一種smd石英諧振器離子刻蝕調整頻率的托盤載料裝置制造方法
【專利摘要】本發明公開了一種SMD石英諧振器離子刻蝕調整頻率的托盤載料裝置，它包括基板（4）、離子掩模塊（3）、導向塊鑲板（2）和蓋板（1），基板（4）、離子掩模塊（3）、導向塊鑲板（2）和蓋板（1）通過螺釘（8）固定在一起，基板（4）上開設有放置孔（10），導向塊鑲板（3）上開設有導向塊鑲嵌孔（11），導向塊鑲嵌孔（11）四壁上鑲嵌有帶有錐度的導向塊（9），離子掩模塊（3）上開設有離子掩模孔（7），基板（4）離子刻蝕位置開設有離子束通過孔（6）。本發明的有益效果是：它改善了SMD石英諧振器離子刻蝕的插入率，并且提高了產品的定位精度以及提高了產品生產良率。
【專利說明】—種SMD石英諧振器離子刻蝕調整頻率的托盤載料裝置
【技術領域】
[0001]本發明涉及石英諧振器器離子刻蝕調整頻率的托盤載料裝置，特別是一種SMD石英諧振器離子刻蝕調整頻率的托盤載料裝置。
【背景技術】
[0002]石英諧振器離子刻蝕是提將石英晶片鍍金膜或銀膜后，搭載入基座后的，裝入托盤并傳入真空腔內進行離子刻蝕。在刻蝕前測量系統對來料進行頻率測試并計算出需要刻蝕的時間，在刻蝕后進行再次測量以檢測調整頻率后產品是事滿足要求。
[0003]離子刻蝕的過程是在真空中通過鎢絲放電使Ar氣體電離成等離子體，接著對Ar離子進行加速使其成為高能量的離子束，最后通過柵極將高能離子束引出，使其射向鍍膜后的石英晶片，產生碰撞使鍍膜表面產生濺射，達到減薄金膜或銀膜而達到頻率調整的目的。
[0004]石英諧振器在手機的應用領域里面是必不可缺的一款元器件，隨著移動手機的高速發展的同時也帶動著各種行業的電子元器件的更新與變遷，隨著手機越來越小，元器件也跟著越來越小，特別是SMD石英諧振器系列，是隨著手機的變小而變小。為了滿足手機的應用，石英諧振器隨之變小，依次從7050發展到5032、3225、2520、2016、1612。
[0005]在離子刻蝕時，頻率測量系統都是通過探針物理接觸，并且是在真空的環境中進行。隨著石英諧振器尺寸越來越小，傳統的托盤載料裝置越來越難保證探針精確接觸產品，并且需要大量時間來對探針模塊進行微調才能達到相對較好的狀態。由于定位接觸不好會導致的不良后果:在離子刻蝕前探針沒有接觸好則會判定當來料異常，后續不會再進行離子刻蝕；在離子刻蝕后測試時探針沒有接觸好，則會判定產品刻蝕不良，兩種情況都會導致產品良率低下，需要設備維護人員花大的時間來調整。
【發明內容】
[0006]本發明的目的在于克服現有技術的缺點，提供一種提聞廣品定位精度和提聞廣品生產良率的SMD石英諧振器離子刻蝕調整頻率的托盤載料裝置。
[0007]本發明的目的通過以下技術方案來實現:一種SMD石英諧振器離子刻蝕調整頻率的托盤載料裝置，它包括基板、離子掩模塊、導向塊鑲板和蓋板，所述的基板、離子掩模塊、導向塊鑲板和蓋板通過螺釘固定在一起，所述的基板上開設有放置孔，所述的導向塊鑲板上開設有導向塊鑲嵌孔，所述的導向塊鑲嵌孔四壁上鑲嵌有帶有錐度的導向塊，所述的離子掩模塊上開設有離子掩模孔，所述的基板離子刻蝕位置開設有離子束通過孔，所述的放置孔、導向塊鑲嵌孔、離子掩模孔和離子束通過孔的中心處于同一軸線上。
[0008]所述的離子掩模塊上還開設有與導向塊鑲嵌孔大小相同的沉孔，所述的導向塊底部裝配在沉孔內。
[0009]所述的放置孔、導向塊鑲嵌孔、離子掩模孔和離子束通過孔均為方形孔。
