本申請涉及顯示,特別是涉及一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置。
背景技術:
1、oled(organic?light-emitting?diode,即有機發光二極管)具備自發光、高亮度、寬視角、高對比度、可撓曲、低能耗等特性,因此受到廣泛的關注,并作為新一代的顯示方式,已開始逐漸取代傳統液晶顯示器,被廣泛應用在手機屏幕、電腦顯示器、全彩電視等。
2、隨著顯示技術的發展,顯示面板的發光像素密度逐漸增加,像素之間的間距逐漸縮小,像素之間的橫向串擾現象(crosstalk)逐漸加重,從而影響顯示面板的顯示品質。
技術實現思路
1、基于此,本申請提供一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置,降低像素間的橫向串擾,提高顯示面板的顯示品質。
2、根據本申請的第一方面,提供一種顯示面板,其包括襯底基板、像素限定層、多個發光元件和第一電極層;像素限定層設置在所述襯底基板的一側,所述像素限定層界包括多個像素開口和位于相鄰的像素開口之間的間隔部分;所述間隔部分設置有至少部分圍繞所述像素開口設置的凹槽;多個發光元件對應設置于多個所述像素開口內;所述發光元件包括層疊設置的發光層和多層功能膜層,所述多層功能膜層中的至少一層外延至所述間隔部分遠離所述襯底基板的一側表面;且不同發光元件的外延至所述間隔部分上的所述功能膜層借助于所述凹槽彼此斷開;第一電極層覆蓋所述發光元件和所述像素限定層,所述第一電極層為連續膜層。
3、根據本申請實施例的顯示面板,其像素限定層設置在襯底基板的一側,像素限定層包括多個像素開口和位于相鄰的像素開口之間的間隔部分,間隔部分設置有至少部分圍繞像素開口設置的凹槽,多個發光元件對應設置在多個像素開口內,發光元件包括層疊設置的發光層和多層功能膜層,多層功能膜層中的至少一層外延至間隔部分遠離襯底基板的一側表面,不同發光元件的外延至間隔部分上的功能膜層借助于凹槽彼此斷開,例如,不同發光元件的外延至隔離部分上的空穴注入層借助于凹槽彼此斷開,這樣,在一個像素工作狀態下(即一個像素發光),電流不會從第二電極通過位于凹槽兩側的空穴注入層傳輸到相鄰的其它像素,從而可避免位于凹槽兩側的空穴注入層導致的橫向漏電,降低相鄰像素開口內的發光元件之間的橫向串擾,提高顯示面板的色純度;另外,第一電極層覆蓋發光元件和像素限定層,第一電極層為連續膜層,以利于提供相同的電壓信號,保證顯示面板的像素正常發光。綜上所述,本申請實施例通過在間隔部分設置至少部分圍繞像素開口的凹槽,不同發光元件的外延至間隔部分上的功能膜層借助于凹槽彼此斷開,第一電極層為連續膜層,可降低相鄰像素開口內的發光元件之間的橫向串擾,提高顯示面板的顯示品質。
4、在一些實施例中,所述凹槽沿平行于所述襯底基板的厚度方向延伸,沿平行于所述襯底基板的厚度方向上,所述凹槽的寬度保持不變;所述凹槽的寬度為所述凹槽朝向所述襯底基板上的正投影,在垂直于所述凹槽的延伸方向上的尺寸。
5、在一些實施例中,所述凹槽的側壁設置有沿所述像素開口的周向延伸的子凹槽。
6、在一些實施例中,所述子凹槽沿垂直于所述襯底基板的厚度方向延伸,沿垂直于所述襯底基板的厚度方向上,所述子凹槽的寬度保持不變;其中,所述子凹槽的寬度為所述子凹槽朝向垂直于所述襯底基板的平面上的正投影,在垂直于所述子凹槽的延伸方向上的尺寸。
7、在一些實施例中,所述子凹槽的寬度從所述子凹槽的底部向頂部漸變設置;其中,所述子凹槽的寬度為所述子凹槽朝向垂直于所述襯底基板的平面上的正投影,在垂直于所述子凹槽的延伸方向上的尺寸。
8、在一些實施例中,所述子凹槽的寬度小于所述凹槽深度的二分之一;所述子凹槽的深度在30nm-50nm。
9、在一些實施例中,所述子凹槽的遠離所述襯底基板的側壁與所述凹槽的底部的間距小于所述凹槽深度的二分之一。
10、在一些實施例中,所述凹槽沿平行于所述襯底基板的厚度方向延伸,沿平行于所述襯底基板的厚度方向上,所述凹槽的寬度從所述凹槽的底部向頂部呈減小趨勢;其中,所述寬度為所述凹槽朝向所述襯底基板上的正投影,在垂直于所述凹槽的延伸方向上的尺寸。
