半導體外延片圓柱銷式真空夾持裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種半導體領域，具體是半導體外延片圓柱銷式真空夾持裝置。
【背景技術】
[0002]激光全息光刻技術是一種基于相干光干涉效應的無掩模版光刻技術，在該技術中，使用多束激光在晶片表面重迭發生干涉效應從而產生各種由光亮區和暗區構成的干涉圖形。圖形以重復周期進行排列，圖形的最小線寬可以達到波長的幾分之一，像場尺寸僅與使用激光束尺寸有關，進而能夠加工大面積圖形。激光全息光刻技術適合用于II1- V族化合物光電子器件的制備中，采用全息光刻技術可直接形成分布反饋(DFB)半導體激光器的均勻光柵結構。制備2英寸及更大尺寸的半導體外延片時，在全息干涉光柵制作光學系統中需要合適的外延片夾持裝置，要求該裝置對用于曝光的激光束不產生任何遮擋，同時也要求便于對外延片進行夾取操作，當外延片吸附后需保持穩定，且整個吸附過程中要求壓力分布均勻，避免對外延片造成任何物理損傷，因而制備一種滿足上述要求的半導體外延片夾持裝置成為本領域技術人員急待解決的技術問題。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型的目的在于提供半導體外延片圓柱銷式真空夾持裝置，以解決上述【背景技術】中提出的問題。
[0004]為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案:
[0005]半導體外延片圓柱銷式真空夾持裝置，包括吸附板、吸盤、圓柱銷、真空連接嘴、單向閥、真空罐和真空泵，所述的吸附板的一側設置有向內凹陷的吸盤，吸盤分為外層吸盤、內層吸盤，所述的外層吸盤、內層吸盤表面均勻分布若干圓柱銷，所述的外層吸盤的下方設置有定位鑲片，定位鑲片通過定位鑲片螺孔設置于吸附板上，所述的吸附板上具有與吸盤底部連通的夾取區，所述的外層吸盤、內層吸盤分別設置圓形通氣孔，所述的吸附板的另一側設置有真空連接嘴，真空連接嘴與圓形通氣孔連通，真空連接嘴上設有與外層吸盤、內層吸盤對應通氣孔的開關，真空連接嘴另一端通過軟管與真空罐上的單向閥連接，真空罐上設有真空計，真空罐與真空泵連接。
[0006]作為本實用新型進一步的方案:所述的圓柱銷為Al2O3陶瓷圓柱銷，每個小圓柱銷直徑為0.2mm，高度同樣為0.2mm，以多點接觸的方式支撐硅片。
[0007]作為本實用新型再進一步的方案:所述的夾取區的寬度為10_20mm，與吸盤的底部相連。
[0008]作為本實用新型再進一步的方案:所述的定位鑲片長度為15_，寬度為5_。
[0009]作為本實用新型再進一步的方案:所述的圓形通氣孔的直徑為5mm，深度為0.5_lmm0
[0010]與現有技術相比，本實用新型的有益效果是:本實用新型采取內外層吸盤的設定，可用于加工不同尺寸的硅片；圓柱銷式的吸盤吸附面積大，吸附能力強，圓柱銷均勻分布，定位夾持精度高，減少了灰塵粘附，降低灰塵的影響；采用氣壓調節閥控制吸附力大小，可以方便實現半導體外延片的置入和取出，操作簡便快捷；整個夾持裝置全部固化，結構簡單，操方便作，用定位鑲片定位半導體外延片相應標識處，保證半導體外延片定位為全息干涉光柵實驗所需的定位位置。
【附圖說明】
[0011]圖1為半導體外延片圓柱銷式真空夾持裝置的結構示意圖。
[0012]圖2為半導體外延片圓柱銷式真空夾持裝置中側視結構示意圖。
[0013]圖3為半導體外延片圓柱銷式真空夾持裝置工作結構示意圖。
[0014]圖中:1、吸附板，2、外層吸盤，3、內層吸盤，4、圓柱銷，5、定位鑲片，6、定位鑲片螺孔，7、夾取區，8、固定板，9、真空連接嘴，10、軟管，11、單向閥，12、真空罐，13、真空泵，14、真空計。
【具體實施方式】
[0015]下面結合【具體實施方式】對本專利的技術方案作進一步詳細地說明。
