分層搭接的磁屏蔽室開關機構的制作方法
【專利摘要】本發明提供了一種分層搭接的磁屏蔽室開關機構。主要解決了現有的屏蔽室屏蔽門或屏蔽窗等屏蔽效果差的問題。包括固定屏蔽結構、活動屏蔽結構，所述的固定屏蔽結構包括固定屏蔽內層(1)、固定屏蔽外層(4)，所述的活動屏蔽結構包括活動屏蔽內層(2)、活動屏蔽外層(3)，其特征在于：所述的活動屏蔽結構搭接在固定屏蔽結構上，所述的固定屏蔽內層(1)、固定屏蔽外層(4)、活動屏蔽內層(2)、活動屏蔽外層(3)分別包括至少一層導磁屏蔽層，所述的活動屏蔽內層(2)、活動屏蔽外層(3)之間設置有柔性支撐結構。具有屏蔽效果好，結構簡單的特點。
【專利說明】
分層搭接的磁屏蔽室開關機構
技術領域
[0001]本發明涉及電磁屏蔽領域，適用于屏蔽室中屏蔽門、屏蔽窗的可開關的屏蔽結構具體是一種分層搭接的磁屏蔽室開關機構。
【背景技術】
[0002]目前，磁屏蔽結構內部可用空間尺寸需求越來越大，因此，屏蔽室的可移動屏蔽結構是搬運試驗平臺或試驗對象的必要條件，如屏蔽門或屏蔽窗等。但目前的可移動屏蔽結構與不可移動屏蔽結構的搭接方式較為簡單，搭接結構均會出現裝配誤差，平面度誤差，以及可移動屏蔽部分與不可移動屏蔽部分搭接時，存在不平行現象，均會引起搭接大氣隙的問題，從而導致屏蔽結構的磁阻增大，降低屏蔽性能。
【發明內容】
[0003]本發明的目的是為了解決上述現有技術存在的問題，進而提供一種搭接緊密，屏蔽效果好的分層搭接的磁屏蔽室開關機構。
[0004]本發明的目的是通過以下技術方案實現的:
[0005]—種分層搭接的磁屏蔽室開關機構，包括固定屏蔽結構、活動屏蔽結構，所述的固定屏蔽結構包括固定屏蔽內層、固定屏蔽外層，所述的活動屏蔽結構包括活動屏蔽內層、活動屏蔽外層，所述的活動屏蔽結構搭接在固定屏蔽結構上，所述的固定屏蔽內層、固定屏蔽外層、活動屏蔽內層、活動屏蔽外層分別包括至少一層導磁屏蔽層，所述的活動屏蔽內層、活動屏蔽外層之間設置有柔性支撐結構。
[0006]本發明的有益效果是:通過采用本發明的技術方案，有效保證了固定屏蔽結構與活動屏蔽結構搭接的緊密性，避免引起搭接大氣隙的問題，實現了雙層的有效搭接，可確保小磁阻，增大屏蔽效果。
【附圖說明】
[0007]圖1為本發明結構示意圖。
[0008]圖2為本發明柔性支撐結構示意圖。
[0009]圖3為采用本發明技術方案磁屏蔽室內部磁通密度分布情況。
[0010]圖4為采用常規技術方案磁屏蔽室內部磁通密度分布情況。
[0011 ]圖中，1-固定屏蔽內層，2-活動屏蔽內層，3-活動屏蔽外層，4-活動屏蔽外層。
【具體實施方式】
[0012]下面將結合附圖對本發明做進一步的詳細說明:本實施例在以本發明技術方案為前提下進行實施，給出了詳細的實施方式，但本發明的保護范圍不限于下述實施例。
[0013]如圖1和圖2所不，本實施例所涉及一種分層搭接的磁屏蔽室開關機構，包括固定屏蔽結構、活動屏蔽結構，所述的固定屏蔽結構包括固定屏蔽內層1、固定屏蔽外層4，所述的活動屏蔽結構包括活動屏蔽內層2、活動屏蔽外層3，所述的活動屏蔽結構搭接在固定屏蔽結構上，所述的固定屏蔽內層1、固定屏蔽外層4、活動屏蔽內層2、活動屏蔽外層3分別包括至少一層導磁屏蔽層，所述的活動屏蔽內層2、活動屏蔽外層3之間設置有柔性支撐結構
[0014]具體的，將固定屏蔽結構、活動屏蔽結構分層展開，通過各自對應的支撐結構進行支撐，在通過柔性支撐結構進行連接，先由靠近活動屏蔽結構的活動屏蔽內層2靠緊固定屏蔽層的固定屏蔽內層I，活動屏蔽結構繼續受力，此時柔性支撐結構在受力后會壓縮變形，不僅使得固定屏蔽內層I與活動屏蔽內層2平行，并大面積有效接觸，并且使活動屏蔽外層3進一步接近固定屏蔽外層4，直至接觸該方案實現了雙層的有效搭接，可確保小磁阻，增大屏蔽效果。
[0015]根據本發明的技術方案，對比現有技術進行實驗分析，在屏蔽室外部加勻強磁場磁通密度均為50e_6T，并對屏蔽室內部中心點進行監測，使用現有技術，屏蔽室中心點磁通密度8.35e-7，采用本發明的技術方案，中心點磁通密度5.lOe-7，通過對比明顯可以看出本發明的技術方案，屏蔽效果更好。如圖3、圖4分別給出本發明與現有技術方案屏蔽室內部磁通密度分布情況。
[0016]以上所述，僅為本發明較佳的【具體實施方式】，這些【具體實施方式】都是基于本發明整體構思下的不同實現方式，而且本發明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術范圍內，可輕易想到的變化或替換，都應涵蓋在本發明的保護范圍之內。因此，本發明的保護范圍應該以權利要求書的保護范圍為準。
【主權項】
1.一種分層搭接的磁屏蔽室開關機構，包括固定屏蔽結構、活動屏蔽結構，所述的固定屏蔽結構包括固定屏蔽內層(I)、固定屏蔽外層(4)，所述的活動屏蔽結構包括活動屏蔽內層(2)、活動屏蔽外層(3)，其特征在于:所述的活動屏蔽結構搭接在固定屏蔽結構上，所述的固定屏蔽內層(I)、固定屏蔽外層(4)、活動屏蔽內層(2)、活動屏蔽外層(3)分別包括至少一層導磁屏蔽層，所述的活動屏蔽內層(2)、活動屏蔽外層(3)之間設置有柔性支撐結構。
【文檔編號】H05K9/00GK106061219SQ201610444314
【公開日】2016年10月26日
【申請日】2016年6月20日
【發明人】潘東華, 李立毅, 孫芝茵
【申請人】哈爾濱工業大學