刻蝕機內部的水冷卡盤結構的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及半導體工藝處理設備-LED ICP刻蝕機，尤其涉及一種LED ICP刻蝕機內部的水冷卡盤結構。
【背景技術】
[0002]LED刻蝕機集成了高密度等離子源、快速響應的全自動匹配射頻系統、精密的腔室溫度控制系統、穩定的高精度壓力控制系統、先進的中央噴嘴進氣系統和獨特的腔室表面處理等多項先進技術，用IC刻蝕工藝更為精密的設計要求來實現LED領域更高性能的刻蝕工藝，可以適應不同客戶的不同規格圖形片要求，獲得優異的刻蝕工藝結果。水冷卡盤是腔室溫度控制的核心部件。氦氣從水冷卡盤上層的氣孔進入托盤，實現藍寶石片的冷卻；同時從冷卻卡盤下層水道內通過的水流帶走刻蝕腔內的熱量，實現溫度控制。水冷卡盤的上層氦氣通道的結構、下層水道分布直接影響刻蝕過程中藍寶石片及刻蝕腔內工作溫度控制的質量。
【發明內容】
[0003]本實用新型的目的在于提供一種LED刻蝕機內部的水冷卡盤結構。本實用新型通過以下技術方案實現的:
[0004]刻蝕機內部的水冷卡盤結構,包括氦氣分布板、水道分布板、水道密封板,其特征在于:氦氣分布板、水道分布板及水道密封板表面上都均布設置有相對應的避讓孔通孔，用于托盤裝卸機構通過；所述的水道分布板、水道密封板表面上還設置有相對應的氦氣引導孔；所述的氦氣分布板、水道分布板及水道密封板依次在真空釬焊的作用下結合為一體，組成兩組不同的輸入、輸出氣、水通道。
[0005]所述的氦氣分布板表面上設置有三個分布圓，每個分布圓圓周上均布設置有氦氣孔，表面上最外圈還設置有密封溝槽；所述的三個分布圓之間的徑向間距相等；所述的氦氣孔與背面設置的氦氣引導槽相通。
[0006]所述的水道分布板表面上設置的兩個氦氣引導孔用于引導氦氣進入氦氣分布板上的氦氣引導槽，外圈臺階上均布設計有12個U形缺口沉孔，用于把水冷卡盤安裝在刻蝕腔上；背面設計有覆蓋大區域的水道結構。
[0007]所述的水道密封板外形尺寸與水道分布板相同，表面上外圈均布的12個通孔與水道分布板上U形缺口沉孔相對應，兩個氦氣引導孔與水道分布板上的氦氣引導孔相對應；兩個水流引導孔與水道分布板上的水道結構兩端點相對應，用于冷卻水的進入和流出。
[0008]所述的氦氣分布板、水道分布板及水道密封板材料為6061-T6鋁合金。
[0009]所述的氦氣分布板表面上最外圈設置的密封溝槽，用于安裝密封圈，阻止氦氣向刻蝕腔內泄露。
[0010]本實用新型將氦氣分布板、水道分布板和水道密封板在真空釬焊的作用下結合為一體。通過三層板不同的內部結構設計，設計出一條循環水道、一條循環氣道結構，互不干涉，實現兩種冷卻、溫控功能。確保刻蝕過程中藍寶石片及刻蝕腔內工作溫度控制的質量，大大延長了設備的使用壽命。
【附圖說明】
[0011]圖1是本實用新型氦氣分布板結構示意圖中的主視圖；
[0012]圖2是圖1A-A方向剖視圖；
[0013]圖3是本實用新型氦氣分布板結構示意圖中的后視圖；
[0014]圖4是本實用新型水道分布板結構示意圖中的主視圖；
[0015]圖5是圖4A-A方向剖視圖；
[0016]圖6是本實用新型水道分布板結構示意圖中的后視圖；
[0017]圖7是本實用新型水道密封板結構示意圖中的主視圖；
[0018]圖8是圖7A-A方向剖視圖；
[0019]圖9是本實用新型水道密封板結構示意圖中的后視圖；
[0020]圖10是本實用新型水冷卡盤的總裝結構示意圖中的主視圖；
[0021]圖11是圖10A-A方向剖視圖；
[0022]圖12是本實用新型水冷卡盤的總裝結構示意圖中的后視圖；
[0023]1.氦氣孔，2.避讓孔，3.密封溝槽，4.氦氣引導槽，5.氦氣引導孔,6.U形缺口沉孔，7.水道結構，8.水流引道孔，9.定位孔，10.通孔。
【具體實施方式】
[0024]下面結合附圖對本實用新型作進一步說明；
[0025]刻蝕機內部的水冷卡盤結構,包括氦氣分布板、水道分布板、水道密封板,其特征在于:氦氣分布板、水道分布板及水道密封板表面上都均布設置有相對應的避讓孔2通孔，用于托盤裝卸機構通過；所述的水道分布板、水道密封板表面上還設置有相對應的氦氣引導孔5 ;所述的氦氣分布板、水道分布板及水道密封板依次在真空釬焊的作用下結合為一體，組成兩組不同的輸入、輸出氣、水通道。