[0010]所述的基板的長邊兩側分布有步進孔。
[0011]本發明具有以下優點:本發明的托盤載料裝置，在導向塊鑲板上鑲嵌有導向塊，導向塊改善了 SMD石英諧振器離子刻蝕的插入率，并且提高了產品的定位精度以及提高了產品生廣良率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0012]圖1是本發明的俯視結構示意；
圖2是圖1中A-A剖面結構示意；
圖3是圖1中I處放大示意圖；
圖中，1-蓋板，2-導向塊鑲板，3-離子掩模板，4-基板，5-組成步進孔，6-離子束通過孔，7-離子掩模孔，8-螺釘，9-導向塊。
【具體實施方式】
[0013]下面結合附圖對本發明做進一步的描述，本發明的保護范圍不局限于以下所述: 如圖1所示，一種SMD石英諧振器離子刻蝕調整頻率的托盤載料裝置，它包括基板4、離子掩模塊3、導向塊鑲板2和蓋板1，如圖2所示，所述的基板4、離子掩模塊3、導向塊鑲板2和蓋板I通過螺釘8固定在一起，所述的基板4上開設有放置孔10，所述的導向塊鑲板3上開設有導向塊鑲嵌孔11，所述的導向塊鑲嵌孔11四壁上鑲嵌有帶有錐度的導向塊9，產品放入放置孔10后，在導向塊9和自身重力的作用下滑入中心位置，所述的離子掩模塊3上開設有離子掩模孔7，離子掩模孔7只讓限定的離子束通過并進行離子刻蝕調整頻率，所述的基板4離子刻蝕位置開設有離子束通過孔6，且基板4的長邊兩側分布有步進孔5，步進孔5使整個拖盤在多次步進后完成離子刻蝕，所述的放置孔10、導向塊鑲嵌孔11、離子掩模孔7和離子束通過孔6的中心處于同一軸線上。
[0014]在本實施例中，如圖2所示，所述的離子掩模塊7上還開設有與導向塊鑲嵌孔11大小相同的沉孔，如圖3所示，所述的導向塊9底部裝配在沉孔內，所述的放置孔10、導向塊鑲嵌孔11、離子掩模孔7和離子束通過孔6均為方形孔。
【權利要求】
1.一種SMD石英諧振器離子刻蝕調整頻率的托盤載料裝置，其特征在于:它包括基板(4)、離子掩模塊(3)、導向塊鑲板(2)和蓋板(1)，所述的基板(4)、離子掩模塊(3)、導向塊鑲板(2)和蓋板(I)通過螺釘(8)固定在一起，所述的基板(4)上開設有放置孔(10)，所述的導向塊鑲板(3 )上開設有導向塊鑲嵌孔(11 )，所述的導向塊鑲嵌孔(11)四壁上鑲嵌有帶有錐度的導向塊(9)，所述的離子掩模塊(3)上開設有離子掩模孔(7)，所述的基板(4)離子刻蝕位置開設有離子束通過孔(6)，所述的放置孔(10)、導向塊鑲嵌孔(11)、離子掩模孔(7)和離子束通過孔(6)的中心處于同一軸線上。
2.根據權利要求1所述的一種SMD石英諧振器離子刻蝕調整頻率的托盤載料裝置，其特征在于:所述的離子掩模塊(7)上還開設有與導向塊鑲嵌孔(11)大小相同的沉孔，所述的導向塊(9)底部裝配在沉孔內。
3.根據權利要求1所述的一種SMD石英諧振器離子刻蝕調整頻率的托盤載料裝置，其特征在于:所述的放置孔(10)、導向塊鑲嵌孔(11)、離子掩模孔(7)和離子束通過孔(6)均為方形孔。
4.根據權利要求1所述的一種SMD石英諧振器離子刻蝕調整頻率的托盤載料裝置，其特征在于:所述的基板(4)的長邊兩側分布有步進孔(5)。
【文檔編號】H03H3/02GK104378079SQ201410616046
【公開日】2015年2月25日 申請日期:2014年11月5日 優先權日:2014年11月5日
【發明者】李 東 申請人:東晶銳康晶體（成都）有限公司