11、在一些實施例中,沿平行于所述襯底基板的厚度方向上,所述凹槽的寬度從所述凹槽的底部向頂部漸變設置;其中,所述寬度為所述凹槽朝向所述襯底基板上的正投影,在垂直于所述凹槽的延伸方向上的尺寸。
12、在一些實施例中,沿平行于所述襯底基板的厚度方向上,所述凹槽的寬度從所述凹槽的底部向頂部先變小后變大;其中,所述寬度為所述凹槽朝向所述襯底基板上的正投影,在垂直于所述凹槽的延伸方向上的尺寸。
13、在一些實施例中,所述凹槽的側壁靠近襯底基板的部分與所述凹槽的底壁之間的夾角在40°-80°。
14、在一些實施例中,所述發光元件的所述功能膜層的總厚度大于所述凹槽的深度。
15、在一些實施例中,所述凹槽的深度為10nm-200nm。
16、在一些實施例中,所述凹槽的深度在10nm-50nm。
17、在一些實施例中,所述凹槽的深度在150nm-200nm。
18、在一些實施例中,所述凹槽的深度在160nm-180nm。
19、在一些實施例中,所述凹槽構造為圍繞所述像素開口布置的環形凹槽。
20、在一些實施例中,所述間隔部分背離所述襯底基板的一側表面構造為沿遠離所述襯底基板的方向的凸狀曲面。
21、在一些實施例中,所述間隔部分背離所述襯底基板的一側表面構造為弓形曲面。
22、在一些實施例中,所述發光元件包括層疊設置的空穴注入層和發光層;所述空穴注入層位于所述發光層的靠近所述襯底基板一側;所述功能膜層包括空穴注入層。
23、在一些實施例中,所述發光層至少為兩層,功能膜層還包括電荷產生層,所述電荷產生層設置在任意相鄰兩層所述發光層之間。
24、根據本申請的第二方面,提供一種顯示面板的制作方法,所述制作方法用于制作第一方面中任一項所述的顯示面板,所述制作方法包括:
25、提供襯底基板,
26、在所述襯底基板的一側形成像素限定層,所述像素限定層界包括多個像素開口和位于相鄰的像素開口之間的間隔部分;
27、在所述間隔部分上形成至少部分圍繞所述像素開口設置的凹槽;
28、在所述像素開口內形成發光元件,所述發光元件包括層疊設置的發光層和多層功能膜層,所述多層功能膜層中的至少一層外延至所述間隔部分遠離所述襯底基板的一側表面;不同發光元件的外延至所述間隔部分上的所述功能膜層借助于所述凹槽彼此斷開;
29、形成第一電極層,所述第一電極層為連續膜層,且所述第一電極層覆蓋所述發光元件和所述像素限定層。
30、根據本申請的第三方面,提供一種顯示裝置,包括根據第一方面中任一項所述的顯示面板。
1.一種顯示面板,其特征在于,包括:
2.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述凹槽沿平行于所述襯底基板的厚度方向延伸,沿平行于所述襯底基板的厚度方向上,所述凹槽的寬度保持不變;
3.根據權利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述凹槽的側壁設置有沿所述像素開口的周向延伸的子凹槽;
4.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述凹槽沿平行于所述襯底基板的厚度方向延伸,沿平行于所述襯底基板的厚度方向上,所述凹槽的寬度從所述凹槽的底部向頂部呈減小趨勢;或者
5.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,
6.根據權利要求1-5任一項所述的顯示面板,其特征在于,所述凹槽的深度為10nm-200nm;
7.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述間隔部分背離所述襯底基板的一側表面構造為沿遠離所述襯底基板的方向的凸狀曲面;
8.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述發光元件包括層疊設置的空穴注入層和發光層;
9.一種顯示面板的制作方法,其特征在于,所述制作方法用于制作權利要求1至8任一項所述的顯示面板,所述制作方法包括:
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括根據權利要求1至8任一項所述的顯示面板。