[0026]所述的氦氣分布板表面上設置有三個分布圓，每個分布圓圓周上均布設置有氦氣孔1，表面上最外圈還設置有密封溝槽3 ;所述的三個分布圓之間的徑向間距相等；所述的氦氣孔I與背面設置的氦氣引導槽4相通。
[0027]所述的水道分布板表面上設置的兩個氦氣引導孔5用于引導氦氣進入氦氣分布板上的氦氣引導槽4，外圈臺階上均布設計有12個U形缺口沉孔6，用于把水冷卡盤安裝在刻蝕腔上；背面設計有覆蓋大區域的水道結構7。
[0028]所述的水道密封板外形尺寸與水道分布板相同，表面上外圈均布的12個通孔與水道分布板上U形缺口沉孔6相對應，兩個氦氣引導孔5與水道分布板上的氦氣引導孔5相對應；兩個水流引導孔8與水道分布板上的水道結構7兩端點相對應，用于冷卻水的進入和流出。
[0029]所述的氦氣分布板、水道分布板及水道密封板材料為6061-T6鋁合金。
[0030]所述的氦氣分布板表面上最外圈設置的密封溝槽3，用于安裝密封圈，阻止氦氣向刻蝕腔內泄露。
[0031]具體實施時，本實用新型冷卻水從水道密封板的背面水流引道孔其中之一的進水孔輸入水道分布板的水道結構中，沿水道結構循環后再從水道密封板背面水流引道孔出水口輸出，在生產過程中帶走刻蝕腔內的熱量，通過控制水流的大小實現刻蝕腔內溫度的控制；氦氣從水道密封板的背面氦氣引導孔其中之一的進氣孔經水道分布板上的氦氣引導孔，進入氦氣分布板中的氦氣引導槽與氦氣孔相通，輸入的氦氣與托盤上的藍寶石片接觸，由于氦氣分布板表面上最外圈還設置有密封溝槽，用于安裝密封圈，阻止氦氣向刻蝕腔內泄露。氦氣帶走刻蝕過程中產生的熱量，經水道分布板、水道密封板上的另一個氦氣引導孔輸出，實現藍寶石片的溫度控制；托盤的裝卸機構從水冷卡盤內通過，升起和降落操作實現托盤的裝卸。
【主權項】
1.刻蝕機內部的水冷卡盤結構，包括氦氣分布板、水道分布板、水道密封板，其特征在于:氦氣分布板、水道分布板及水道密封板表面上都均布設置有相對應的避讓孔(2)通孔，用于托盤裝卸機構通過；所述的水道分布板、水道密封板表面上還設置有相對應的氦氣引導孔(5);所述的氦氣分布板、水道分布板及水道密封板依次在真空釬焊的作用下結合為一體，組成兩組不同的輸入、輸出氣、水通道。
2.根據權利要求1所述的刻蝕機內部的水冷卡盤結構，其特征在于:所述的氦氣分布板表面上設置有三個分布圓，每個分布圓圓周上均布設置有氦氣孔(1)，表面上最外圈還設置有密封溝槽(3);所述的三個分布圓之間的徑向間距相等；所述的氦氣孔(I)與背面設置的氦氣引導槽(4)相通。
3.根據權利要求1或2所述的刻蝕機內部的水冷卡盤結構，其特征在于:所述的水道分布板表面上設置的兩個氦氣引導孔(5)用于引導氦氣進入氦氣分布板上的氦氣引導槽(4)，外圈臺階上均布設計有12個U形缺口沉孔(6)，用于把水冷卡盤安裝在刻蝕腔上；背面設計有覆蓋大區域的水道結構(7)。
4.根據權利要求1所述的刻蝕機內部的水冷卡盤結構，其特征在于:所述的水道密封板外形尺寸與水道分布板相同，表面上外圈均布的12個通孔與水道分布板上U形缺口沉孔(6)相對應，兩個氦氣引導孔(5)與水道分布板上的氦氣引導孔(5)相對應；兩個水流引導孔(8)與水道分布板上的水道結構(7)兩端點相對應，用于冷卻水的進入和流出。
5.根據權利要求1或2所述的刻蝕機內部的水冷卡盤結構，其特征在于:所述的氦氣分布板表面上最外圈設置的密封溝槽(3)，用于安裝密封圈，阻止氦氣向刻蝕腔內泄露。
6.根據權利要求1所述的刻蝕機內部的水冷卡盤結構，其特征在于:所述的氦氣分布板、水道分布板及水道密封板材料為6061-T6招合金。
【專利摘要】刻蝕機內部的水冷卡盤結構，包括氦氣分布板、水道分布板、水道密封板，在氦氣分布板、水道分布板及水道密封板表面上都均布設置有相對應的避讓孔通孔，用于托盤裝卸機構通過；所述的水道分布板、水道密封板表面上還設置有相對應的氦氣引導孔；所述的氦氣分布板、水道分布板及水道密封板依次在真空釬焊的作用下結合為一體，組成兩組不同的輸入、輸出氣、水通道。本實用新型通過三層板不同的內部結構設計，設計出一條循環水道、一條循環氣道結構，互不干涉，實現兩種冷卻、溫控功能。確保刻蝕過程中藍寶石片及刻蝕腔內工作溫度控制的質量，大大延長了設備的使用壽命。
【IPC分類】H01L21-687, H01L21-67
【公開號】CN204464243
【申請號】CN201420699473
【發明人】游利
【申請人】靖江先鋒半導體科技有限公司
【公開日】2015年7月8日
【申請日】2014年11月20日