一種單層平面線圈的布線裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型屬于超導磁體線圈制作技術領域，特別涉及一種單層平面線圈的布線
目.ο
【背景技術】
[0002]對于很多磁場均勾度要求優于lOppm的超導磁體，線圈設計中需要設計補償線圈優化磁場均勻性或者作為屏蔽線圈屏蔽外界導線電磁干擾，很多線圈結構如圖1所示，使用線徑0.35mm的超導線，繞制成精確且張緊的單層平面線圈，這線線圈的進出線空間高度實際上等同于線圈本身的厚度，如果制作過程，不考慮布線方法，線圈的位置實際發生變化。因為線圈的位置直接決定磁場的分布，所以本實用新型的目的就是解決磁體用平面線圈的安裝制作技術問題。
【發明內容】
[0003]為克服上述現有技術的不足，本實用新型的目的在于提供一種單層平面線圈的布線裝置，具有結構簡單、布線方便快捷有效的特點。
[0004]為了實現上述目的，本實用新型采用的技術方案是:
[0005]—種單層平面線圈的布線裝置，包括有骨架，兩組平面線圈A對稱分布在骨架外徑內側;兩組平面線圈B對稱分布在平面線圈A外側，和平面線圈A垂直分布。
[0006]所述的骨架設有軸向定位的出線口線槽和90度分布的周向定位出線口線槽。
[0007]所述的平面線圈A的進出線均從線圈外側引入出線口線槽。
[0008]所述的平面線圈B的進出線均從線圈內側引入出線口線槽。
[0009]所述的平面線圈的長度方向固定在軸向定位的出線口線槽。
[0010]所述的平面線圈的中心位置固定在周向定位出線口線槽。
[0011 ]本實用新型的有益效果是:
[0012]四組平面線圈均勻的布置在繞線骨架上;對于磁場均勻性要求很高的超導磁體，平面線圈的位置精度直接決定磁場的分布;骨架軸向定位的出線口線槽控制四組平面線圈的軸線方向位置精度;骨架周向定位出線口線槽控制四組平面線圈的周向均勻位置分布；對于單層平面線圈徑向位置，平面線圈A的進出線均從線圈外側引入出線口線槽，平面線圈B的進出線均從線圈內側引入出線口線槽，可保證所有四組單層平面線圈的徑向位置一致，從而更好的保證勻場線圈的磁場均勻性。
[0013]本實用新型用于單層平面線圈的布線，保證線圈的位置，決定磁場的分布均勻性好，具有結構簡單、簡單實用、操作方便的特點。
【附圖說明】
[0014]圖1是本實用新型所需要單層平面線圈外形示意圖。
[0015]圖2(a)為布線結構的主視圖；圖2(b)為布線結構的左視圖；圖2(c)為布線結構的俯視圖；圖2(d)為圖2(b)的A處放大不意圖，左視圖內側線圈從外側出線；圖2(e)為圖2(b)的B處放大示意圖，左視圖外側線圈從內側出線。
[0016]圖中，1.骨架，2.平面線圈A，3.平面線圈B。
【具體實施方式】
[0017]下面結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型進行詳細說明。
[0018]參見圖1、2&、213、2(3、2(1、26，一種單層平面線圈的布線裝置，對于磁場均勻性要求很高的超導磁體，平面線圈的位置精度直接決定磁場的分布;骨架1軸向線槽可以控制四組平面線圈A、B的軸線方向位置精度;骨架1周向線槽可以控制四組平面線圈的周向均勻位置分布;對于單層平面線圈徑向位置，平面線圈A1、A2的進出線均從線圈A外側引入出線口線槽，平面線圈B1、B2的進出線均從線圈B內側引入出線口線槽，此布線方式可以保證所有四組單層平面線圈的徑向位置一致，從而更好的保證勻場線圈的磁場均勻性。
