一種電容器雙面金屬化電工膜的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型屬于電工膜技術領域，涉及一種電容器雙面金屬化電工膜。
【背景技術】
[0002]我國先后從國外引進近百條真空鍍膜生產線，其中以普遍鍍膜設備居多。在電工膜金屬化領域，由于鍍膜工藝、分切工藝難度大，成品率難以控制，國內企業極少涉足。該類薄膜制作的電容器以容量大、穩定性好、自愈能力強等優點，越來越多的占領市場。考慮電工膜市場越來越大，但是由于電工膜熱變形難以控制，在實際應用中受到很大限制。
【發明內容】
[0003]本實用新型所要解決的技術問題就是提供一種電容器雙面金屬化電工膜，熱變形能得到很好的控制，留邊精度高。
[0004]為解決上述技術問題，本實用新型采用如下技術方案:一種電容器雙面金屬化電工膜，由聚對苯二甲酸乙二醇酯介質層和蒸鍍在所述聚對苯二甲酸乙二醇酯介質層表面的鋁層組成，所述鋁層表面間隔設有互相平行的凹槽，所述鋁層的厚度為2?3.5 μm。
[0005]其中，聚對苯二甲酸乙二醇醋(Polyethylene terephthalate，簡稱PET)，耐婦變、耐抗疲勞性、耐磨擦和尺寸穩定性好，磨耗小而硬度高，具有優異的韌性，電絕緣性能好，受溫度影響小，無毒、耐氣候性、抗化學藥品穩定性好，吸水率低，耐弱酸和有機溶劑，是相當理想的介質層材料。本實用新型中采用高真空金屬沉積技術，在高真空條件下，將被沉積金屬材料加熱到融化并蒸發成氣態，蒸氣態原子或分子以冷凝方式沉積在基膜表面，形成金屬膜層。這樣，得到的金屬膜層可以相當薄，并且非常均勻，同時，均勻的金屬膜層也是良好電容性能的的保障，避免電容器的容量出現差異以及卷繞后電容器芯子大小不一致。由于蒸鍍的金屬膜層相當薄，而且，在金屬膜層上設有凹槽，在熱變形情況下可以輕微變形進行調整，很好解決現有技術中難以控制熱變形的技術問題，能在蒸鍍過程中保持薄膜介質層的良好平整性。
[0006]優選的，所述聚對苯二甲酸乙二醇酯介質層的上下表面均蒸鍍有鋁層。形成A-B-A的雙面金屬化電工膜結構，熱變形能得到很好的控制，留邊精度高。
[0007]優選的，所述凹槽由銷層表面延伸至聚對苯二甲酸乙二醇醋介質層表面。在熱變形情況下可以輕微變形進行調整，能在蒸鍍過程中保持薄膜介質層的良好平整性。
[0008]優選的，所述鋁層的厚度為3 μm。
[0009]優選的，所述聚對苯二甲酸乙二醇酯介質層的厚度為4.8 μπι。
[0010]與現有技術相比，本實用新型的優點是:本實用新型的電容器雙面金屬化電工膜采用高真空金屬沉積技術，在高真空條件下，將被沉積金屬材料加熱到融化并蒸發成氣態，蒸氣態原子或分子以冷凝方式沉積在基膜表面，形成金屬膜層。這樣，得到的金屬膜層可以相當薄，并且非常均勾，同時，均勻的金屬膜層也是良好電容性能的的保障，避免電容器的容量出現差異以及卷繞后電容器芯子大小不一致。由于蒸鍍的金屬膜層相當薄，而且，在金屬膜層上設有凹槽，在熱變形情況下可以輕微變形進行調整，能在蒸鍍過程中保持薄膜介質層的良好平整性，有效解決現有技術中難以控制熱變形的技術問題。
【附圖說明】
[0011]下面結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型作進一步描述:
