直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜的制作方法
【專利摘要】直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，包括塑料薄膜和金屬鍍層構成的金屬化膜，所述的金屬鍍層為階梯式方阻鍍層，包括第一方阻鍍層、第二方阻鍍層和第三方阻鍍層，第一方阻鍍層的高度H1為90nm，第二方阻鍍層的高度H2為30nm，第三方阻鍍層的高度H3為3—4nm。本方案將金屬鍍層設計成階梯式方阻鍍層，包括第一方阻鍍層、第二方阻鍍層和第三方阻鍍層，由于產品對電流要求不高，在對稱的兩塊金屬化膜卷繞出來的電容器元件上面，只要出現薄弱點，就能夠將高方阻部分的金屬鍍層層迅速氣化而蒸發，薄膜自愈。由于薄弱點的面積甚小，對產品的電容量損失幾乎為零，所以這種階梯式高方阻金屬化膜結構的材料特別適合直流支撐電容器的廣泛使用。
【專利說明】
直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜
技術領域
[0001]本實用新型涉及一種直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，屬于電氣元件領域。
【背景技術】
[0002]金屬化電力電容器的金屬化膜，其常規的結構形式為一個1mm左右的加厚區域，其方塊區域的電阻是2.5Ω，其余部分電阻為7.5Ω。這樣一種結構形式對于電壓要求較高而電流要求不高的產品來說，只要把金屬化膜的厚度加大就行了。金屬化膜的抗電壓強度是由材料本身的性質所決定的，其一般的耐壓都比較高，但是，在生產工藝和設備方面的欠缺，往往會在其成品后產生不少的薄弱點，從而導致材料電壓擊穿。所以，在電容器產品設計的時候會選擇大大小于其耐壓強度的值，為了產品質量安全，設計的電壓強度一般小于材料本身的1/3以下，這就會浪費不少的材料。
【發明內容】
[0003]本實用新型的目的是為了克服已有技術的缺點，提供一種階梯式方阻鍍層結構，鍍層能迅速氣化補償，薄膜自愈，避免電容量損失的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜。
[0004]本實用新型直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜的技術方案是:包括塑料薄膜和金屬鍍層構成的金屬化膜，其特征在于所述的金屬鍍層為階梯式方阻鍍層，包括第一方阻鍍層、第二方阻鍍層和第三方阻鍍層，第一方阻鍍層的高度Hl為90nm，第二方阻鍍層的高度H2為30nm，第三方阻鍍層的高度H3為3—4nm。
[0005]本實用新型的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，將金屬鍍層設計成階梯式方阻鍍層，包括第一方阻鍍層、第二方阻鍍層和第三方阻鍍層，由于產品對電流要求不高，在對稱的兩塊金屬化膜卷繞出來的電容器元件上面，只要出現薄弱點，就能夠將高方阻部分的金屬鍍層層迅速氣化而蒸發，薄膜自愈。由于薄弱點的面積甚小，對產品的電容量損失幾乎為零，所以這種階梯式高方阻金屬化膜結構的材料特別適合直流支撐電容器的廣泛使用。
[0006]本實用新型的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，所述第一方阻鍍層的電阻為2.5Ω，第二方阻鍍層的電阻為7.5Ω，第三方阻鍍層的電阻為50—60Ω。所述的塑料薄膜為聚丙烯薄膜。所述的金屬鍍層為鋅鋁鍍層。能有效提高電容器金屬化膜的機械應力和耐壓等電氣性能。
【附圖說明】
[0007]圖1是本實用新型直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜結構示意圖。
【具體實施方式】
[0008]本實用新型涉及一種直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，如圖1所示，包括塑料薄膜I和金屬鍍層2構成的金屬化膜3，所述的金屬鍍層2為階梯式方阻鍍層，包括第一方阻鍍層4、第二方阻鍍層5和第三方阻鍍層6，第一方阻鍍層4的高度Hl為90nm，第二方阻鍍層5的高度H2為30nm，第三方阻鍍層6的高度H3為3—4nm。本方案將金屬鍍層設計成階梯式方阻鍍層，包括第一方阻鍍層4、第二方阻鍍層5和第三方阻鍍層6，由于產品對電流要求不高，在對稱的兩塊金屬化膜卷繞出來的電容器元件上面，只要出現薄弱點，就能夠將高方阻部分的金屬鍍層層迅速氣化而蒸發，薄膜自愈。由于薄弱點的面積甚小，對產品的電容量損失幾乎為零，所以這種階梯式高方阻金屬化膜結構的材料特別適合直流支撐電容器的廣泛使用。所述第一方阻鍍層4的電阻為2.5Ω，第二方阻鍍層5的電阻為7.5Ω，第三方阻鍍層6的電阻為50—60 Ω。所述的塑料薄膜I為聚丙烯薄膜。所述的金屬鍍層2為鋅鋁鍍層。能有效提1?電容器金屬化I旲的機械應力和耐壓等電氣性能D
【主權項】
1.直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，包括塑料薄膜(I)和金屬鍍層(2)構成的金屬化膜(3)，其特征在于所述的金屬鍍層(2)為階梯式方阻鍍層，包括第一方阻鍍層(4)、第二方阻鍍層(5)和第三方阻鍍層(6)，第一方阻鍍層(4)的高度Hl為90nm，第二方阻鍍層(5)的高度H2為30nm，第三方阻鍍層(6)的高度H3為3—4nm。2.如權利要求1所述的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，其特征在于所述第一方阻鍍層(4)的電阻為2.5Ω，第二方阻鍍層(5)的電阻為7.5Ω，第三方阻鍍層(6)的電阻為50—60 Ω。3.如權利要求1所述的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，其特征在于所述的塑料薄膜(I)為聚丙烯薄膜。4.如權利要求1所述的直流支撐電容器用階梯式高方阻金屬化膜，其特征在于所述的金屬鍍層(2)為鋅鋁鍍層。
【文檔編號】H01G4/015GK205428701SQ201620168718
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2016年3月7日
【發明人】陳家驊
【申請人】浙江臺州特總電容器有限公司