[0019]所述的平面線圈A1、A2、B1、B2的長度方向固定在骨架1軸向定位的出線口線槽。
[0020]所述的平面線圈A、B的中心位置固定在骨架1周向定位出線口線槽。
[0021]所述的平面線圈A1、A2的進出線均從線圈A1、A2外側引入出線口線槽，他們將和外側的線圈B固定在同一個半徑內。
[0022]所述的平面線圈B1、B2的進出線均從線圈B1、B2內側引入出線口線槽，他們將和內側的線圈A固定在同一個半徑內。
[0023]本實用新型一種單層平面線圈的布線方法的實施過程是，平面線圈A的進出線均從線圈外側同樣的切線位置引入出線口線槽，平面線圈B的進出線均從線圈內側引入出線口線槽，將兩組平面線圈A沿骨架周向定位出線口線槽的垂直方向布置在骨架內徑內側，用骨架的軸向定位的出線口線槽控制平面線圈軸線方向的位置精度;兩組平面線圈B沿骨架周向定位出線口線槽的水平方向布置在平面線圈A的外側，同樣用骨架的軸向定位的出線口線槽控制平面線圈軸線方向位置精度;對于單層平面線圈徑向位置，平面線圈A的出線位置借用平面線圈B徑向布置后留在垂直方向的空間，平面線圈B的出線位置又借用平面線圈A徑向布置后留在水平方向的空間，所述的兩組平面線圈A和兩組平面線圈B的徑向位置一致，從而更好的保證勻場線圈的磁場均勻性。
[0024]參見圖1，平面線圈外型圖
[0025]圖2(a)為布線結構的主視圖；圖2(b)為布線結構的左視圖；圖2(c)為布線結構的俯視圖；圖2(d)為圖2(b)的A處放大不意圖，左視圖內側線圈從外側出線；圖2(e)為圖2(b)的B處放大示意圖，左視圖外側線圈從內側出線。
【主權項】
1.一種單層平面線圈的布線裝置，包括有骨架(1)，兩組平面線圈A(2)對稱分布在骨架外徑內側;兩組平面線圈B(3)對稱分布在平面線圈A外側，和平面線圈A垂直分布。2.根據權利要求1所述的一種單層平面線圈的布線裝置，其特征在于，所述的骨架(1)設有軸向定位的出線口線槽和90度分布的周向定位出線口線槽。3.根據權利要求1所述的一種單層平面線圈的布線裝置，其特征在于，所述的平面線圈A(2)的進出線均從線圈外側引入出線口線槽。4.根據權利要求1所述的一種單層平面線圈的布線裝置，其特征在于，所述的平面線圈B(3)的進出線均從線圈內側引入出線口線槽。5.根據權利要求1所述的一種單層平面線圈的布線裝置，其特征在于，所述的平面線圈A、平面線圈B的長度方向固定在軸向定位的出線口線槽。6.根據權利要求1所述的一種單層平面線圈的布線裝置，其特征在于，所述的平面線圈A、平面線圈B的中心位置固定在周向定位出線口線槽。
【專利摘要】一種單層平面線圈的布線裝置，包括有骨架，兩組平面線圈A對稱分布在骨架外徑內側；兩組平面線圈B對稱分布在平面線圈A外側，和平面線圈A垂直分布，對于單層平面線圈徑向位置，每個線圈的進出線都要經過線圈外表面，如果不考慮出線方式，每個線圈的徑向位置會偏差一個線徑的高度，實際也就偏差了整個線圈厚度的高度，所以內側兩組平面線圈出線放在外表面，外側兩組線圈出線放在內側的出線方式保證此單層平面線圈的徑向位置，保證勻場線圈的磁場均勻性；具有結構簡單、簡單實用、操作方便的特點。
【IPC分類】H01F41/04, H01F6/06
【公開號】CN205122383
【申請號】CN201520885271
【發明人】周濤, 杜社軍, 楊世杰, 朱思華, 李超, 楊凱, 丁瑞
【申請人】西安聚能超導磁體科技有限公司
【公開日】2016年3月30日
【申請日】2015年11月9日