[0012]圖1為本實用新型一種電容器雙面金屬化電工膜實施例1的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0013]如圖1所示，為本實用新型的電容器雙面金屬化電工膜實施例1，由聚對苯二甲酸乙二醇酯介質層I和蒸鍍在所述聚對苯二甲酸乙二醇酯介質層I表面的鋁層2組成，所述聚對苯二甲酸乙二醇酯介質層I的上下表面均蒸鍍有鋁層2。所述鋁層2表面間隔設有互相平行的凹槽3，所述凹槽3由鋁層2表面延伸至聚對苯二甲酸乙二醇酯介質層I表面。所述聚對苯二甲酸乙二醇醋介質層I的厚度為4.8 μπι。所述銷層2的厚度為3 μπι。
[0014]本實施例的電容器雙面金屬化電工膜采用高真空金屬沉積技術，在高真空條件下，將被沉積金屬材料加熱到融化并蒸發成氣態，蒸氣態原子或分子以冷凝方式沉積在基膜表面，形成金屬膜層。這樣，得到的鋁層2可以相當薄，并且非常均勻，同時，均勻的鋁層2也是良好電容性能的的保障，避免電容器的容量出現差異以及卷繞后電容器芯子大小不一致。由于蒸鍍的鋁層2相當薄，而且，在鋁層2上設有凹槽3，在熱變形情況下可以輕微變形進行調整，能在蒸鍍過程中保持聚對苯二甲酸乙二醇酯介質層I的良好平整性，有效解決現有技術中難以控制熱變形的技術問題。
[0015]經過試驗表明，本實用新型的電容器雙面金屬化電工膜所制作的電容器容量大、穩定性能好、自愈能力強，成品率比現有技術中的金屬化蒸鍍膜增加30?50%。
[0016]以上所述僅為本實用新型的具體實施例，但本實用新型的技術特征并不局限于此，任何本領域的技術人員在本實用新型的領域內，所作的變化或修飾皆涵蓋在本實用新型的專利范圍之中。
【主權項】
1.一種電容器雙面金屬化電工膜，其特征在于:由聚對苯二甲酸乙二醇酯介質層(I)和蒸鍍在所述聚對苯二甲酸乙二醇酯介質層(I)表面的鋁層(2)組成，所述鋁層(2)表面間隔設有互相平行的凹槽(3)，所述鋁層(2)的厚度為2?3.5 μm。2.如權利要求1所述的一種電容器雙面金屬化電工膜，其特征在于:所述聚對苯二甲酸乙二醇酯介質層(I)的上下表面均蒸鍍有鋁層(2)。3.如權利要求2所述的一種電容器雙面金屬化電工膜，其特征在于:所述凹槽(3)由鋁層(2)表面延伸至聚對苯二甲酸乙二醇酯介質層(I)表面。4.如權利要求1所述的一種電容器雙面金屬化電工膜，其特征在于:所述鋁層(2)的厚度為3 μπι。5.如權利要求1至4任意一項所述的一種電容器雙面金屬化電工膜，其特征在于:所述聚對苯二甲酸乙二醇醋介質層(I)的厚度為4.8 μπι。
【專利摘要】本實用新型公開了一種電容器雙面金屬化電工膜，屬于電工膜技術領域。采用高真空金屬沉積技術，得到的金屬膜層可以相當薄，并且非常均勻，同時，均勻的金屬膜層也是良好電容性能的保障，避免電容器的容量出現差異以及卷繞后電容器芯子大小不一致。而且，由于蒸鍍的金屬膜層相當薄，能在蒸鍍過程中保持薄膜介質層的良好平整性，有效解決現有技術中難以控制熱變形的技術問題。本實用新型的電容器雙面金屬化電工膜由聚對苯二甲酸乙二醇酯介質層和蒸鍍在所述聚對苯二甲酸乙二醇酯介質層表面的鋁層組成，所述鋁層表面間隔設有互相平行的凹槽，所述鋁層的厚度為2～3.5μm。
【IPC分類】C23C14/20, H01G4/14, H01G4/005, C23C14/24
【公開號】CN204668156
【申請號】CN201520453112
【發明人】陳杰
【申請人】浙江七星電容器有限公司
【公開日】2015年9月23日
【申請日】2015年6月25日