等離子機用噴槍的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種等離子機用噴槍。
【背景技術】
[0002]等離子處理機通常又被人們稱呼等離子表面處理機、等離子表面處理器，等離子打磨機和等離子清洗機，機器機構包括等離子發生裝置、氣體輸送系統和等離子噴槍三大部分。等離子處理機依靠電能，會產生高壓、高頻能量。這些能量在噴槍鋼管中被激活和被控制的輝光放電中產生低溫等離子體，借助壓縮空間將等離子體噴向處理表面，使處理表面產生相應的物理變化和化學變化。但傳統的等離子處理機結構較為復雜，制造成本較高。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型即是克服現有技術不足，提供一種簡單高效的等離子機用噴槍。
[0004]具體來說，本實用新型所述的一種等離子機用噴槍，通過高壓線與等離子機連接，金屬外殼、收容于金屬外殼內的電極、突出于金屬外殼的槍頭及與高壓線電性連接的高壓線連接件，電極連接于高壓線連接件且電極與槍頭形成電性連接。
[0005]進一步的，所述金屬外殼包括依次組裝的前蓋、中蓋及后蓋，且后蓋為壓花設計。
[0006]進一步的，所述金屬外殼由招制成。
[0007]進一步的，所述高壓線連接件通過槍頭配合件與槍頭形成機械連接。
[0008]進一步的，所述高壓線連接件通過第一連接件及第二連接件與高壓線連接，且第一連接件、第二連接件、高壓線連接件之間均設有絕緣件。
[0009]本實用新型所述的等離子機用噴槍結構簡單，可快速清理工件表面有機污染物，達到組件表面潔凈及改質的功能。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實用新型等離子機用噴槍與等離子機連接的立體圖；
[0011]圖2為本實用新型等咼子機用噴槍放大后的分解圖；
[0012]其中，100為等離子機用噴槍，I為噴槍，11為金屬外殼，111為前殼，112為中殼，113為后殼，12為第一連接件。13為絕緣件，14為第二連接件，15為絕緣件，16為高壓線連接件，17為電極，18為槍頭配合件，19為槍頭，8為高壓線。
【具體實施方式】
[0013]以下結合附圖，對本實用新型所述的等離子機用噴槍進行非限制性地說明，目的是為了公眾更好地理解所述的技術內容。
[0014]如圖1所示，本實用新型所述的等離子機用噴槍100，通過高壓線8連接等離子機100，主要用于去除產品表面油脂、添加劑等成分，消除了表面靜電，同時增加了附著力，有利于產品的粘合、噴涂、印刷及密封。
[0015]結合圖2，所述等離子機用噴槍I包括金屬外殼11、收容于金屬外殼內的電極17、突出于金屬外殼的槍頭19及高壓線電性連接的高壓線連接件16。所述金屬外殼11作為外層的接地件，其包括依次組裝的前蓋111、中蓋112及后蓋113，且后蓋112為壓花設計。所述電極連接于高壓線連接件，從而與高壓線形成連接，電極17與槍頭19形成電性連接，該高壓線連接件16通過槍頭配合件18與槍頭19形成機械連接。
[0016]所述高壓線連接件通過第一連接件12及第二連接件14與高壓線8連接，第一連接件12、第二連接件14及高壓線連接件16之間均設有絕緣件，絕緣件起到絕緣并保持第一、第二連接件的作用。
[0017]所述等離子機用噴槍內形成電弧，無電壓的等離子體流隨氣體噴出噴槍，到達產品表面，從而進行對產品進行處理或清洗。
[0018]應該理解的是，上述內容不是對所述技術方案的限制，事實上，凡以相同或近似原理對所述技術方案進行的改進，包括各部分的形狀、尺寸、所用材質的改進，以及相似功能元件的替換，都在本實用新型要求保護的技術方案之內。
【主權項】
1.一種等離子機用噴槍，通過高壓線與等離子機連接，其特征在于:金屬外殼、收容于金屬外殼內的電極、突出于金屬外殼的槍頭及與高壓線電性連接的高壓線連接件，電極連接于高壓線連接件且電極與槍頭形成電性連接。2.根據權利要求1所述的等離子機用噴槍，其特征在于:所述金屬外殼包括依次組裝的前蓋、中蓋及后蓋，且后蓋為壓花設計。3.根據權利要求1所述的等離子機用噴槍，其特征在于:所述金屬外殼由鋁制成。4.根據權利要求1所述的等離子機用噴槍，其特征在于:所述高壓線連接件通過槍頭配合件與槍頭形成機械連接。5.根據權利要求4所述的等離子機用噴槍，其特征在于:所述高壓線連接件通過第一連接件及第二連接件與高壓線連接，且第一連接件、第二連接件、高壓線連接件之間均設有絕緣件。
【專利摘要】一種等離子機用噴槍，通過高壓線與等離子機連接，金屬外殼、收容于金屬外殼內的電極、突出于金屬外殼的槍頭及與高壓線電性連接的高壓線連接件，電極連接于高壓線連接件且電極與槍頭形成電性連接。本實用新型所述的等離子機用噴槍結構簡單，可快速清理工件表面有機污染物，達到組件表面潔凈及改質的功能。
【IPC分類】H05H1/26
【公開號】CN204859731
【申請號】CN201520626020
【發明人】李小琴
【申請人】深圳市合豐嘉大科技有限公司
【公開日】2015年12月9日
【申請日】2015年8月19日