之下，從而使得各個樣品及其各表面得到充分和均勻的處理，避免個別產品或個別表面因為得不到有效處理而產生的廢品；同時省卻了大量用于擺放樣品的工作量，大幅提升了生產效率;裝置使用的零件均可現成采購，易于實現。
[0034]以上結合附圖為本實用新型的實施方式進行了詳細說明，但本實用新型不限于上述實施方式，凡依據本實用新型申請專利范圍所做的均等變化與修飾，皆應屬本實用新型的涵蓋范圍。
【主權項】
1.一種小件產品等離子用旋轉籠處理裝置，其特征是:所述旋轉籠處理裝置包括:真空 艙體(1)、電極(2)、旋轉籠(3)和傳動軸(5);所述傳動軸(5) —端通過專用的磁流體密封裝 置(7)伸入真空艙體(1)內，伸入真空艙體(1)內部的一端設置有安裝法蘭(12)和旋轉籠裝 卡系統(6);所述旋轉籠(3)設置在所述真空艙體(1)內部，其底部向內，并卡接固定于所述 旋轉籠裝卡系統(6)，使旋轉籠(3)為懸臂結構，并以旋轉籠(3)軸為中心旋轉。2.根據權利要求1所述的所述旋轉籠處理裝置，其特征是，所述旋轉籠(3)為圓柱形籠， 籠上有通孔，孔徑為1?500mm;待測樣品裝入旋轉籠(3)后，加封籠蓋(4)。3.根據權利要求1或2所述的旋轉籠處理裝置，其特征是，所述旋轉籠(3)轉速為0.1? 100rpm〇4.根據權利要求1所述的旋轉籠處理裝置，其特征是，所述傳動軸(5)在真空艙體(1)夕卜 部的一端連接電機和減速機，所述電機的輸出軸連接減速機的輸入軸，所述減速機的輸出 軸連接所述傳動軸(5)而提供旋轉動力。5.根據權利要求1所述的旋轉籠處理裝置，其特征是，所述電極(2)設置在所述真空艙 體(1)內部下端，固定在絕緣柱(9)。6.根據權利要求1或5所述的旋轉籠處理裝置，其特征是，所述電極(2)為弧形電極，與 旋轉籠(3)同心。7.根據權利要求1或5所述的旋轉籠處理裝置，其特征是，所述電極(2)作為陽極，真空 艙體(1)作為陰極。8.根據權利要求1或4所述的旋轉籠處理裝置，其特征是，所述傳動軸(5)的上側設置有 真空栗接口(8)，下側設置有高頻電源入口(10)。9.根據權利要求1的所述旋轉籠處理裝置，其特征是，所述真空艙體(1)的外部上端設 置有處理氣體接口(11)。
【文檔編號】H05H1/24GK205584604SQ201620341417
【公開日】2016年9月14日
【申請日】2016年4月21日
【發明人】鄭亮
【申請人】鄭亮