[0016]請參閱圖1-3，半導體外延片圓柱銷式真空夾持裝置，包括吸附板1、吸盤、圓柱銷4、真空連接嘴9、單向閥11、真空罐12和真空泵13，所述的吸附板I的一側設置有向內凹陷的吸盤，吸盤分為外層吸盤2、內層吸盤3，所述的吸盤為半導體外延片的吸附區，用于設置半導體外延片，所述的外層吸盤2、內層吸盤3表面均勻分布若干圓柱銷4，所述的圓柱銷4為Al2O3陶瓷圓柱銷，每個小圓柱銷直徑為0.2mm，高度同樣為0.2mm，以多點接觸的方式支撐硅片，所述的外層吸盤2的下方設置有定位鑲片5，該定位鑲片通過定位鑲片螺孔6設置于吸附板I上，所述的吸附板I上具有與吸盤底部連通的夾取區7，使吸附板I在一定位置具有與吸盤同等深度的夾取位置，方便于通過鑷子將半導體外延片從吸附凹槽2中取出，所述的夾取區7的寬度為10-20_，優選為15_，與吸盤的底部相連，固定后方便對半導體外延片的夾取進行操作，所述的定位鑲片5長度為15_，寬度為5_，精確定位半導體外延片的標識處，所述的外層吸盤2、內層吸盤3分別設置若干圓形通氣孔，所述的圓形通氣孔的直徑可以為5_，深度為0.5-1_，優選為0.6_，所述的吸附板I的另一側設置有真空連接嘴9，真空連接嘴9與圓形通氣孔連通，真空連接嘴9上設有與外層吸盤2、內層吸盤3對應通氣孔的開關，真空連接嘴9另一端通過軟管10與真空罐12上的單向閥11連接，真空罐12上設有真空計14，真空罐12與真空泵13連接。
[0017]本實用新型的工作原理是:本實用新型工作時，打開真空泵13，將真空罐12抽成真空，真空計14上的指針指向0.1Pa，開啟單向閥11，產生吸力，當裝夾小直徑硅片時，只將內層吸盤3抽成真空，當裝夾大直徑硅片時，將外層吸盤2、內層吸盤3都抽成真空。關閉單向閥11，使硅片與大氣連通，可順利更換硅片。
[0018]上面對本專利的較佳實施方式作了詳細說明，但是本專利并不限于上述實施方式，在本領域的普通技術人員所具備的知識范圍內，還可以在不脫離本專利宗旨的前提下做出各種變化。
【主權項】
1.半導體外延片圓柱銷式真空夾持裝置，包括吸附板(I)、吸盤、圓柱銷(4)、真空連接嘴(9)、單向閥(11)、真空罐(12)和真空泵(13)，其特征在于，所述的吸附板⑴的一側設置有向內凹陷的吸盤，吸盤分為外層吸盤(2)、內層吸盤(3)，所述的外層吸盤(2)、內層吸盤(3)表面均勻分布若干圓柱銷(4)，所述的外層吸盤(2)的下方設置有定位鑲片(5)，定位鑲片通過定位鑲片螺孔(6)設置于吸附板(I)上，所述的吸附板(I)上具有與吸盤底部連通的夾取區(7)，所述的外層吸盤(2)、內層吸盤(3)分別設置圓形通氣孔，所述的吸附板(I)的另一側設置有真空連接嘴(9)，真空連接嘴(9)與圓形通氣孔連通，真空連接嘴(9)上設有與外層吸盤(2)、內層吸盤(3)對應通氣孔的開關，真空連接嘴(9)另一端通過軟管(10)與真空罐(12)上的單向閥(11)連接，真空罐(12)上設有真空計(14)，真空罐(12)與真空泵(13)連接。2.根據權利要求1所述的半導體外延片圓柱銷式真空夾持裝置，其特征在于，所述的圓柱銷⑷為Al2O3陶瓷圓柱銷，每個小圓柱銷直徑為0.2mm，高度同樣為0.2mm，以多點接觸的方式支撐硅片。3.根據權利要求1所述的半導體外延片圓柱銷式真空夾持裝置，所述的夾取區(7)的寬度為10-20mm，與吸盤的底部相連。4.根據權利要求1所述的半導體外延片圓柱銷式真空夾持裝置，所述的定位鑲片(5)長度為15mm，寬度為5mm。5.根據權利要求1所述的半導體外延片圓柱銷式真空夾持裝置，所述的圓形通氣孔的直徑為5mm，深度為0.5_lmm0
【專利摘要】本實用新型公開了半導體外延片圓柱銷式真空夾持裝置，包括吸附板、吸盤、圓柱銷、真空連接嘴、單向閥、真空罐和真空泵，所述的吸附板的一側設置有向內凹陷的吸盤，吸盤分為外層吸盤、內層吸盤，所述的外層吸盤、內層吸盤表面均勻分布若干圓柱銷，所述的吸附板的另一側設置有真空連接嘴，真空連接嘴與圓形通氣孔連通，真空連接嘴另一端通過軟管與真空罐上的單向閥連接，真空罐上設有真空計，真空罐與真空泵連接。與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：本實用新型可用于加工不同尺寸的硅片；吸盤吸附面積大，吸附能力強，定位夾持精度高，減少了灰塵粘附，降低灰塵的影響；方便半導體外延片的置入和取出，操作簡便快捷。
【IPC分類】H01L21/683
【公開號】CN204632739
【申請號】CN201520276472
【發明人】何景瓷
【申請人】何景瓷
【公開日】2015年9月9日
【申請日】2015年5月4日